一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备的制作方法

1.本实用新型涉蒸镀技术领域，尤其涉及一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备。


背景技术：

2.蒸镀是将待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华，使之在工件或基片表面析出的过程，而真空蒸镀是指在真空条件下，待蒸镀材料受热熔融蒸发，待蒸镀材料以原子或者原子团的形式层积在薄膜上，从而制造得到产品，真空蒸镀工艺一般包括基片表面清洁、镀膜前的准备、蒸镀、取件、镀后处理、检测、成品等步骤。
3.在实现本实用新型过程中，实用新型人发现现有技术中至少存在如下问题：
4.现有技术中的蒸镀设备主要是坩埚类，利用坩埚对待蒸镀材料进行蒸镀，但待蒸镀材料表面吸附有杂质，在蒸镀过程中，容易造成待蒸镀材料飞溅。


技术实现要素：

5.有鉴于此，本实用新型实施例的目的在于，提供一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备，解决现有技术中存在的缺点。
6.为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
7.一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备，包括支撑柱，其还包括：
8.第一坩埚集合，在所述支撑柱的第一侧从下至上间隔设置；
9.第二坩埚集合，在所述支撑柱的第二侧从下至上间隔设置；
10.其中，所述第一坩埚集合和所述第二坩埚集合均包括多个坩埚，所述坩埚的内部用于容纳待蒸镀材料，所述坩埚的底部或者侧部可拆卸地连接有用于防止所述待蒸镀材料飞溅出去的挡板，所述挡板平行于所述坩埚的底部。
11.可选地，所述第一坩埚集合和所述第二坩埚集合具有相同数量的坩埚，并且分别位置对称地设置在所述支撑柱的第一侧和第二侧，所述第一侧和所述第二侧关于所述支撑柱的延伸方向对称。
12.可选地，所述挡板通过卡合连接、螺纹连接、铰链连接、销连接或者键连接的方式与所述坩埚的底部或者侧部连接；所述挡板整体为平板，或者，所述挡板包括平板部分和弯曲部分，所述弯曲部分设置在所述平板部分的外侧，并且朝所述坩埚的顶部方向弯曲。
13.可选地，所述用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备还包括设置在所述支撑柱上的ccd视觉检测系统，用于识别溅射到所述挡板上的待蒸镀材料的液滴，当所述液滴的数量超过预设数值时，发出报警信号以指示对所述挡板执行维护操作。
14.可选地，所述坩埚包括：埚体；第一凹槽，设置在所述埚体的内部，并且所述第一凹槽的开口朝上暴露于所述埚体的上表面，所述第一凹槽用于容纳待蒸镀材料；加热系统，位于所述埚体的内部，与所述第一凹槽导热连接，用于加热所述待蒸镀材料。
15.可选地，所述坩埚的前端和后端的侧部均设置有卡槽，所述卡槽内部的底部的两
端均设置有第二凹槽，所述第二凹槽内部的前端均转动连接有挤压板，所述挤压板的底部均固定连接有弹簧的一端，所述弹簧的另一端均固定连接在所述第二凹槽内部的底部；所述挡板的一端卡接在所述卡槽中。
16.可选地，所述挡板的一端与卡块连接，所述卡块与所述卡槽相卡合，所述卡块前部的中间位置设置有开槽，所述开槽内部的两侧均通过转轴主体连接在连接杆的侧边，所述连接杆的前端的中部固定连接所述挡板，所述转轴主体为阻尼转轴。
17.可选地，所述卡槽和卡块均呈方形状，所述连接杆为圆柱状，所述开槽为中空半圆柱状且与连接杆相对应。
18.可选地，所述支撑柱的底部固定连接在底座顶部的中间位置。
19.可选地，所述支撑柱的横截面为圆形或者椭圆形，所述椭圆形的长半轴的长度为15-30cm，所述椭圆形的短半轴的长度为10-15cm；所述第一凹槽的深度为2-3厘米；所述坩埚的材质包括镁砂、粘土、石墨、石英、刚玉或者陶瓷。
20.本实用新型具有如下有益效果：
21.本实用新型通过在支撑柱的两侧上设置第一坩埚集合和第二坩埚集合，这样在有限空间内可设置多个坩埚，从而提高空间利用率和镀膜效率。另外，在坩埚底部或侧部设置一块挡板，该挡板可活动的设置在坩埚底部，这样当挡板上有较多的溅射液滴以后，可以蒸镀完成后取出。通过坩埚的底部或者侧部可拆卸地连接有用于防止待蒸镀材料飞溅出去的挡板，使得在对坩埚中的待蒸镀材料进行加热时，利用挡板可以对飞溅的待蒸镀材料的液滴进行阻挡，防止坩埚里面的待蒸镀材料飞溅到其他坩埚、或者飞溅到地面、或者飞溅至从下部坩埚表面走过的薄膜上面，从而提高薄膜蒸镀的质量和成品率。
附图说明
22.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
23.图1为本实用新型的一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备的结构图；
24.图2为本实用新型的一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备的坩埚侧面立体图；
25.图3为本实用新型的一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备的坩埚侧面剖视图；
26.图4为本实用新型的一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备的挡板结构图；
27.图5为图2中a处的放大图；
28.图6为图4中b处的放大图。
29.图例说明：
30.1、底座；2、卡槽；3、坩埚；4、支撑柱；5、第一凹槽；6、第二凹槽；7、挤压板；8、弹簧；9、挡板；10、卡块；11、连接杆；12、转轴主体；13、开槽。
具体实施方式
31.下面将详细描述本实用新型的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中，提出了许多具体细节，以便提供对本实用新型的全面理解。但是，对于本领域技术人员来说很明显的是，本实用新型可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本实用新型的示例来提供对本实用新型的更好的理解。在附图和下面的描述中，至少部分的公知结构和技术没有被示出，以便避免对本实用新型造成不必要的模糊；并且，为了清晰，可能夸大了部分结构的尺寸。此外，下文中所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。
32.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制；术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性，此外，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
33.实施例一
34.如图1所示，本实施例提供一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备，包括支撑柱4，其还包括：第一坩埚集合，在支撑柱4的第一侧从下至上间隔设置；第二坩埚集合，在支撑柱4的第二侧从下至上间隔设置；其中，第一坩埚集合和第二坩埚集合均包括多个坩埚3，坩埚3的内部用于容纳待蒸镀材料，坩埚3的底部或者侧部可拆卸地连接有用于防止待蒸镀材料飞溅出去的挡板9，挡板9平行于坩埚3的底部。本实用新型通过在支撑柱的两侧上设置第一坩埚集合和第二坩埚集合，这样在有限空间内可设置多个坩埚，从而提高空间利用率和镀膜效率。另外，在坩埚底部或侧部设置一块挡板，该挡板可活动的设置在坩埚底部，这样当挡板上有较多的溅射液滴以后，可以蒸镀完成后取出。通过坩埚的底部或者侧部可拆卸地连接有用于防止待蒸镀材料飞溅出去的挡板，使得在对坩埚中的待蒸镀材料进行加热时，利用挡板可以对飞溅的待蒸镀材料的液滴进行阻挡，防止坩埚里面的待蒸镀材料飞溅到其他坩埚、或者飞溅到地面、或者飞溅至从下部坩埚表面走过的薄膜上面，从而提高薄膜蒸镀的质量和成品率。
35.在一些实施例中，第一坩埚集合和第二坩埚集合具有相同数量的坩埚3，并且分别位置对称地设置在支撑柱4的第一侧和第二侧，第一侧和第二侧关于支撑柱4的延伸方向对称。对称布设置的方式有利于支撑柱4的受力平衡。
36.在一些实施例中，挡板9通过卡合连接、螺纹连接、铰链连接、销连接或者键连接的方式与坩埚3的底部或者侧部连接；挡板9整体为平板，或者，挡板9包括平板部分和弯曲部分，弯曲部分设置在平板部分的外侧，并且朝坩埚3的顶部方向弯曲。弯曲部分的设置有利于进一步提高遮挡在加热时溅射待蒸镀材料液滴的效果。
37.在一些实施例中，该用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备，还包括设置在支撑柱4上的ccd视觉检测系统，用于识别溅射到挡板9上的待蒸镀材料的液滴，当液滴的数量超
过预设数值时，发出报警信号以指示对挡板9执行维护操作。ccd视觉系统是用工业相机代替人眼睛去完成识别，测量，定位等功能。ccd视觉检测系统，可以检测挡板壁体上的污染物，包括液滴、堆积产生的灰尘、伤痕、污点以及表面颗粒物质等。视觉检测工作原理包括：通过机器视觉产品(即图像摄取装置，如cmos和ccd)将被摄取目标转换成图像信号，传送给专用的图像处理系统，根据像素分布和亮度、颜色等信息，转变成数字化信号；图像系统对这些信号进行各种运算来抽取目标的特征，进而根据判别的结果来识别溅射到挡板9上的待蒸镀材料的液滴的数量。
38.在一些实施例中，坩埚3包括：埚体；第一凹槽5，设置在埚体的内部，并且第一凹槽5的开口朝上暴露于埚体的上表面，第一凹槽5用于容纳待蒸镀材料；加热系统(图中未绘出)，位于埚体的内部，与第一凹槽5导热连接，用于加热待蒸镀材料。加热系统可采用电加热系统或者电磁感应加热系统。在电加热系统中，通过对发热元件施加电能来产热，通过改变电流可相应地调节其加热功率。
39.在一些实施例中，支撑柱4的横截面为圆形或者椭圆形，椭圆形的长半轴的长度为15-30cm，椭圆形的短半轴的长度为10-15cm；第一凹槽5的深度为2-3厘米；坩埚3的材质包括镁砂、粘土、石墨、石英、刚玉或者陶瓷。支撑柱4的椭圆形的横截面有利于承载更多的坩埚3，以提高镀膜的空间利用率。
40.实施例二
41.参照图1-图6，本实用新型提供的一种挡板与坩埚卡合连接的具体实施例：一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备，包括支撑柱4和卡块10，支撑柱4的两侧均固定连接有多个坩埚3，坩埚3的内部可以设置加热丝和导热板，利用加热丝发热产生热量，热量通过导热板作用于坩埚3上的材料，使其进行蒸镀，坩埚3顶部的中间位置均设置有第一凹槽5，坩埚3前端和后端的中部均设置有卡槽2，卡槽2的内的底部的两端均设置有第二凹槽6，第二凹槽6内部的前端均转动连接有挤压板7，挤压板7的底部均固定连接有弹簧8，弹簧8的另一端均固定连接在第二凹槽6内的底部，卡块10前部的中间位置设置有开槽13，把卡块10卡合进卡槽2中，在卡合的过程中，卡块10挤压挤压板7，从而挤压弹簧8向下，同时弹簧8的弹力可以对挤压板7进行向上挤压，进而使挤压板7挤压卡块10，起到夹持固定作用，开槽13内部的两侧均通过转轴主体12连接在连接杆11的侧边，连接杆11前端的中部固定连接有挡板9，壳体转动卡块10的转轴主体12，使得连接杆11带动挡板9转动，可以调节挡板9的角度，利用挡板9阻挡在蒸镀过程中，造成的飞溅，使用起来十分方便。
42.支撑柱4的底部固定连接在底座1顶部的中间位置，使得支撑柱4可以稳定的立于平面上，挤压板7均呈斜角状，第一凹槽5的深度均为2-3厘米，支撑柱4的横截面可以圆形或者椭圆形，卡槽2和卡块10均呈方形状，卡槽2和卡块10之间相卡合，卡块10可以直接卡合进卡槽2中，转轴主体12均为阻尼转轴，在转动转轴主体12后，可以定位于任意角度，连接杆11为圆柱状，开槽13为中空半圆柱状且与连接杆11相对应，坩埚3的顶部远离支撑柱4一端向外延伸，多个坩埚3上下之间的间距均相同。
43.工作原理：首先通过坩埚3前端和后端的中部均设置有卡槽2，可以把卡块10卡合进卡槽2中，在卡合的过程中，卡块10挤压挤压板7，从而挤压弹簧8向下进行压缩，同时弹簧8在压缩的同时可以通过自身的弹力对挤压板7进行向上挤压，进而使挤压板7挤压卡块10，对卡块10起到夹持固定作用，随后再转动卡块10的转轴主体12，使得连接杆11可以转动来
带动挡板9转动，而转轴主体12均为阻尼转轴，在转动转轴主体12后，可以定位于任意角度，实现调节挡板9的角度，然后利用挡板9阻挡在蒸镀过程中，造成的飞溅。
44.虽然已经参考优选实施例对本实用新型进行了描述，但在不脱离本实用新型的范围的情况下，可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件。尤其是，只要不存在结构冲突，各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。本实用新型并不局限于文中公开的特定实施例，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。

技术特征：
1.一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备，包括支撑柱(4)，其特征在于，还包括：第一坩埚集合，在所述支撑柱(4)的第一侧从下至上间隔设置；第二坩埚集合，在所述支撑柱(4)的第二侧从下至上间隔设置；其中，所述第一坩埚集合和所述第二坩埚集合均包括多个坩埚(3)，所述坩埚(3)的内部用于容纳待蒸镀材料，所述坩埚(3)的底部或者侧部可拆卸地连接有用于防止所述待蒸镀材料飞溅出去的挡板(9)，所述挡板(9)平行于所述坩埚(3)的底部。2.根据权利要求1所述的一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备，其特征在于：所述第一坩埚集合和所述第二坩埚集合具有相同数量的坩埚(3)，并且分别位置对称地设置在所述支撑柱(4)的第一侧和第二侧，所述第一侧和所述第二侧关于所述支撑柱(4)的延伸方向对称。3.根据权利要求1所述的一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备，其特征在于：所述挡板(9)通过卡合连接、螺纹连接、铰链连接、销连接或者键连接的方式与所述坩埚(3)的底部或者侧部连接；所述挡板(9)整体为平板，或者，所述挡板(9)包括平板部分和弯曲部分，所述弯曲部分设置在所述平板部分的外侧，并且朝所述坩埚(3)的顶部方向弯曲。4.根据权利要求1所述的一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备，其特征在于：还包括设置在所述支撑柱(4)上的ccd视觉检测系统，用于识别溅射到所述挡板(9)上的待蒸镀材料的液滴，当所述液滴的数量超过预设数值时，发出报警信号以指示对所述挡板(9)执行维护操作。5.根据权利要求1所述的一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备，其特征在于：所述坩埚(3)包括：埚体；第一凹槽(5)，设置在所述埚体的内部，并且所述第一凹槽(5)的开口朝上暴露于所述埚体的上表面，所述第一凹槽(5)用于容纳待蒸镀材料；加热系统，位于所述埚体的内部，与所述第一凹槽(5)导热连接，用于加热所述待蒸镀材料。6.根据权利要求3所述的一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备，其特征在于：所述坩埚(3)的前端和后端的侧部均设置有卡槽(2)，所述卡槽(2)内部的底部的两端均设置有第二凹槽(6)，所述第二凹槽(6)内部的前端均转动连接有挤压板(7)，所述挤压板(7)的底部均固定连接有弹簧(8)的一端，所述弹簧(8)的另一端均固定连接在所述第二凹槽(6)内部的底部；所述挡板(9)的一端卡接在所述卡槽(2)中。7.根据权利要求6所述的一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备，其特征在于：所述挡板(9)的一端与卡块(10)连接，所述卡块(10)与所述卡槽(2)相卡合，所述卡块(10)前部的中间位置设置有开槽(13)，所述开槽(13)内部的两侧均通过转轴主体(12)连接在连接杆(11)的侧边，所述连接杆(11)的前端的中部固定连接所述挡板(9)，所述转轴主体(12)为阻尼转轴。8.根据权利要求7所述的一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备，其特征在于：所述卡槽(2)和卡块(10)均呈方形状，所述连接杆(11)为圆柱状，所述开槽(13)为中空半圆柱状且与连接杆(11)相对应。9.根据权利要求6所述的一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备，其特征在于：所述支撑柱(4)的底部固定连接在底座(1)顶部的中间位置。10.根据权利要求5所述的一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备，其特征在于：所述支撑柱(4)的横截面为圆形或者椭圆形，所述椭圆形的长半轴的长度为15-30cm，所述
椭圆形的短半轴的长度为10-15cm；所述第一凹槽(5)的深度为2-3厘米；所述坩埚(3)的材质包括镁砂、粘土、石墨、石英、刚玉或者陶瓷。

技术总结
本实用新型提供一种用于防止待蒸镀材料溅射的蒸发源设备，包括支撑柱4，还包括：第一坩埚集合，在支撑柱4的第一侧从下至上间隔设置；第二坩埚集合，在支撑柱4的第二侧从下至上间隔设置；其中，第一坩埚集合和第二坩埚集合均包括多个坩埚3，坩埚3用于容纳待蒸镀材料，坩埚3的底部或者侧部可拆卸地连接有用于防止待蒸镀材料飞溅出去的挡板9，挡板9平行于坩埚3的底部。通过坩埚的底部或者侧部可拆卸地连接有挡板，使得在对坩埚中的待蒸镀材料进行加热时，利用挡板可以对飞溅的待蒸镀材料液滴进行阻挡，防止其飞溅到其他坩埚、或者飞溅到地面、或者飞溅至从下部坩埚表面走过的薄膜上面，从而提高薄膜蒸镀的质量和成品率。从而提高薄膜蒸镀的质量和成品率。从而提高薄膜蒸镀的质量和成品率。


技术研发人员：臧世伟
受保护的技术使用者：重庆金美新材料科技有限公司
技术研发日：2021.12.03
技术公布日：2022/5/25