废气处理装置和废气处理方法与流程

    专利查询2023-05-10  112



    1.本发明涉及电镀领域,特别涉及一废气处理装置和废气处理方法。


    背景技术:

    2.电镀是日常生活和工业生产中常见的工艺。参照图1,常见的电镀设备100p包括一电镀槽10p、一储蓄槽20p以及一电源30p,其中所述电镀槽10p具有一电镀空间101p,其中所述储蓄槽20p具有一储液空间201p,其中所述电镀槽10p的所述电镀空间101p被连通于所述储液槽的所述储液空间201p,所述储液空间201p内盛装一电镀液,所述储液空间201p内的电镀液能够被泵入所述电镀槽10p的所述电镀空间101p内。通常,所述电镀槽10p为敞口状态,一方面,将所述储蓄槽20p的所述储液空间201p内的所述电镀液泵入所述电镀槽10p的所述电镀空间101p内,另一方面,方便放入和取出所述工件和所述镀层金属。而且,不少所述储液槽也被实施为敞口结构,方便灌入电镀液。电镀生产过程中大量使用强酸,强碱,盐类以及有机溶剂等化学药品,以电镀铜为例,硫酸铜溶液作为电镀液中主要的金属盐溶液,提供阳极反应时的cu
    2+
    ,电镀液中的硫酸溶液用于增加电镀液的导电性,电镀液中还有一些化学添加剂以及阳极活化剂等,用于改善镀层的品质。当被电连接于所述电源30p的阳极的所述镀层金属和被电连接于所述电源30p的所述工件被浸入所述电镀液,在直流电的作用下,所述电镀溶液中的阴、阳离子发生有规则的移动,阴极的所述工件的表面逐渐沉积一层金属铜,阳极的所述镀层金属逐渐溶解,补充所述电镀液中的cu
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    。这样,被连接于阳极的所述镀层金属被逐步地转移至所述工件的表面。
    3.然而,所述电镀液为具有挥发性的液体,在作业过程中,所述电镀槽10p的所述电镀空间101p和所述储蓄槽20p的所述储液空间201p内的所述电镀液容易挥发出大量有毒有害的气体,不仅容易造成环境污染,而且不利于作业人员的身心健康,所述电镀液挥发的有毒有害的气体可能造成作业人员中毒、灼伤,也容易引发燃烧爆炸等事故,是电镀工艺中存在的重大安全隐患。此外,所述电镀液挥发出的不少气体呈酸性,对工作环境中的仪器设备也会造成腐蚀,影响仪器设备的正常使用,缩短了仪器设备的使用寿命,也提高了维护成本。尤其是被盛装于所述电镀槽10p的所述电镀空间101p内的所述电镀液在电镀过程中会被加热,温度较高,加速了所述电镀液挥发的速度,对周围环境、作业人员以及仪表设备等产生了恶劣的影响。


    技术实现要素:

    4.本发明的一个目的在于提供一废气处理装置和废气处理方法,其中所述废气处理装置对电镀过程中产生的气体进行处理,降低了电镀过程中发生危险事故的概率,减少了对周围环境的污染,而且减小了对工作环境中的设备的腐蚀。
    5.本发明的另一个目的在于提供一废气处理装置和废气处理方法,其中所述废气处理装置对一电镀装置的一工作槽内的所述电镀液进行处理,避免所述电镀装置的所述工作槽内的所述电镀液挥发至外界。
    6.本发明的另一个目的在于提供一废气处理装置和废气处理方法,其中所述废气处理装置对所述储液装置的一储液槽内挥发的所述电镀液进行处理,避免所述储液装置的所述储液槽内的所述电镀液挥发至外界。
    7.本发明的另一个目的在于提供一废气处理装置和废气处理方法,其中所述废气处理装置通过吸收所述电镀装置的所述工作槽和所述储液装置的所述储液槽内的所述电镀液挥发的废气的方式处理所述电镀液挥发的有毒有害气体。
    8.本发明的另一个目的在于提供一废气处理装置和废气处理方法,其中所述废气处理装置将所述电镀装置的所述工作槽和所述储液装置的所述储液槽内的所述电镀液挥发的废气进行集中处理。
    9.本发明的另一个目的在于提供一废气处理装置和废气处理方法,其中所述废气处理装置将所述工作槽封闭于一封闭空间内,避免所述电镀装置的所述工作槽内的所述电镀液挥发出的气体蔓延至外界。
    10.依本发明的一个方面,本发明提供一废气处理装置,适用于一电镀设备,其中所述电镀设备包括一电镀装置和一储液装置,其中所述电镀装置具有一工作槽,其中所述储液装置具有一储液槽,其中所述电镀装置的工作槽被连通于所述储液装置的所述储液槽,所述废气处理装置包括:
    11.一废气处理单元,其中所述废气处理单元具有一废气处理空间;
    12.一工作槽集气罩,其中所述工作槽集气罩具有一集气空间和被连通于所述集气空间的一引导开口,其中所述工作槽集气罩以所述集气空间被连通于所述电镀装置的所述工作槽的方式被保持于所述电镀装置的所述工作槽的上方,所述工作槽集气罩的所述引导开口被连通于所述废气处理单元的所述废气处理空间,所述工作槽集气罩能够封闭所述电镀装置的所述工作槽;以及
    13.一储液槽集气罩,其中所述储液槽集气罩具有一气流空间和被连通于所述气流空间的一气流开口,其中所述储液槽集气罩以所述储液槽集气罩的所述气流空间被连通于所述储液装置的所述储液槽的方式被设置于所述储液装置的上方,所述储液槽集气罩的所述气流开口被连通于所述废气处理单元的所述废气处理空间,所述储液槽集气罩能够封闭所述储液装置的所述储液槽。
    14.根据本发明的一个实施例,所述工作槽集气罩的内壁具有倾斜表面。
    15.根据本发明的一个实施例,所述工作槽集气罩的横截面积自下而上逐渐减小。
    16.根据本发明的一个实施例,所述工作槽集气罩的内壁为弧形曲面。
    17.根据本发明的一个实施例,所述储液槽集气罩的内壁具有倾斜表面。
    18.根据本发明的一个实施例,所述储液槽集气罩的横截面积自下而上逐渐减小。
    19.根据本发明的一个实施例,所述储液槽集气罩的内壁为弧形曲面。
    20.根据本发明的一个实施例,所述工作槽集气罩进一步包括一阳极保持开口和一阴极保持开口,其中所述阳极保持开口和所述阴极保持开口分别间隔地形成于所述工作槽集气罩,其中所述阳极保持开口和所述阴极保持开口被连通于所述集气空间。
    21.根据本发明的一个实施例,所述废气处理装置进一步包括多个封闭帘,其中所述封闭帘被设置于所述电镀装置的四周,多个所述封闭帘相互连接,并在多个所述封闭帘之间形成一封闭空间,其中所述电镀装置被设置于所述封闭空间内。
    22.根据本发明的一个实施例,所述废气处理单元进一步包括一废气处理主体和至少一负压发生主体,其中所述负压发生主体被设置于所述废气处理主体,其中所述废气处理空间形成于所述废气处理主体,所述负压发生主体被连通于所述工作槽集气罩的所述引导开口和所述废气处理空间。
    23.根据本发明的一个实施例,所述废气处理单元进一步包括一废气处理主体和至少一负压发生主体,其中所述负压发生主体被设置于所述废气处理主体,其中所述废气处理空间形成于所述废气处理主体,所述负压发生主体被连通于所述储液槽集气罩的所述气流开口和所述废气处理空间。
    24.根据本发明的一个实施例,所述废气处理单元进一步包括一废气处理主体和至少一负压发生主体,其中所述负压发生主体被设置于所述废气处理主体,其中所述废气处理空间形成于所述废气处理主体,所述负压发生主体被连通于所述工作槽集气罩的所述引导开口和所述废气处理空间,且所述负压发生主体被连通于所述储液槽集气罩的所述气流开口和所述废气处理空间。
    25.依本发明的另一个方面,本发明提供一废气处理方法,所述废气处理方法包括如下步骤:
    26.(a)一所述工作槽集气罩引导一电镀装置的一工作槽内的一电镀液挥发的废气进入一废气处理单元的一废气处理空间;
    27.(b)藉由一储液槽集气罩引导一储液装置的一储液槽内的所述电镀液挥发的废气进入所述废气处理单元的所述废气处理空间;以及
    28.(c)处理集中于所述废气处理空间的废气。
    29.根据本发明的一个实施例,在所述步骤(a)和所述步骤(b)中,形成一负压环境于所述废气处理空间,所述电镀液挥发的废气在负压的作用下被抽入所述废气处理空间。
    30.根据本发明的一个实施例,在所述步骤(a)中,所述工作槽内的所述电镀液挥发的废气以沿着所述工作槽集气罩的倾斜表面移动的方式自所述工作槽集气罩的一集气空间进入所述废气处理单元的所述废气处理空间。
    31.根据本发明的一个实施例,所述步骤(b)中,所述储液槽内的所述电镀液挥发的废气以沿着所述储液槽集气罩的倾斜表面一种的方式自所述储液槽集气罩的所述气流空间进入所述废气处理单元的所述废气处理空间。
    32.根据本发明的一个实施例,所述废气处理方法进一步包括步骤(d)藉由多个所述封闭帘限制所述电镀装置的所述电镀槽内盛装的所述电镀液挥发的废气的运动。
    33.根据本发明的一个实施例,在所述步骤(c)中,吸附进入所述废气处理空间内的废气。
    34.根据本发明的一个实施例,在所述步骤(c)中,溶解进入所述废气处理空间内的废气于液体中,并通过化学净化或是加热蒸发的方式消耗废气。
    附图说明
    35.图1是现有的一电镀设备的结构图示意图。
    36.图2是根据本发明的一较佳实施例的一废气处理装置的结构图示意图。
    37.图3是根据本发明的上述较佳实施例的所述废气处理装置的应用图示意图。
    具体实施方式
    38.以下描述用于揭露本发明以使本领域技术人员能够实现本发明。以下描述中的优选实施例只作为举例,本领域技术人员可以想到其他显而易见的变型。在以下描述中界定的本发明的基本原理可以应用于其他实施方案、变形方案、改进方案、等同方案以及没有背离本发明的精神和范围的其他技术方案。
    39.本领域技术人员应理解的是,在本发明的揭露中,术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系是基于附图所示的方位或位置关系,其仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此上述术语不能理解为对本发明的限制。
    40.可以理解的是,术语“一”应理解为“至少一”或“一个或多个”,即在一个实施例中,一个元件的数量可以为一个,而在另外的实施例中,该元件的数量可以为多个,术语“一”不能理解为对数量的限制。
    41.参照说明书附图2和图3,根据本发明的一较佳实施例的一废气处理装置100将在接下来的描述中被阐述,其中所述废气处理装置100适用于对容纳于一电镀设备200内的一电镀液挥发的废气进行处理,有利于避免所述电镀液挥发的有毒有害气体造成作业人员中毒或是污染周围环境,同时减少了酸性气体对工作环境中的仪器设备造成腐蚀,保障仪器设备的正常使用,降低了引发燃烧爆炸等事故的概率。
    42.具体来说,所述电镀设备200包括一电镀装置210、一储液装置220以及一电镀液输送装置230,其中所述电镀装置210具有一敞口的工作槽211,其中所述储液槽220具有一敞口的储液槽221和被连通于所述储液槽221的一液体出口222和一液体入口223,其中所述电镀液输送装置230被可连通地连接于所述储液槽220的所述储液槽221和所述电镀装置210的所述液体出口222,其中所述电镀液输送装置230在将存储于所述储液装置220的所述储液槽221内的所述电镀液自所述液体出口222流出,并被泵入所述电镀装置210的所述工作槽211。所述电镀装置210的所述工作槽211内的所述电镀液能够自所述液体入口223流入所述储液装置220的所述储液槽221。
    43.当被电连接于一电源的阳极的一镀层金属和被电连接于所述电源的阴极的一工件被置于所述电镀装置210的所述工作槽211内的所述电镀液后,在直流电流的作用下,所述电镀液中的阴、阳离子发生有规则的移动,所述工件的表面逐渐地形成一镀层,而所述镀层金属在所述电镀液中被不断地溶解,以补充所述电镀液中消耗的离子,进而被连接于所述电源的阳极的所述镀层金属被逐步地转移至所述工件的表面。优选地,所述电镀液输送装置230被实施为一过滤机,所述电镀液输送装置230在输送所述电镀液的过程中对所述电镀液进行过滤处理,以提高所述电镀液的纯净度,进而保障电流效率和电镀效率。
    44.值得一提的是,所述工件、所述镀层以及所述镀层金属的具体实施方式不受限制,所述工件可以被实施为铁、铜、银等金属和其金属制品,所述镀层金属可以被实施为铜、银、金、镍、铬等金属,对应形成铜镀层、银镀层、金镀层、镍镀层以及铬镀层等。
    45.在本发明所述的废气处理装置100包括一废气处理单元110,其中所述废气处理单元110具有一废气处理空间1101,其中所述废气处理单元110被连通于所述电镀装置210的所述工作槽211和所述储液装置220的所述储液槽221。所述电镀装置210的所述工作槽211
    和所述储液装置220的所述储液槽221内盛装的所述电镀液挥发的废气能够进入所述废气处理单元110的所述废气处理空间1101。所述废气处理单元110对进入所述废气处理空间1101的挥发气体,避免所述电镀装置210的所述工作槽211和所述储液装置220的所述储液槽221内的所述电镀液产生的挥发气体被直接排放至外界环境中。
    46.所述废气处理装置100进一步包括一工作槽集气罩120,其中所述工作槽集气罩120具有一集气空间121和被连通于所述集气空间121的一引导开口122。所述工作槽集气罩120以所述集气空间121对应于所述电镀装置210的所述工作槽211的方式被设置于所述电镀装置210。所述工作槽集气罩120覆盖所述电镀装置210的所述工作槽211,所述工作槽集气罩120引导所述电镀装置210的所述工作槽211内的所述电镀液挥发的废气进入所述废气处理单元110的所述废气处理空间1101。
    47.进一步地,被设置于所述电镀装置210的所述工作槽211的上方的所述工作槽集气罩120能够封闭所述电镀装置210的所述工作槽211,避免或是减少被盛装于所述工作槽211内的所述电镀液挥发至外界环境中。优选地,所述工作槽集气罩120可以密封所述电镀装置210的所述工作槽211。
    48.所述电镀设备200进一步包括一支撑架240,其中所述电镀装置210被设置于所述支撑架240,所述工作槽集气罩120以被设置于所述支撑架240的方式被保持于所述电镀装置210的所述工作槽211的上方。具体地,所述支撑架240的支撑面平整,所述工作槽集气罩120以被贴合于所述支撑架240的支撑面的方式罩于所述电镀装置的所述工作槽211的上方,所述电镀装置211位于所述工作槽集气罩120的所述集气空间121内。所述工作槽集气罩120的下表面和所述支撑架240的支撑面贴合,以使得所述电镀装置210的所述工作槽211能够被封闭,进而使得所述工作槽211内的所述电镀液挥发的废气仅能通过所述工作槽集气罩120引导流动。
    49.在本发明的一些实施例中,所述工作槽集气罩120以下表面直接贴合于所述电镀装置210的所述工作槽211的方式保持于所述电镀装置210的所述工作槽211的上方。可选地,所述工作槽集气罩120以下表面直接贴合于地面的方式保持于所述电镀装置210的所述工作槽211的上方。本领域技术人员应该理解的是,所述工作槽集气罩120的具体设置方式仅仅作为示例,不能成为对本发明所述废气处理装置100的内容和范围的限制。
    50.参照图2和图3,优选地,所述工作槽集气罩120的内壁具有倾斜表面,以利于所述工作槽211内盛装的所述电镀液挥发的废气被集中地引导至所述废气处理单元110的所述废气处理空间1101。
    51.在本发明的一个具体的实施例中,所述引导开口122形成于所述工作槽集气罩120的中部,自所述工作槽211至所述工作槽集气罩120的所述引导开口122的方向,所述工作槽集气罩120的横截面积逐渐减小,以利于引导所述电镀液挥发的废气自所述工作槽集气罩120进入所述废气处理单元110的所述废气处理空间1101。在本发明的一个具体的实施例中,界定所述集气空间121的所述工作槽集气罩120的内壁呈弧形曲面。
    52.优选地,所述工作槽集气罩120进一步具有一阳极保持开口123和一阴极保持开口124,其中所述阳极保持开口123和所述阴极保持开口124间隔地形成于所述工作槽集气罩120,其中所述阳极保持开口123和所述阴极保持开口124被连通于所述集气空间121。所述工作槽集气罩120的所述阳极保持开口123允许被供电连接所述电源的阳极和所述镀层金
    属的连接线通过,所述阴极保持开口124允许被电连接于所述电源的阴极和所述工件的连接线通过。
    53.进一步地,当被电连接于所述电源的阳极和所述镀层金属的连接线被设置于所述阳极保持开口123后,连接线封闭所述阳极保持开口123,且当被电连接于所述电源的阴极和所述工件的连接线被设置于所述阴极保持开口124后,连接线封闭所述阴极保持开口124。通过这样的方式,所述电源可以远距离地保持于所述电镀装置210和所述工作槽集气罩120的外部,有利于避免被盛装于所述电镀装置210的所述工作槽内的所述电镀液挥发的废气腐蚀所述电源,而造成所述电源无法正常工作,或是出现损坏和漏电的现象,降低了电镀工艺中的安全隐患。
    54.在本发明的一些实施例中,所述工作槽集气罩120也可以不开设所述阳极保持开口123和所述阴极保持开口124,所述电源可以被容纳于所述工作槽集气罩120的所述集气空间120内,所述电源靠近所述电镀装置210,方便优化厂内的线路分布。本领域技术人员应该理解的是,所述工作槽集气罩120的具体实施方式仅仅作为示例,不能成为对本发明所述的废气处理装置100的内容和范围的限制。
    55.所述废气处理装置100进一步包括多个封闭帘130,其中所述封闭帘130被设置于所述电镀装置210的四周,多个所述封闭帘130相互连接,并在多个所述封闭帘130之间形成一封闭空间131。所述封闭帘130环绕于所述电镀装置20和所述工作槽集气罩120,所述电镀装置20和所述工作槽集气罩120位于所述封闭空间131,所述封闭帘130能够限制所述封闭空间131内的气体挥发至外界环境中。
    56.优选地,多个所述封闭帘130封闭地连接,即相邻的所述封闭帘130无间隙地连接,所述电镀装置20和所述工作槽集气罩120被置于一密封空间内,避免所述封闭空间131所述工作槽221内的所述电镀液挥发的废气进入所述封闭空间131后,自相邻的所述封闭帘130之间产生的间隙溢出至外界环境中。
    57.优选地,所述封闭帘130被实施为五个,其中四个所述封闭帘130环绕地保持于所述电镀装置210和所述工作槽集气罩120的四周,另一个所述封闭帘130被设置于四个所述封闭帘130的顶部,相邻的所述封闭帘130相互连接,以形成一封闭罩,所述封闭罩被罩设于所述电镀装置20和所述工作槽集气罩120。可选地,位于顶部的所述封闭帘130设有被连通于所述封闭空间131的一出气开口,其中所述出气开口被连通于所述废气处理单元110的所述废气处理空间1101.所述封闭空间131内的气体经过所述出气开口后进入所述废气处理单元110的所述废气处理空间1101。
    58.可选地,相邻的所述封闭帘130固定连接,有利于提高所述封闭帘130的密封效果。可选地,相邻的所述封闭帘130被可拆卸地连接,方便用户进出所述封闭空间131,并且,用户可单独更换或是维护任一所述封闭帘130。
    59.在本发明所述的废气处理装置100的这个具体的实施例中,所述废气处理装置100进一步包括一储液槽集气罩140,所述储液槽集气罩140具有一气流空间141和被连通于所述气流空间141的一气流开口142。所述储液槽集气罩140被设置于所述储液装置220的顶部,所述储液槽集气罩140的所述气流空间141被连通于所述储液装置220的所述储液槽221。所述储液槽集气罩140覆盖所述储液装置220的所述储液槽221,所述储液槽集气罩140引导所述储液装置220的所述储液槽221内的所述电镀液挥发的废气进入所述废气处理单
    元110的所述废气处理空间1101。
    60.进一步地,被设置于所述储液装置220的所述储液槽221的上方的所述储液槽集气罩140能够封闭所述储液装置220的所述储液槽221,避免或是减少被盛装于所述储液槽221内的所述电镀液挥发至外界环境中。优选地,所述储液槽集气罩140可以密封所述储液装置220的所述储液槽221。
    61.进一步地,被罩设于所述储液装置220的所述储液槽221的上方的所述储液槽集气罩140能够封闭所述储液装置220的所述储液槽221,避免或是减少被盛装于所述储液槽221内的所述电镀液挥发至外界环境中。优选地,所述储液槽集气罩140可以密封所述储液装置220的所述储液槽221。
    62.在本发明的一些实施例中,所述储液槽集气罩140以下表面直接贴合于所述储液装置220的所述储液槽221的方式保持于所述储液装置220的所述储液槽221的上方。
    63.优选地,所述储液槽集气罩140的内壁具有倾斜表面,以利于所述储液槽221内盛装的所述电镀液挥发的废气被集中地引导至所述废气处理单元110的所述废气处理空间1101。
    64.在本发明的一个具体的实施例中,所述引导开口122形成于所述储液槽集气罩140的中部,自所述储液槽221至所述储液槽集气罩140的所述引导开口122的方向,所述储液槽集气罩140的横截面积逐渐减小,以利于引导所述电镀液挥发的废气自所述储液槽集气罩140进入所述废气处理单元110的所述废气处理空间1101。在本发明的一个具体的实施例中,界定所述气流空间141的所述储液槽集气罩140的内壁呈弧形曲面。本领域技术人员应该理解的是,所述储液槽集气罩140的具体实施方式仅仅作为示例,不能成为对本发明所述废气处理装置100的内容和范围的限制。
    65.参照图1,在本发明所述的废气处理装置100的这个具体的实施例中,所述废气处理单元110进一步包括废气处理主体111和被设置于所述废气处理主体111的至少一负压发生主体112,其中所述废气处理空间1101形成于所述废气处理主体111,且所述负压发生主体112被连通于所述废气处理空间1101。在所述负压发生主体112的作用下,所述废弃处理主体111的所述废气处理空间1101内能够形成负压,进而藉由所述负压发生主机112将所述电镀装置210的所述工作槽211和所述储液装置220的所述储液槽221内盛装的所述电镀液挥发的废气抽至所述废气处理主体111的所述废气处理空间1101。
    66.优选地,所述负压发生主体112被实施为一个,所述负压发生主体112被连通于所述工作槽集气罩140的所述集气开口141和所述储液槽集气罩140的所述气流开口142,藉由一个所述负压发生主体112同时将所述电镀装置210的所述工作槽211和所述储液装置220的所述储液槽221内盛装的所述电镀液挥发的废气抽至所述废气处理主体111的所述废气处理空间1101,并进行内集中处理。
    67.优选地,所述负压发生主体112被实施为两个,两个所述负压发生主体分别被连通于所述工作槽集气罩140的所述集气开口141和所述储液槽集气罩140的所述气流开口142。每个所述负压发生主体112相互独立,允许用户单独调节对应于所述电镀装置210的所述工作槽211的所述负压发生主体112以及对应于所述储液装置220的所述储液槽221的所述负压发生主体112。由于所述电镀装置210的所述工作槽211内盛装的所述电镀液在电镀过程中被加热,加速了气体挥发的速度,所述工作槽211内盛装的所述电镀液挥发的废气较多,
    而所述储液装置220的所述储液槽221内的所述电镀液的温度较低,气体挥发速度也小于所述工作槽211内的所述电镀液的挥发速度。因此,可以设置被连通于所述工作槽集气罩140的所述负压发生主体112的功率大于被连通于所述储液槽集气罩140的所述负压发生主体112的功率。通过这样的方式可以提高所述负压发生主体112的工作效率,有利于节省电能消耗。
    68.值得一提的是,所述负压发生主体112的具体实施方式仅仅作为示例,不能成为对本发明所述废弃处理设备100的内容和范围的限制。所述负压发生主体112也可以被实施为三个甚至三个以上数量,通过增加所述负压发生主体112的数量,可以提高对所述电镀液挥发出的气体的吸收速度,有利于及时将所述工作槽211和所述储液槽221内盛装的所述电镀液挥发的废气及时地抽入所述废气处理主体111的所述废气处理空间1101,进一步有利于避免废气挥发至外界空间而威胁工作人员的身心健康。
    69.优选地,所述废气处理主体111通过吸附进入所述废气处理空间1101内的废气的方式处理所述电镀液挥发的废气。比如说,所述废气处理主体11包括多个活性炭吸附层,藉由所述活性炭吸附层吸收进入所述废气处理空间1101的废气。
    70.优选地,所述废气处理主体111通过溶解吸附进入所述废气处理空间1101内的废气的方式处理所述电镀液挥发的废气。比如说,所述废气处理主体11内设置多个喷淋头和一容液处理池,进入所述废气处理空间1101的废气溶解于所述喷淋头喷出的液体中,液体进入所述容液处理池后被净化或者被加热蒸发,进而所述电镀液挥发的废气在进入所述废气处理空间1101后被消耗。
    71.值得一提的是,所述废气处理主体111对进入所述废气处理空间1101内的废气的处理方式仅仅作为示例,不能成为对本发明所述废气处理装置及其处理方法的内容和范围的限制。
    72.依本发明的一个方面,本发明进一步提供所述废气处理装置100的一废气处理方法,其中所述废气处理方法包括如下步骤:
    73.(a)藉由所述工作槽集气罩120引导所述电镀装置210的所述工作槽211内的所述电镀液挥发的废气进入所述废气处理单元110的所述废气处理空间1101;
    74.(b)藉由所述储液槽集气罩130引导所述储液装置220的所述储液槽221内的所述电镀液挥发的废气进入所述废气处理单元110的所述废气处理空间101;以及
    75.(c)处理集中于所述废气处理空间101的废气。
    76.具体来说,在所述步骤(a)和所述步骤(b)中,形成一负压环境于所述废气处理空间1101,所述电镀液挥发的废气在负压的作用下被抽入所述废气处理空间1101。
    77.优选地,在所述步骤(a)中,所述工作槽211内的所述电镀液挥发的废气以沿着所述工作槽集气罩120的倾斜表面移动的方式自所述工作槽集气罩120的所述集气空间121进入所述废气处理单元110的所述废气处理空间1101。
    78.优选地,在所述步骤(b)中,所述储液槽221内的所述电镀液挥发的废气以沿着所述储液槽集气罩140的倾斜表面一种的方式自所述储液槽集气罩140的所述气流空间141进入所述废气处理单元110的所述废气处理空间1101。
    79.在本发明所述的废气处理方法的这个具体的实施例中,所述废气处理方法进一步包括步骤(d)藉由多个所述封闭帘130限制所述电镀装置220的所述电镀槽221内盛装的所
    述电镀液挥发的废气的运动。
    80.优选地,在所述步骤(c)中,吸附进入所述废气处理空间1101内的废气。优选地,在所述步骤(c)中,溶解进入所述废气处理空间内的废气于液体中,并通过化学净化或是加热蒸发的方式消耗废气。
    81.本领域的技术人员可以理解的是,以上实施例仅为举例,其中不同实施例的特征可以相互组合,以得到根据本发明揭露的内容很容易想到但是在附图中没有明确指出的实施方式。
    82.本领域的技术人员应理解,上述描述及附图中所示的本发明的实施例只作为举例而并不限制本发明。本发明的目的已经完整并有效地实现。本发明的功能及结构原理已在实施例中展示和说明,在没有背离所述原理下,本发明的实施方式可以有任何变形或修改。

    技术特征:
    1.一废气处理装置,适用于一电镀设备,其中所述电镀设备包括一电镀装置和一储液装置,其中所述电镀装置具有一工作槽,其中所述储液装置具有一储液槽,其中所述电镀装置的工作槽被连通于所述储液装置的所述储液槽,其特征在于,所述废气处理装置包括:一废气处理单元,其中所述废气处理单元具有一废气处理空间;一工作槽集气罩,其中所述工作槽集气罩具有一集气空间和被连通于所述集气空间的一引导开口,其中所述工作槽集气罩以所述集气空间被连通于所述电镀装置的所述工作槽的方式被保持于所述电镀装置的所述工作槽的上方,所述工作槽集气罩的所述引导开口被连通于所述废气处理单元的所述废气处理空间,所述工作槽集气罩能够封闭所述电镀装置的所述工作槽;以及一储液槽集气罩,其中所述储液槽集气罩具有一气流空间和被连通于所述气流空间的一气流开口,其中所述储液槽集气罩以所述储液槽集气罩的所述气流空间被连通于所述储液装置的所述储液槽的方式被设置于所述储液装置的上方,所述储液槽集气罩的所述气流开口被连通于所述废气处理单元的所述废气处理空间,所述储液槽集气罩能够封闭所述储液装置的所述储液槽。2.根据权利要求1所述的废气处理装置,其中所述工作槽集气罩的内壁具有倾斜表面。3.根据权利要求2所述的废气处理装置,其中所述工作槽集气罩的横截面积自下而上逐渐减小。4.根据权利要求2所述的废气处理装置,其中所述工作槽集气罩的内壁为弧形曲面。5.根据权利要求1所述的废气处理装置,其中所述储液槽集气罩的内壁具有倾斜表面。6.根据权利要求5所述的废气处理装置,其中所述储液槽集气罩的横截面积自下而上逐渐减小。7.根据权利要求5所述的废气处理装置,其中所述储液槽集气罩的内壁为弧形曲面。8.根据权利要求1所述的废气处理装置,其中所述工作槽集气罩进一步包括一阳极保持开口和一阴极保持开口,其中所述阳极保持开口和所述阴极保持开口分别间隔地形成于所述工作槽集气罩,其中所述阳极保持开口和所述阴极保持开口被连通于所述集气空间。9.根据权利要求1至8任一所述的废气处理装置,进一步包括多个封闭帘,其中所述封闭帘被设置于所述电镀装置的四周,多个所述封闭帘相互连接,并在多个所述封闭帘之间形成一封闭空间,其中所述电镀装置被设置于所述封闭空间内。10.根据权利要求9所述的废气处理装置,其中所述废气处理单元包括一废气处理主体和至少一负压发生主体,其中所述负压发生主体被设置于所述废气处理主体,其中所述废气处理空间形成于所述废气处理主体,所述负压发生主体被连通于所述工作槽集气罩的所述引导开口和所述废气处理空间。11.根据权利9所述的废气处理装置,其中所述废气处理单元包括一废气处理主体和至少一负压发生主体,其中所述负压发生主体被设置于所述废气处理主体,其中所述废气处理空间形成于所述废气处理主体,所述负压发生主体被连通于所述储液槽集气罩的所述气流开口和所述废气处理空间。12.根据权利9所述的废气处理装置,其中所述废气处理单元包括一废气处理主体和至少一负压发生主体,其中所述负压发生主体被设置于所述废气处理主体,其中所述废气处理空间形成于所述废气处理主体,所述负压发生主体被连通于所述工作槽集气罩的所述引
    导开口和所述废气处理空间,且所述负压发生主体被连通于所述储液槽集气罩的所述气流开口和所述废气处理空间。13.一废气处理方法,其特征在于,所述废气处理方法包括如下步骤:(a)一所述工作槽集气罩引导一电镀装置的一工作槽内的一电镀液挥发的废气进入一废气处理单元的一废气处理空间;(b)藉由一储液槽集气罩引导一储液装置的一储液槽内的所述电镀液挥发的废气进入所述废气处理单元的所述废气处理空间;以及(c)处理集中于所述废气处理空间的废气。14.根据权利要求13所述的废气处理方法,其中在所述步骤(a)和所述步骤(b)中,形成一负压环境于所述废气处理空间,所述电镀液挥发的废气在负压的作用下被抽入所述废气处理空间。15.根据权利要求14所述的废气处理方法,其中在所述步骤(a)中,所述工作槽内的所述电镀液挥发的废气以沿着所述工作槽集气罩的倾斜表面移动的方式自所述工作槽集气罩的一集气空间进入所述废气处理单元的所述废气处理空间。16.根据权利要求15所述的废气处理方法,在所述步骤(b)中,所述储液槽内的所述电镀液挥发的废气以沿着所述储液槽集气罩的倾斜表面一种的方式自所述储液槽集气罩的所述气流空间进入所述废气处理单元的所述废气处理空间。17.根据权利要求13至16任一所述的废气处理方法,进一步包括步骤(d)藉由多个所述封闭帘限制所述电镀装置的所述电镀槽内盛装的所述电镀液挥发的废气的运动。18.根据权利要求17所述的废气处理方法,其中在所述步骤(c)中,吸附进入所述废气处理空间内的废气。19.根据权利要求17所述的废气处理方法,其中在所述步骤(c)中,溶解进入所述废气处理空间内的废气于液体中,并通过化学净化或是加热蒸发的方式消耗废气。

    技术总结
    本发明公开了一废气处理装置和废气处理方法,其中所述废气处理装置包括一废气处理单元、一工作槽集气罩以及一储液槽集气罩,其中所述废气处理单元具有一废气处理空间,其中所述工作槽集气罩以所述集气空间被连通于一工作槽的方式被保持于所述工作槽的上方,所述工作槽集气罩的一引导开口被连通于所述废气处理空间,所述工作槽集气罩能够封闭所述电镀装置的所述工作槽,其中所述储液槽集气罩以一气流空间被连通于一储液槽的方式被设置于一储液装置的上方,所述储液槽集气罩的一气流开口被连通于所述废气处理单元的所述废气处理空间,所述储液槽集气罩能够封闭所述储液装置的所述储液槽。所述储液槽。所述储液槽。


    技术研发人员:赵景才
    受保护的技术使用者:余姚市爱迪升电镀科技有限公司
    技术研发日:2020.11.23
    技术公布日:2022/5/25
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