一种卷对卷真空镀膜机的控制系统及控制方法与流程

1.本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种卷对卷真空镀膜机的控制系统及控制方法。


背景技术：

2.镀膜设备是一种用于对物体进行镀膜的设备，目前镀膜设备主要是真空镀膜，真空镀膜设备是一类需要在较高真空度下进行镀膜的设备，主要包括蒸发和溅射两种，具体可以包括真空离子蒸发、磁控溅射、mbe分子外延、pld激光溅射沉积等；例如在薄膜沉积，光学部件的镀膜等，一般采用离子源来进行。
3.卷对卷真空镀膜机是一种能够实现连续性镀膜的真空镀膜设备，卷对卷真空镀膜机内的中间位置设置有镀膜腔室，镀膜腔室的两侧设置有多个过渡腔室，并且相邻腔室之间通常设置有供基材穿过的通口。而普通的卷对卷真空镀膜机只是在镀膜腔室内简单地安装一个镀膜设备，其镀膜质量、镀膜效率都非常低。


技术实现要素：

4.有鉴于此，本发明的目的是提供一种卷对卷真空镀膜机的控制系统和控制方法，达到高质量、高效率的镀膜工艺。
5.本发明通过以下技术手段解决上述技术问题：
6.一种卷对卷真空镀膜机的控制系统，所述控制系统包括第一控制器和第二控制器；
7.所述第一控制器包括：
8.真空泵组单元，用于对各个过渡腔室进行抽真空，使所有过渡腔室内的真空度由两侧往中间方向逐级增高，并使镀膜腔室内维持最高真空度；
9.基材卷绕单元，用于镀膜前基材的放卷和镀膜后基材的收卷工作，使基材能够连续不断地通过所有过渡腔室和镀膜腔室；
10.密封辊组单元，用于密封各个过渡腔室之间、以及末端过渡腔室的通口，使各个过渡腔室独立分隔开，并使基材能够顺利通过所有过渡腔室和镀膜腔室；
11.等离子射频单元，用于对镀膜前的基材进行清洁处理，使基材的镀膜面保持干净整洁；
12.加热单元，用于对镀膜前、镀膜中和镀膜后的基材进行加热处理，使基材的镀膜面保持干燥；
13.水冷单元，用于对镀膜腔室和真空泵组单元进行冷却处理，使镀膜工艺顺利进行；
14.所述第二控制器包括：
15.镀膜单元，用于对基材进行连续性镀膜。
16.进一步，所述基材卷绕单元的数量为两个，其中一个设置在真空镀膜机外的首端用于镀膜前基材的放卷，另一个设置在真空镀膜机外的尾端用于镀膜前基材的收卷，所述
基材卷绕单元包括安装架、第一导辊、第二导辊、收放辊和第一电机，所述第一导辊、第二导辊和收放辊均转动安装在安装架上，所述第一电机固定在安装架上并用于驱动收放辊转动，所述第一电机与第一控制器电连接。
17.进一步，所述基材卷绕单元还包括旋转轴、旋转编码器、两根连接杆、张紧辊、配重轴和配重块，所述旋转轴转动安装在安装架内，所述旋转编码器固定在安装架上并与旋转轴相连，所述旋转编码器与第一控制器电连接，两根所述连接杆分别固定在旋转轴的两端，所述张紧辊转动安装在两根连接杆之间并位于第一导辊和第二导辊中间位置的下侧，所述配重轴转动安装在两根连接杆上远离旋转轴的一端，所述配重块安装在配重轴上。
18.进一步，所述密封辊组单元的数量与过渡腔室的数量相同，每个所述密封辊组单元均安装在镀膜腔室的其中一个通口处，所述密封辊组单元包括c形安装板、上胶辊、下胶辊，所述c形安装板上开设有与通口相适配的矩形孔，所述上胶辊和下胶辊均转动安装在c形安装板内，所述上胶辊和下胶辊的前后两侧、靠近矩形孔的一侧均紧贴在c形安装板的内侧壁上，所述上胶辊和下胶辊相对的一侧能够共同抵靠在基材上。
19.进一步，所述密封辊组单元还包括两个滑动块和两个抵紧螺栓，所述c形安装板的两侧均设有安装槽，两个所述滑动块分别滑动安装在两侧的安装槽内，所述上胶辊的辊轴的两端分别转动安装在两个滑动块上，两个所述抵紧螺栓均螺纹连接在c形安装板的两侧，所述抵紧螺栓能够延伸至与其同侧的安装槽内并抵紧在滑动块上。
20.进一步，所述密封辊组单元还包括上齿轮、下齿轮和第二电机，所述上齿轮固定在上胶辊的辊轴上，所述下齿轮固定在下胶辊的辊轴上，所述上齿轮和下齿轮相互啮合，所述第二电机固定在真空镀膜机外并用于驱动下胶辊转动，所述第二电机与第一控制器电连接。
21.进一步，所述加热单元的数量为三个，三个所述加热单元分别安装在镀膜腔室、镀膜腔室前一个过渡腔室和镀膜腔室后一个过渡腔室内，并且这三个腔室完全连通。
22.进一步，所述等离子射频单元安装在加热单元所在过渡腔室前的其中一个过渡腔室内。
23.进一步，所述镀膜单元为电子枪蒸镀膜系统，所述电子枪蒸镀膜系统安装在镀膜腔室内。
24.一种卷对卷真空镀膜机的控制方法，所述控制方法包括如下步骤：
25.s1：首先通过真空泵组单元，对所有过渡腔室进行抽真空处理，并使所有过渡腔室内的真空度由两侧往中间方向逐级增高，同时也使镀膜腔室内的真空度增大；
26.s2：当镀膜腔室内的真空度达到预设真空度时，打开等离子射频单元，对基材的镀膜面进行清洁处理；
27.s3：打开加热单元，对基材进行加热处理；
28.s4：当镀膜腔室内的温度达到预设温度时，再启动电子枪蒸镀膜系统，首先调节电子束流至第一预设电子束流值，并维持一定时间；然后调节电子束流至第二预设电子束流值，并观察坩埚内的靶材是否有飞溅；如没有飞溅，则将电子束流调至第三预设电子束流值，如有飞溅，则待靶材飞溅停止后再将电子束流调至第三预设电子束流值，然后开始镀膜；
29.s5：启动基材卷绕单元，使基材连续不断地穿过整个真空镀膜机；
30.s6：启动水冷单元，对镀膜腔室和真空泵组单元进行冷却处理，将镀膜腔室的温度维持在130℃左右，防止镀膜腔室和真空泵组单元过热而导致停止事故。
31.本发明的有益效果：
32.1、本发明通过设置真空泵组单元，能够对各个过渡腔室抽真空，使所有过渡腔室内的真空度由两侧往中间方向逐级增高，并使镀膜腔室内维持最高真空度，提高镀膜的效率和质量。
33.2、本发明通过设置基材卷绕单元，使基材不会出现松弛或者被严重拉扯的问题，并且将基材卷绕单元安装在镀膜机外，便于工作人员安装和拆卸基材，提高镀膜效率。
34.3、本发明通过设置密封辊组单元，使各个过渡腔室能够独立分隔开，能够达到所有过渡腔室内的真空度由两侧往中间方向逐级增高的目的，这样设置使得位于末端的过渡腔室内的真空度相对较小，从而使该腔室与外界的压差相对较小，减小气流在从密封辊组单元处挤进过渡腔室中的风险，从而使得镀膜腔室内的高真空度能够保持稳定，提高镀膜质量。
35.4、本发明通过设置等离子射频单元，能够对基材的镀膜面进行清洁处理，使基材的镀膜面保持干净，提高镀膜质量。
36.5、本发明通过设置加热单元，使基材在镀膜前、镀膜中和镀膜后均能够保持干燥，保证靶材能够稳定附着在基材上，提高镀膜质量。
37.6、本发明通过设置水冷单元，能够对镀膜腔室和真空泵组单元进行冷却处理，使镀膜工艺顺利进行。
38.7、本发明通过真空泵组单元、基材卷绕单元、密封辊组单元、等离子射频单元、加热单元、水冷单元、镀膜单元的相互配合，能够实现高质量、高效率的镀膜工艺。
附图说明
39.图1是本发明一种卷对卷真空镀膜机的控制系统的系统框图；
40.图2是本发明中为展示各个单元的安装情况的剖视图；
41.图3是本发明中基材卷绕单元的结构示意图；
42.图4是本发明中为展示基材卷绕单元内部结构的示意图；
43.图5是本发明中密封辊组单元的结构示意图；
44.图6是本发明中密封辊组单元的爆炸结构示意图；
45.图7是本发明中等离子射频单元的结构示意图；
46.图8是本发明中加热单元的结构示意图；
47.图9是本发明中镀膜单元的结构示意图；
48.其中，1、真空泵组单元；2、基材卷绕单元；201、安装架；202、第一导辊；203、第二导辊；204、收放辊；205、第一电机；206、旋转轴；207、旋转编码器；208、两根连接杆；209、张紧辊；210、配重轴；211、配重块；3、密封辊组单元；301、c形安装板；302、上胶辊；303、下胶辊；304、滑动块；305、抵紧螺栓；306、上齿轮；307、下齿轮；308、第二电机；4、等离子射频单元；5、加热单元；501、加热盘；502、加热管；6、水冷单元；7、镀膜单元；8、镀膜腔室；9、过渡腔室；10、基材。
具体实施方式
49.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
50.如图1和2所示，本发明的一种卷对卷真空镀膜机的控制系统，该控制系统包括第一控制器和第二控制器；第一控制器包括：真空泵组单元1、基材卷绕单元2、密封辊组单元3、等离子射频单元4、加热单元5和水冷单元6，真空泵组单元1用于对各个过渡腔室9进行抽真空，使所有过渡腔室9内的真空度由两侧往中间方向逐级增高，并使镀膜腔室8内维持最高真空度；基材卷绕单元2用于镀膜前基材10的放卷和镀膜后基材10的收卷工作，使基材10能够连续不断地通过所有过渡腔室9和镀膜腔室8；密封辊组单元3用于密封各个过渡腔室9之间、以及末端过渡腔室9的通口，使各个过渡腔室9独立分隔开，并使基材10能够顺利通过所有过渡腔室9和镀膜腔室8；等离子射频单元4用于对镀膜前的基材10进行清洁处理，使基材10的镀膜面保持干净整洁；加热单元5用于对镀膜前、镀膜中和镀膜后的基材10进行加热处理，使基材10的镀膜面保持干燥；水冷单元6用于对镀膜腔室8和真空泵组单元1进行冷却处理，使镀膜工艺顺利进行；第二控制器包括镀膜单元7，镀膜单元7用于对基材10进行连续性镀膜。
51.如图2所示，本实施例中，基材卷绕单元2的数量为两个，其中一个设置在真空镀膜机外的首端，用于镀膜前基材10的放卷工作，另一个设置在真空镀膜机外的尾端，用于镀膜后基材10的放卷工作，将基材卷绕单元2设置在真空镀膜机外，不用打开真空镀膜机，便能够完成安装或者拆卸基材10的工作，提高镀膜效率。
52.如图3和图4所示，基材卷绕单元2包括安装架201、第一导辊202、第二导辊203、收放辊204和第一电机205，第一导辊202、第二导辊203和收放辊204均转动安装在安装架201上，第一导辊202和第二导辊203均为铝导辊，基材10能够套在第一导辊202和第二导辊203上，第一导辊202和第二导辊203对基材10起导向和张紧作用，卷绕基材10的收卷筒能够固定在收放辊204上，第一电机205固定在安装架201上并用于驱动收放辊204转动，第一电机205与第一控制器电连接。
53.如图3和图4所示，为了避免因基材10放卷速度和收卷速度不一致，而导致基材10在放卷或者收卷时发生松弛或者被严重拉扯的情况，材卷绕单元还包括旋转轴206、旋转编码器207、两根连接杆208、张紧辊209、配重轴210和配重块211，旋转轴206转动安装在安装架201内，旋转编码器207固定在安装架201上并与旋转轴206相连，用于检测旋转轴206的转动角度，旋转编码器207与第一控制器电连接，两根连接杆208分别固定在旋转轴206的两端，张紧辊209转动安装在两根连接杆208之间并位于第一导辊202和第二导辊203中间位置的下侧，配重轴210转动安装在两根连接杆208上远离旋转轴206的一端，配重块211可以为砝码，配重块211安装在配重轴210上，张紧辊209位于转动轴和配重轴210的中间位置，基材10也套在张紧辊209上，本实施例中，第一电机205的输出轴不会一直转动，当旋转编码器207检测到旋转轴206旋转100
°
时，旋转编码器207将信息反馈给第一控制器，第一控制器再控制第一电机205启动，对基材10进行放卷或者收卷，当旋转编码器207检测到旋转轴206反向旋转100
°
时，旋转编码器207再将信息反馈给第一控制器，第一控制器再控制第一电机
205关闭，如此循环操作，能够顺利地对基材10进行放卷或者收卷工作，避免因基材10放卷速度和收卷速度不一致，而导致基材10在放卷或者收卷时发生松弛或者被严重拉扯的情况。
54.如图2所示，本实施例中，密封辊组单元3的数量与过渡腔室9的数量相同，并且过渡腔室9左侧的密封辊组单元3安装在每个过渡腔室9左侧的通口处，过渡腔室9右侧的密封辊组单元3固定安装在每个过渡腔室9右侧的通口处，而与镀膜腔室8相邻的两个过渡腔室9内并不设置密封辊组单元3，这三个腔室相互连通，使得真空泵组单元1在对所有过渡腔室9抽真空时，也能够将镀膜腔室8内的真空度增大，并且这样设置，也使得镀膜腔室8内的高真空度能够保持稳定，提高镀膜质量。
55.如图5和图6所示，密封辊组单元3包括c形安装板301、上胶辊302、下胶辊303，c形安装板301的为封口的一侧固定在过渡腔室9的内侧壁上，这一侧能够将通口完全覆盖，c形安装板301上开设有与通口相适配的矩形孔，矩形孔与通口重合，基材10也能够穿过该矩形孔，上胶辊302和下胶辊303均转动安装在c形安装板301内，上胶辊302位于矩形孔上侧，下胶辊303位于矩形孔下侧，上胶辊302和下胶辊303的前后两侧紧贴在c形安装板301的前后两个内侧壁上，上胶辊302和下胶辊303靠近矩形孔的一侧也紧贴在c形安装板301的内侧壁上，并且上胶辊302和下胶辊303相对的一侧能够共同抵靠在基材10上，通过这样的密封结构，能够将各个过渡腔室9独立分隔开，再通过真空泵组单元1对各个过渡腔室9进行抽真空处理，能够对不同的过渡腔室9进行抽取不同的真空度，以此达到所有过渡腔室9内的真空度由两侧往中间方向逐级增高的目的，这样设置使得位于末端的过渡腔室9内的真空度相对较小，从而使该腔室与外界的压差相对较小，减小气流在从密封辊组单元3处挤进过渡腔室9中的风险，从而使得镀膜腔室8内的高真空度能够保持稳定，提高镀膜质量。
56.如图5和图6所示，为了便于在镀膜前安装基材10，密封辊组单元3还包括两个滑动块304和两个抵紧螺栓305，c形安装板301的两侧均设有安装槽，两个滑动块304分别竖向滑动安装在两侧的安装槽内，上胶辊302的辊轴的两端分别转动安装在两个滑动块304上，两个抵紧螺栓305均螺纹连接在c形安装板301的两侧，抵紧螺栓305能够延伸至与其同侧的安装槽内并抵紧在滑动块304上，当需要安装基材10时，可以先拧松两个抵紧螺栓305，将上胶辊302抬起来，这样就可以很方便地将基材10穿过上胶辊302和下胶辊303之间，以及穿过矩形孔和通口，基材10穿过后，再将上胶辊302放下来，并将两个抵紧螺栓305拧紧即可。
57.如图5和图6所示，当上胶辊302和下胶辊303共同抵靠在基材10上时，基材10处于被夹紧的状态，很难移动，而为了便于基材10能够顺利移动，密封辊组单元3还包括上齿轮306、下齿轮307和第二电机308，上齿轮306固定在上胶辊302的辊轴上，下齿轮307固定在下胶辊303的辊轴上，上齿轮306和下齿轮307相互啮合，第二电机308固定在真空镀膜机外并用于驱动下胶辊303转动，第二电机308与第一控制器电连接，上胶辊302和下胶辊303在第二电机308的驱动下，能够同向转动，从而为基材10的移动提供一定的动力。
58.如图2和图8所示，本实施例中，加热单元5的数量为三个，三个加热单元5分别安装在镀膜腔室8、镀膜腔室8前一个过渡腔室9和镀膜腔室8后一个过渡腔室9内，这三个腔室为连通状态，使得基材10在镀膜前、镀膜中和镀膜后保持干燥，提高镀膜的质量，加热单元5包括加热盘501和多根加热管502，加热管502固定在加热盘501内，位于过渡腔室9内的加热单元5安装在过渡腔室9内的底侧，位于镀膜腔室8内的加热单元5安装在镀膜腔室8内的顶侧，
并且加热盘501朝向基材10的一侧为敞口结构。
59.如图2和图7所示，本实施例中，等离子射频单元4安装在加热单元5所在过渡腔室9前的其中一个过渡腔室9内，这个过渡腔室9内还通有氩气，作为等离子射频单元4的工艺气体。
60.如图2和图9所示，本实施例中，镀膜单元7为电子枪蒸镀膜系统，电子枪蒸镀膜系统安装在镀膜腔室8内的底侧。
61.一种卷对卷真空镀膜机的控制方法，该控制方法包括如下步骤：
62.s1：首先通过真空泵组单元1，对所有过渡腔室9进行抽真空处理，并使所有过渡腔室9内的真空度由两侧往中间方向逐级增高，同时也使镀膜腔室8内的真空度增大；
63.s2：当镀膜腔室8内的真空度达到6.7*10-3
pa时，打开等离子射频单元4，对基材10的镀膜面进行清洁处理；
64.s3：打开加热单元5，对基材10进行加热处理；
65.s4：当镀膜腔室8内的温度达到100℃时，启动电子枪蒸镀膜系统，首先调节电子束流至70—80ma，并维持2min；然后调节电子束流至150—160ma，并观察坩埚内的靶材是否有飞溅；如没有飞溅，则将电子束流调至300ma，如有飞溅，则待靶材飞溅停止后再将电子束流调至300ma，然后开始镀膜；
66.s5：启动基材卷绕单元2，使基材10连续不断地穿过整个真空镀膜机；
67.s6：启动水冷单元6，对镀膜腔室8和真空泵组单元1进行冷却处理，将镀膜腔室8的温度维持在130℃左右，防止镀膜腔室8和真空泵组单元1过热而导致停止事故。
68.以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的宗旨和范围，其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。本发明未详细描述的技术、形状、构造部分均为公知技术。

技术特征：
1.一种卷对卷真空镀膜机的控制系统，其特征在于，所述控制系统包括第一控制器和第二控制器；所述第一控制器包括：真空泵组单元，用于对各个过渡腔室进行抽真空，使所有过渡腔室内的真空度由两侧往中间方向逐级增高，并使镀膜腔室内维持最高真空度；基材卷绕单元，用于镀膜前基材的放卷和镀膜后基材的收卷工作，使基材能够连续不断地通过所有过渡腔室和镀膜腔室；密封辊组单元，用于密封各个过渡腔室之间、以及末端过渡腔室的通口，使各个过渡腔室独立分隔开，并使基材能够顺利通过所有过渡腔室和镀膜腔室；等离子射频单元，用于对镀膜前的基材进行清洁处理，使基材的镀膜面保持干净整洁；加热单元，用于对镀膜前、镀膜中和镀膜后的基材进行加热处理，使基材的镀膜面保持干燥；水冷单元，用于对镀膜腔室和真空泵组单元进行冷却处理，使镀膜工艺顺利进行；所述第二控制器包括：镀膜单元，用于对基材进行连续性镀膜。2.根据权利要求1所述的一种卷对卷真空镀膜机的控制系统，其特征在于，所述基材卷绕单元的数量为两个，其中一个设置在真空镀膜机外的首端用于镀膜前基材的放卷，另一个设置在真空镀膜机外的尾端用于镀膜前基材的收卷，所述基材卷绕单元包括安装架、第一导辊、第二导辊、收放辊和第一电机，所述第一导辊、第二导辊和收放辊均转动安装在安装架上，所述第一电机固定在安装架上并用于驱动收放辊转动，所述第一电机与第一控制器电连接。3.根据权利要求2所述的一种卷对卷真空镀膜机的控制系统，其特征在于，所述基材卷绕单元还包括旋转轴、旋转编码器、两根连接杆、张紧辊、配重轴和配重块，所述旋转轴转动安装在安装架内，所述旋转编码器固定在安装架上并与旋转轴相连，所述旋转编码器与第一控制器电连接，两根所述连接杆分别固定在旋转轴的两端，所述张紧辊转动安装在两根连接杆之间并位于第一导辊和第二导辊中间位置的下侧，所述配重轴转动安装在两根连接杆上远离旋转轴的一端，所述配重块安装在配重轴上。4.根据权利要求1所述的一种卷对卷真空镀膜机的控制系统，其特征在于，所述密封辊组单元的数量与过渡腔室的数量相同，每个所述密封辊组单元均安装在镀膜腔室的其中一个通口处，所述密封辊组单元包括c形安装板、上胶辊、下胶辊，所述c形安装板上开设有与通口相适配的矩形孔，所述上胶辊和下胶辊均转动安装在c形安装板内，所述上胶辊和下胶辊的前后两侧、靠近矩形孔的一侧均紧贴在c形安装板的内侧壁上，所述上胶辊和下胶辊相对的一侧能够共同抵靠在基材上。5.根据权利要求4所述的一种卷对卷真空镀膜机的控制系统，其特征在于，所述密封辊组单元还包括两个滑动块和两个抵紧螺栓，所述c形安装板的两侧均设有安装槽，两个所述滑动块分别滑动安装在两侧的安装槽内，所述上胶辊的辊轴的两端分别转动安装在两个滑动块上，两个所述抵紧螺栓均螺纹连接在c形安装板的两侧，所述抵紧螺栓能够延伸至与其同侧的安装槽内并抵紧在滑动块上。6.根据权利要求5所述的一种卷对卷真空镀膜机的控制系统，其特征在于，所述密封辊
组单元还包括上齿轮、下齿轮和第二电机，所述上齿轮固定在上胶辊的辊轴上，所述下齿轮固定在下胶辊的辊轴上，所述上齿轮和下齿轮相互啮合，所述第二电机固定在真空镀膜机外并用于驱动下胶辊转动，所述第二电机与第一控制器电连接。7.根据权利要求1所述的一种卷对卷真空镀膜机的控制系统，其特征在于，所述加热单元的数量为三个，三个所述加热单元分别安装在镀膜腔室、镀膜腔室前一个过渡腔室和镀膜腔室后一个过渡腔室内，并且这三个腔室完全连通。8.根据权利要求6所述的一种卷对卷真空镀膜机的控制系统，其特征在于，所述等离子射频单元安装在加热单元所在过渡腔室前的其中一个过渡腔室内。9.根据权利要求1所述的一种卷对卷真空镀膜机的控制系统，其特征在于，所述镀膜单元为电子枪蒸镀膜系统，所述电子枪蒸镀膜系统安装在镀膜腔室内。10.一种卷对卷真空镀膜机的控制方法，其特征在于，所述控制方法基于权利要求1-9任一权利要求所述的一种卷对卷真空镀膜机的控制系统，所述控制方法包括如下步骤：s1：首先通过真空泵组单元，对所有过渡腔室进行抽真空处理，并使所有过渡腔室内的真空度由两侧往中间方向逐级增高，同时也使镀膜腔室内的真空度增大；s2：当镀膜腔室内的真空度达到预设真空度时，打开等离子射频单元，对基材的镀膜面进行清洁处理；s3：打开加热单元，对基材进行加热处理；s4：当镀膜腔室内的温度达到预设温度时，再启动电子枪蒸镀膜系统，首先调节电子束流至第一预设电子束流值，并维持一定时间；然后调节电子束流至第二预设电子束流值，并观察坩埚内的靶材是否有飞溅；如没有飞溅，则将电子束流调至第三预设电子束流值，如有飞溅，则待靶材飞溅停止后再将电子束流调至第三预设电子束流值，然后开始镀膜；s5：启动基材卷绕单元，使基材连续不断地穿过整个真空镀膜机；s6：启动水冷单元，对镀膜腔室和真空泵组单元进行冷却处理，将镀膜腔室的温度维持在130℃左右，防止镀膜腔室和真空泵组单元过热而导致停止事故。

技术总结
本发明涉及真空镀膜领域，公开了一种卷对卷真空镀膜机的控制系统，控制系统包括第一控制器和第二控制器；第一控制器包括：真空泵组单元，用于对各个过渡腔室进行抽真空，使所有过渡腔室内的真空度由两侧往中间方向逐级增高，并使镀膜腔室内维持最高真空度；基材卷绕单元，用于镀膜前基材的放卷和镀膜后基材的收卷工作，使基材能够连续不断地通过所有过渡腔室和镀膜腔室；密封辊组单元，用于密封各个过渡腔室之间、以及末端过渡腔室的通口，使各个过渡腔室独立分隔开，并使基材能够顺利通过所有过渡腔室和镀膜腔室。本发明通过各个单元的相互配合，能够实现高质量、高效率的镀膜工艺。高效率的镀膜工艺。高效率的镀膜工艺。


技术研发人员：金湛 曹蔚琦 王亚栋 秦琴 夏文豪
受保护的技术使用者：重庆诺奖二维材料研究院有限公司
技术研发日：2022.03.10
技术公布日：2022/5/25