一种单晶炉热屏真空清洁装置的制作方法

1.本实用新型涉及单晶炉热屏清洁技术领域，尤其涉及一种单晶炉热屏真空清洁装置。


背景技术：

2.单晶硅，又称硅单晶，是目前普遍使用的光伏发电材料。单晶炉为单晶硅的生产设备，其用石墨加热器将多晶硅等多晶材料熔化，用直拉法生长单晶。使用单晶炉生产单晶硅时，炉体内设置有热屏，热屏可以用来隔断单晶炉热场的内部和外部，使外部温度大大小于内部，从而起到加快单晶拉速的作用；热屏也称导流筒，除上述作用外，还可以对单晶炉炉体内通入的惰性保护气体(氮气、氦气为主)进行导流，使气体稳定循环。
3.为了保证顺利拉晶，要求单晶炉炉内热屏洁净、卫生，因此需要对热屏进行清洁。传统的清洁方式主要是用毛刷将热屏表面的杂质刷掉，然后再用压缩空气将表面浮灰吹掉或是用吸尘管吸掉。但对于具有夹层的热屏，传统清洁方式只能将热屏表面的杂质及氧化物清理干净，很难将夹层内部的碳粉及其他氧化物杂质清理干净。单晶炉生产时在重新开炉之后，炉台先要进行抽真空检漏，抽真空过程中热屏中未被清理掉的杂质会被抽吸出来，抽出来的杂质会掉入石英坩埚内导致原料污染，造成首次投料拉晶断线率增加，影响产能，增加了成本。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种单晶炉热屏真空清洁装置，以解决传统热屏清洁方式对于热屏清洁不彻底、影响拉晶的技术问题。
5.本实用新型所解决的技术问题可以采取以下方案来实现：一种单晶炉热屏真空清洁装置，其特征在于：包括抽真空箱体，用于在其内部容放单晶炉热屏；真空泵，与所述抽真空箱体连通，用于对所述抽真空箱体内部抽真空；过滤罐，安装在所述抽真空箱体与所述真空泵之间，并且分别与所述抽真空箱体与所述真空泵连通。
6.进一步的：所述过滤罐与所述抽真空箱体之间、所述过滤罐与所述真空泵之间分别通过管道相连通。
7.进一步的：所述过滤罐与所述抽真空箱体之间的管道上安装有管道阀门。
8.进一步的：所述真空泵为干式真空泵。
9.进一步的：所述真空泵能够将抽真空箱体内的压力抽至小于等于20毫托。
10.在使用本实用新型的单晶炉热屏真空清洁装置清洁单晶炉热屏时，将待清洁的热屏放入抽真空箱体中，然后启动真空泵对箱体进行抽真空，当抽真空箱体内的压力由常压逐步减小到一定真空度时，热屏表面、缝隙及内部夹层里的杂质及氧化的挥发物就会被彻底吸出，然后被沉积在过滤罐中，之后将抽真空箱体充成常压，取出热屏，即可以投入到正常拉晶使用中。本实用新型的单晶炉热屏清洁装置通过抽真空的方式，将热屏夹层内的杂质及氧化物彻底清理干净，使其不会对拉晶原料造成污染，从而降低首次投料拉晶的断线
率，提高产能、节约成本、增加收益。
附图说明
11.为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
12.图1是本实用新型单晶炉热屏真空清洁装置的结构示意图；
13.主要标件与标号：
14.抽真空箱体：1；真空泵：2；过滤罐：3；管道阀门：4；单晶炉热屏：5；
具体实施方式
15.为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚地展示，下面将结合附图对本实用新型实施方式作进一步地详细描述。
16.实施例
17.图1为本实用新型单晶炉热屏真空清洁装置的结构示意图，如图1所示，清洁装置包括抽真空箱体1、与抽真空箱体1连通的真空泵2、安装在所述抽真空箱体1与所述真空泵2之间的过滤罐3。抽真空箱体1用于在其内部容放待清洁的单晶炉热屏5；真空泵2用于对所述抽真空箱体1内部抽真空；过滤罐3分别与所述抽真空箱体1与所述真空泵2连通，用于使从单晶炉热屏中抽出的物质在其内部沉积并过滤，即真空泵能够将抽真空箱体中热屏夹层内的杂质及氧化物抽入过滤罐中沉积、过滤，从而达到清洁热屏的效果。
18.进一步的，对于过滤罐、抽真空箱体、真空泵之间的具体连接方式，所述过滤罐3与所述抽真空箱体1之间、所述过滤罐3与所述真空泵2之间分别通过管道相连通。
19.为了控制真空泵与抽真空箱体之间的连通与阻断，进一步的，在所述过滤罐3与所述抽真空箱体1之间的管道上安装有管道阀门4。管道阀门4开启时，真空泵与抽真空箱体之间处于连通状态，真空泵能够对抽真空箱体进行抽真空；管道阀门4关闭时，真空泵与抽真空箱体之间处于阻断状态。
20.进一步的，所述真空泵2为干式真空泵。干式真空泵较其它类型的真空泵更为可靠、耐用。
21.进一步的，所述真空泵2能够将抽真空箱体1内的压力抽至小于等于20毫托。真空度为20毫托时，热屏夹层内的杂质及氧化的挥发物能够被彻底吸出。
22.本实用新型的单晶炉热屏真空清洁装置在使用时，将整个装置组装好以后，将待清洁的单晶炉热屏放入抽真空箱体中，然后启动真空泵，打开管道阀门进行抽真空，当抽真空箱体内的压力由常压逐步减小到真空20豪托时，热屏内部夹层里的杂质及氧化的挥发物就会被彻底吸出，然后经过管道被沉积在过滤罐中。等抽真空箱体中的压力被抽到小于20豪托后，依次关闭管道阀门和真空泵，热屏的整个抽真空排杂清洁过程完成。最后将抽真空箱体充成常压，取出热屏，即可正常使用。为了更好的保障洁净度，取出热屏后也可以再用常规的方法清理一下表面再投入正常拉晶使用。
23.以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限
于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。


技术特征：
1.一种单晶炉热屏真空清洁装置，其特征在于：包括抽真空箱体(1)，用于在其内部容放单晶炉热屏(5)；真空泵(2)，与所述抽真空箱体(1)连通，用于对所述抽真空箱体(1)内部抽真空；过滤罐(3)，安装在所述抽真空箱体(1)与所述真空泵(2)之间，并且分别与所述抽真空箱体(1)与所述真空泵(2)连通。2.根据权利要求1所述的单晶炉热屏真空清洁装置，其特征在于：所述过滤罐(3)与所述抽真空箱体(1)之间、所述过滤罐(3)与所述真空泵(2)之间分别通过管道相连通。3.根据权利要求2所述的单晶炉热屏真空清洁装置，其特征在于：所述过滤罐(3)与所述抽真空箱体(1)之间的管道上安装有管道阀门(4)。4.根据权利要求1所述的单晶炉热屏真空清洁装置，其特征在于：所述真空泵(2)为干式真空泵。5.根据权利要求1所述的单晶炉热屏真空清洁装置，其特征在于：所述真空泵(2)能够将抽真空箱体(1)内的压力抽至小于等于20毫托。

技术总结
本实用新型涉及一种单晶炉热屏真空清洁装置，包括抽真空箱体，其内部用于容放单晶炉热屏；真空泵，与所述抽真空箱体连通，用于对所述抽真空箱体内部抽真空；过滤罐，安装在所述抽真空箱体与所述真空泵之间，并且分别与所述抽真空箱体与所述真空泵连通。使用时将待清洁的热屏放入抽真空箱体中，然后启动真空泵对箱体进行抽真空，当抽真空箱体内的压力由常压逐步减小到一定真空度时，热屏表面、缝隙及内部夹层里的杂质及氧化的挥发物就会被彻底吸出，然后被沉积在过滤罐中。该清洁装置通过抽真空的方式，将热屏夹层内的杂质及氧化物彻底清理干净，使其不会对拉晶原料造成污染，从而降低首次投料拉晶的断线率，提高产能、节约成本。节约成本。节约成本。


技术研发人员：王振
受保护的技术使用者：华耀光电科技有限公司
技术研发日：2021.06.11
技术公布日：2022/5/25