掩膜版的制作方法

1.本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜版。


背景技术：

2.与有机发光二极管(oled)相似，微型发光二极管(mini/micro led)属于自发光型二极管，且有着高亮度、超低延迟、超大可视角度等一系列优势。由于微型发光二极管是基于性质更加稳定、电阻更低的金属半导体实现发光，因此它相比基于有机物实现发光的有机发光二极管来说，有着功耗更低、更耐高温和低温、使用寿命更长的优势。
3.微型发光二极管作为背光源时，能够实现更精密的动态背光效果，在有效提高屏幕亮度和对比度的同时，还能解决传统动态背光在屏幕亮暗区域之间造成的眩光现象，优化视觉体验。另外，微型发光二极管作为显示面板时，具备了自发光、响应快、低功耗、对比度高、寿命长、色彩饱和度高等优点，将成为继液晶显示器、有机发光显示器之后的下一代显示器。


技术实现要素：

4.本实用新型实施例提供一种掩膜版，用以实现具有微型发光二极管的小尺寸显示基板的侧面走线制作。
5.因此，本实用新型实施例提供的一种掩膜版，包括：
6.掩膜版本体，所述掩膜版本体包括层叠设置的胶材层和柔性基材层，所述掩膜版本体具有在厚度方向上贯穿所述掩膜版本体的至少一个镂空图案；
7.离型膜，位于所述胶材层远离所述柔性基材层的一侧；
8.补强膜，位于所述柔性基材层远离所述胶材层的一侧。
9.在一些实施例中，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，所述离型膜中至少一个边界在所述掩膜版本体上的正投影超出所述掩膜版本体。
10.在一些实施例中，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，所述补强膜中至少一个边界在所述掩膜版本体上的正投影超出所述掩膜版本体，且所述补强膜在所述掩膜版本体上的正投影位于所述离型膜在所述掩膜版本体上的正投影内。
11.在一些实施例中，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，所述柔性基材层在所述胶材层上的正投影与所述胶材层重合。
12.在一些实施例中，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，所述掩膜版本体还包括防呆图案，所述防呆图案与所述至少一个镂空图案的相对位置固定。
13.在一些实施例中，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，所述防呆图案为位于所述掩膜版本体角落处的缺口。
14.在一些实施例中，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，所述掩膜版本体还包括遮挡部，所述遮挡部包围所述至少一个镂空图案。
15.在一些实施例中，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，所述遮挡部具有在
厚度方向上贯穿所述遮挡部的至少一个对位开口。
16.在一些实施例中，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，所述镂空图案的延伸方向为第一方向，所述第一方向的垂直方向为第二方向；
17.所述至少一个对位开口为多个，多个所述对位开口包括至少一个第一对位开口，所述至少一个第一对位开口设置在所述镂空图案在所述第二方向上的同一侧，且邻近所述遮挡部在所述第一方向上延伸的边缘设置。
18.在一些实施例中，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，多个所述对位开口还包括至少一个第二对位开口，所述至少一个第二对位开口与所述至少一个第一对位开口分设在所述镂空图案在所述第二方向上的两侧，且所述第二对位开口邻近所述镂空图案设置。
19.在一些实施例中，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，所述至少一个镂空图案为多个，多个所述镂空图案划分为在所述第二方向上并排设置的至少两组；
20.所述第二对位开口邻近每组所述镂空图案的最外侧设置。
21.本实用新型有益效果如下：
22.本实用新型实施例提供的掩膜版，包括掩膜版本体，该掩膜版本体包括层叠设置的胶材层和柔性基材层，掩膜版本体具有在厚度方向上贯穿掩膜版本体的至少一个镂空图案；离型膜，位于胶材层远离柔性基材层的一侧；补强膜，位于柔性基材层远离胶材层的一侧。本实用新型可依据小尺寸显示基板的侧面走线在掩膜版本体上设置相应的镂空图案，并在撕除离型膜后，将由补强膜支撑的掩膜版本体所含的胶材层贴附在显示基板的侧面，使得镂空图案位于待制作侧面走线的位置，随后撕除补强膜，再在镂空图案处形成侧面走线，由此完成了小尺寸显示基板的侧面走线的制作，进而可通过拼接多个小尺寸显示基板的方式，实现超大尺寸的高规格显示装置的制作。
附图说明
23.图1为本实用新型实施例提供的掩膜版的一种结构示意图；
24.图2为图1中掩膜版主体的结构示意图；
25.图3为图1中离型膜的结构示意图；
26.图4为图1中补强膜的结构示意图；
27.图5为沿图1中i-ii线的剖面结构示意图；
28.图6为沿图1中iii-iv线的剖面结构示意图；
29.图7为沿图1中v-vi线的剖面结构示意图；
30.图8为本实用新型实施例提供的掩膜版的又一种结构示意图；
31.图9为本实用新型实施例提供的掩膜版的又一种结构示意图；
32.图10为本实用新型实施例提供的掩膜版的又一种结构示意图。
具体实施方式
33.为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例的附图，对本实用新型实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。需要注意的是，附图中各图形的尺寸和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本实用新型内容。并且自
始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。
34.除非另作定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本实用新型所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本实用新型说明书以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“内”、“外”、“上”、“下”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
35.相关技术中通过巨量转移的方式将微型发光二极管转移至驱动背板(bp)上实现显示基板的制作。然而在巨量转移与坏点修复等技术压力下，无法实现超大尺寸(例如豪华显示墙)显示装置的制作。对于此类应用，目前最佳方案是将多个小尺寸显示基板拼接成超大尺寸显示装置。此时，拼接能力直接决定显示装置的尺寸(pitch)、分辨率(ppi)等重要规格。相关技术中采用侧面走线(side wiring)的方案，实现了极小的拼接间距，使得超大尺寸显示装置具有优良的显示效果。在一些实施例中可采用激光切割的方式来制作侧面走线，该方案的优点是自动化程度高，容易量产，但无法满足更小尺寸显示基板的侧面走线制作要求。
36.为了解决相关技术中存在的上述问题，本实用新型实施例提供了一种掩膜版，如图1至图7所示，包括：
37.掩膜版本体101，掩膜版本体101包括层叠设置的胶材层1011和柔性基材层1012，掩膜版本体101具有在厚度方向z上贯穿掩膜版本体101的至少一个镂空图案a；
38.离型膜102，位于胶材层1011远离柔性基材层1012的一侧；
39.补强膜103，位于柔性基材层1012远离胶材层1011的一侧。
40.本实用新型可依据小尺寸显示基板的侧面走线在掩膜版本体101上设置相应的镂空图案a，并在撕除离型膜102后，将由补强膜103支撑的掩膜版本体101所含的胶材层1011贴附在显示基板的侧面，使得镂空图案a位于待制作侧面走线的位置，随后撕除补强膜103，再在镂空图案a处形成侧面走线，由此完成了小尺寸显示基板的侧面走线的制作，进而可通过拼接多个小尺寸显示基板的方式，实现超大尺寸的高规格显示装置的制作。
41.需要说明的是，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，可根据不同尺寸的显示基板的侧面走线在掩膜版本体101上设置与侧面走线匹配的镂空图案a，由此可应对不同尺寸显示基板的侧面走线的制作，因此，并不局限于制作小尺寸显示基板的侧面走线。
42.另外，在本实用新型实施例中，显示基板可以依靠玻璃基显示技术，使用在玻璃基上制作的低温多晶硅晶体管(ltps)驱动微型发光二极管，相较于硅基显示技术的显示基板，可实现大大降低成本。
43.在一些实施例中，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，为了便于撕除离型膜102，如图1、图8至图10所示，离型膜102中至少一个边界在掩膜版本体101上的正投影超出掩膜版本体101。具体地，在图1、图8至图10示出了离型膜102的全部边界在掩膜版本体101上的正投影均超出了掩膜版本体101。在一些实施例中，离型膜102的单边超出掩膜版本体101的宽度d1可以大于2mm，例如可以为10mm。
44.在一些实施例中，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，如图1、图8至图10所
示，补强膜103中至少一个边界在掩膜版本体101上的正投影超出掩膜版本体101，以便于将补强膜103自掩膜版本体101上撕除；并且由于在具体实施时需要将离型膜102撕除后，再将由补强膜103支撑的掩膜版本体101贴附在显示基板的侧面，因此为了便于撕除离型膜102，补强膜103在掩膜版本体101上的正投影需要位于离型膜102在掩膜版本体101上的正投影内。
45.在一些实施例中，在撕除离型膜102后，需要确保将掩模版本体101与待加工对象之间精确对位并固定。然而掩膜版本体101较柔软，致使掩膜版本体101难以与待加工对象精确对位；采用强度较大的补强膜103支撑掩膜版本体101，可以实现掩模版本体101与待加工对象间的精确对位。例如对于显示基板这一待加工对象而言，在补强膜103的支撑作用下，撕除离型膜102后的掩膜版本体101可精确包覆显示基板中待制作侧面走线所在的整个侧面，且保证镂空图案a与待制作侧面走线的位置对应。在具体实施时，补强膜103材料的刚性大于胶材层1011及柔性基材层1012的材料刚性。
46.具体地，在图1、图8至图10示出了补强膜103的全部边界在掩膜版本体101上的正投影均超出了掩膜版本体101。在一些实施例中，补强膜103超出掩膜版本体101的单边宽度d2可以大于1mm，例如可以为5mm。并且，在图1、图5中示出了补强膜103中沿第一方向y延伸的两个边界在掩膜版本体101上的正投影位于离型膜102在掩膜版本体101上的正投影内，补强膜103中沿第二方向x延伸的两个边界在掩膜版本体101上的正投影与离型膜102中沿第二方向x延伸的两个边界在掩膜版本体101上的正投影大致平齐(即恰好平齐或具有因制作工艺、测量等因素造成的偏差范围内，例如在0.5mm的偏差范围内)；在图6中示出了补强膜103中沿第二方向x延伸的两个边界在掩膜版本体101上的正投影位于离型膜102在掩膜版本体101上的正投影内，补强膜103中沿第一方向y延伸的两个边界在掩膜版本体101上的正投影与离型膜102中沿第一方向y延伸的两个边界在掩膜版本体101上的正投影大致平齐(即恰好平齐或具有因制作工艺、测量等因素造成的偏差范围内，例如在0.5mm的偏差范围内)；图7示出了补强膜103的全部边界在掩膜版本体101上的正投影均位于离型膜102在掩膜版本体101上的正投影内。在一些实施例中，离型膜102超出补强膜103的单边宽度d3可以大于1mm，例如可以为5mm。
47.在一些实施例中，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，如图1、图5至图10所示，柔性基材层1012在胶材层1011上的正投影可以与胶材层1011重合，也就是说柔性基材层1012的尺寸与胶材层1011的尺寸大致相同。在柔性基材层1012和胶材层1011的尺寸相同的情况下，便于采用相同的工艺参数分别或同时形成柔性基材层1012的镂空图案a和胶材层1011的镂空图案a，并保证柔性基材层1012的镂空图案a和胶材层1011的镂空图案a的一致性，利于提高后续侧面走线的制作精准性。
48.需要说明的是，由于制作工艺条件的限制或测量等其他因素的影响，本实用新型中的“重合”可能会恰好重合，也可能会有一些偏差(例如具有
±
0.5mm的偏差)，因此相关特征之间“重合”的关系只要满足误差允许，均属于本实用新型的保护范围。
49.在一些实施例中，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，如图1、图2、图8至图10所示，掩膜版本体101还可以包括防呆图案d，防呆图案d与全部镂空图案a的相对位置固定。由于掩膜版的胶材层1011、柔性基材层1012、离型膜102、补强膜103可以具有颜色，也可以是无色透明的，在离型膜102和补强膜103具有不同颜色时，可通过颜色分辨出掩膜版的
正面(例如补强膜103所在侧)和反面(例如离型膜102所在侧)，而在一些情况下(例如四者全透明或离型膜102和补强膜103颜色相同)，仅通过颜色无法有效识别出掩膜版的正面和反面。基于此，在全部镂空图案a固定的相对位置(例如图1、图2、图8至图10的中全部镂空图案a固定的左下方)设置了防呆图案d，在防呆图案d处于全部镂空图案a的固定相对位置时，掩膜版为正面在上、反面在下，由此有效分辨出了掩膜版的正面和反面。
50.在一些实施例中，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，如图1、图2、图8至图10所示，防呆图案d为位于掩膜版本体101角落(例如左下角)处的缺口，可选地，该缺口的形状可以为图1、图5至图7所示的直角三角形、也可以为圆形、方形等图形，在此不做具体限定。
51.在一些实施例中，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，如图1、图2、图8至图10所示，掩膜版本体101还可以包括遮挡部b，遮挡部b包围至少一个镂空图案a。为避免通过沉积金属或溅射金属等方式形成侧面走线的过程中，金属可能形成在相邻信号线之间或在相邻走线之间，导致相邻信号线短接或相邻走线短接，可以在贴附掩膜版之前，在显示基板的正面贴附遮挡信号线的保护膜、并在显示基板的正面贴附遮挡走线的保护膜。本实用新型通过在将掩膜版本体101具有胶材层1011的一侧贴合到显示基板的上，使得遮挡部b可以对显示基板正面的信号线邻近侧面的部分进行遮挡，同时还可以对显示基板背面的走线邻近侧面的部分进行遮挡，从而更好地避免了通过沉积金属或溅射金属等方式形成侧面走线的过程中，金属可能形成在相邻信号线之间或在相邻走线之间，导致相邻信号线短接或相邻走线短接。
52.在一些实施例中，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，如图1、图2、图8至图10所示，遮挡部b具有在厚度方向上贯穿遮挡部b的至少一个对位开口c，该对位开口c可用于实现掩膜版与显示基板的对位。可选地，对位开口c的形状可以为图中所示的圆形，也可以为方形等其他图形，在此不做具体限定。
53.在一些实施例中，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，如图1、图2、图8至图10所示，镂空图案a的延伸方向为第一方向y，第一方向y的垂直方向为第二方向x；对位开口c的数量为多个，多个对位开口c包括至少一个第一对位开口c1，全部第一对位开口c1设置在镂空图案a在第二方向x上的同一侧，且邻近遮挡部b在第一方向y上延伸的边缘设置，这样可以保证掩膜版与显示基板之间具有较好的对位效果。
54.在一些实施例中，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，如图8至图10所示，多个对位开口c还可以包括至少一个第二对位开口c2，全部第二对位开口c2与全部第一对位开口c1分设在镂空图案a在第二方向x上的两侧，且第二对位开口c2邻近镂空图案a设置，以便于通过第一对位开口c1实现掩膜版与显示基板正面(即显示面)的良好对位效果，并通过第二对位开口c2实现掩膜版与显示基板背面(即显示面的相对面)的良好对位效果。
55.在一些实施例中，在本实用新型实施例提供的上述掩膜版中，如图8至图10所示，镂空图案a的数量为多个，多个镂空图案a划分为在第二方向x上并排设置的至少两组；第二对位开口c2邻近每组镂空图案a的最外侧设置，以通过多个第二对位开口c2实现掩膜版中镂空图案a与背面的走线的精准对位。
56.另外，为了更好地理解本实用新型的技术方案，本实用新型实施例还针对采用上述掩膜版制作显示基板的侧面走线的方法进行了说明，具体可以包括以下步骤：
57.撕除本实用新型实施例提供的上述掩膜版的离型膜102，并将掩膜版本体101具有胶材层1011的一侧贴附在显示基板上，使得掩膜版本体101的至少一个镂空图案a位于显示基板上待制作侧面走线的位置；
58.以掩膜版本体101为遮挡，在至少一个镂空图案a处形成侧面走线，侧面走线连接于显示基板正面的信号线与显示基板背面的走线之间，其中，正面为显示基板的显示面，背面为显示面的相对面。
59.在一些实施例中，掩膜版还包括位于掩膜版本体101所含柔性基材层1012远离胶材层1011一侧的补强膜103时；在将掩膜版本体101具有胶材层1011的一侧贴附在显示基板上之后，且在以掩膜版本体101为遮挡，在至少一个镂空图案a处形成侧面走线之前，还可以执行以下步骤：将补强膜103自掩膜版本体101上撕除。
60.在一些实施例中，在掩膜版本体101还包括包围至少一个镂空图案a的遮挡部b时；在将掩膜版本体101具有胶材层1011的一侧贴附在显示基板上，使得掩膜版本体101的全部镂空图案a位于显示基板上待制作侧面走线的位置的同时，还可以通过遮挡部b遮挡正面的信号线邻近侧面走线的部分、以及背面的走线邻近侧面走线的部分。
61.尽管已描述了本实用新型的优选实施例，但本领域的技术人员可以对本实用新型实施例进行各种改动和变型而不脱离本实用新型实施例的精神和范围。这样，倘若本实用新型实施例的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。

技术特征：
1.一种掩膜版，其特征在于，包括：掩膜版本体，所述掩膜版本体包括层叠设置的胶材层和柔性基材层，所述掩膜版本体具有在厚度方向上贯穿所述掩膜版本体的至少一个镂空图案；离型膜，位于所述胶材层远离所述柔性基材层的一侧；补强膜，位于所述柔性基材层远离所述胶材层的一侧。2.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述离型膜中至少一个边界在所述掩膜版本体上的正投影超出所述掩膜版本体。3.如权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述补强膜中至少一个边界在所述掩膜版本体上的正投影超出所述掩膜版本体，且所述补强膜在所述掩膜版本体上的正投影位于所述离型膜在所述掩膜版本体上的正投影内。4.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述柔性基材层在所述胶材层上的正投影与所述胶材层重合。5.如权利要求1～4任一项所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版本体还包括防呆图案，所述防呆图案与所述至少一个镂空图案的相对位置固定。6.如权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述防呆图案为位于所述掩膜版本体角落处的缺口。7.如权利要求1～4任一项所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版本体还包括遮挡部，所述遮挡部包围所述至少一个镂空图案。8.如权利要求7所述的掩膜版，其特征在于，所述遮挡部具有在厚度方向上贯穿所述遮挡部的至少一个对位开口。9.如权利要求8所述的掩膜版，其特征在于，所述镂空图案的延伸方向为第一方向，所述第一方向的垂直方向为第二方向；所述至少一个对位开口为多个，多个所述对位开口包括至少一个第一对位开口，所述至少一个第一对位开口设置在所述镂空图案在所述第二方向上的同一侧，且邻近所述遮挡部在所述第一方向上延伸的边缘设置。10.如权利要求9所述的掩膜版，其特征在于，多个所述对位开口还包括至少一个第二对位开口，所述至少一个第二对位开口与所述至少一个第一对位开口分设在所述镂空图案在所述第二方向上的两侧，且所述第二对位开口邻近所述镂空图案设置。11.如权利要求10所述的掩膜版，其特征在于，所述至少一个镂空图案为多个，多个所述镂空图案划分为在所述第二方向上并排设置的至少两组；所述第二对位开口邻近每组所述镂空图案的最外侧设置。

技术总结
本实用新型提供的掩膜版，包括掩膜版本体，掩膜版本体包括层叠设置的胶材层和柔性基材层，掩膜版本体具有在厚度方向上贯穿掩膜版本体的至少一个镂空图案；离型膜，位于胶材层远离柔性基材层的一侧；补强膜，位于柔性基材层远离胶材层的一侧。层远离胶材层的一侧。层远离胶材层的一侧。


技术研发人员：翟明 王莉莉 刘超 韩仕伟 冯莎 王静 贾明明
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：2021.11.08
技术公布日：2022/5/25