掩膜板及掩膜板结构的制作方法

1.本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜板及掩膜板结构。


背景技术：

2.随着显示技术的发展，具有更快反应速度和更高对比度的有机发光二极管显示器件的用途愈加广泛，且其制作工艺也越来越引起了人们的重视。其中，蒸镀是一种比较成熟的制作有机发光二极管显示器件的工艺，且已经运用于量产。然而，现有的蒸镀效果较差。


技术实现要素：

3.本公开的目的在于提供一种掩膜板及掩膜板结构，能够提高蒸镀效果。
4.根据本公开的一个方面，提供一种掩膜板，包括：
5.板体，包括设有镂空孔的通刻区，所述通刻区包括间隔设置的多个有效蒸镀区以及位于相邻的两个所述有效蒸镀区之间的间隔区；多个所述有效蒸镀区中存在至少两个所述有效蒸镀区沿着第一方向分布；沿着所述第一方向分布的相邻的两个所述有效蒸镀区之间的所述间隔区中包括非镂空区，所述非镂空区的面积大于所述镂空孔的面积。
6.进一步地，所述相邻的两个所述有效蒸镀区之间设有间隔设置的多个非镂空区，多个所述非镂空区中存在部分所述非镂空区沿着第二方向分布，所述第二方向与所述第一方向相交。
7.进一步地，相邻的两个所述有效蒸镀区之间的多个所述非镂空区构成多个非镂空列，多个所述非镂空列沿着所述第一方向间隔分布，各所述非镂空列包括沿着所述第二方向分布的多个所述非镂空区。
8.进一步地，多个所述非镂空列包括第一非镂空列和第二非镂空列，所述第一非镂空列和所述第二非镂空列交错排列，所述第一非镂空列中的所述非镂空区的数量小于所述第二非镂空列中的所述非镂空区的数量。
9.进一步地，所述非镂空列的数量为奇数。
10.进一步地，所述第一非镂空列的数量比所述第二非镂空列的数量多一个；或者
11.所述第一非镂空列的数量比所述第二非镂空列的数量少一个。
12.进一步地，所述第一非镂空列中的所述非镂空区的数量比所述第二非镂空列中的所述非镂空区的数量少一个。
13.进一步地，至少四个所述有效蒸镀区沿着所述第一方向分布，以形成至少三个沿着所述第一方向分布的间隔区；对于沿着所述第一方向分布的所述间隔区，位于中间位置的所述间隔区中的所述非镂空区的数量小于位于端部位置的所述间隔区中的所述非镂空区的数量。
14.进一步地，对于沿着所述第一方向分布的所述间隔区，从所述中间位置到所述端部位置，所述间隔区中的所述非镂空区的数量逐渐增多。
15.根据本公开的一个方面，提供一种掩膜板结构，包括：
16.框架，具有至少一个开口；
17.上述的掩膜板，所述掩膜板设于所述框架上，且所述有效蒸镀区与所述开口对应。
18.本公开的掩膜板及掩膜板结构，沿着第一方向分布的相邻的两个有效蒸镀区之间的间隔区中包括非镂空区，且由于非镂空区的面积大于镂空孔的面积，从而可以增强掩膜板的强度，减小掩膜板在张网拉伸的过程中产生的变形量，即降低了掩膜板在制作和张网拉伸中产生的褶皱，进而可以解决蒸镀时过程中掩膜板和待蒸镀基板贴合带来的刮蹭异物的问题，还可以增强掩膜板和待蒸镀基板之间的贴合效果，提升了ppa(pixel position accuracy，像素开口的位置精度)。
附图说明
19.图1是相关技术中蒸镀系统的示意图。
20.图2是相关技术中掩膜板和基板的示意图。
21.图3是相关技术中掩膜板和基板的另一示意图。
22.图4是本公开实施方式的掩膜板的示意图。
23.图5和图6是图4所示结构的局部示意图。
24.图7是本公开实施方式的掩膜板的另一示意图。
25.图8和图9是图7所示结构的局部示意图。
26.附图标记说明：1、通刻区；101、有效蒸镀区；102、非镂空区；103、非镂空列；1031、第一非镂空列；1032、第二非镂空列；2、外围区；201、缓冲区；202、对位标记；203、夹爪；204、实材区；3、蒸镀源；4、基台；5、掩膜板；6、待蒸镀基板；601、ps凸起；7、压合板；8、磁隔板。
具体实施方式
27.这里将详细地对示例性实施方式进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施方式中所描述的实施方式并不代表与本公开相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本公开的一些方面相一致的装置的例子。
28.在本公开使用的术语是仅仅出于描述特定实施方式的目的，而非旨在限制本公开。除非另作定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开说明书以及权利要求书中使用的“第一”“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“多个”或者“若干”表示两个及两个以上。除非另行指出，“前部”、“后部”、“下部”和/或“上部”等类似词语只是为了便于说明，而并非限于一个位置或者一种空间定向。“包括”或者“包含”等类似词语意指出现在“包括”或者“包含”前面的元件或者物件涵盖出现在“包括”或者“包含”后面列举的元件或者物件及其等同，并不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而且可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。在本公开说明书和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。
29.相关技术中，有机发光二极管(organic light-emitting diode,oled)中像素区发光材料都是通过蒸镀系统进行蒸镀形成的。如图1所示，蒸镀系统主要包含蒸镀源3、磁隔板8(magnet)、压合板7(touch plate)、待蒸镀基板6(glass)以及掩膜板5(mask)。在蒸镀过程中，待蒸镀基板6传入蒸镀腔室并与掩膜板5完成对位后(ps凸起601支撑于掩膜板5)，压合板7与磁隔板8下降，在磁力作用下待蒸镀基板6与掩膜板5紧密贴合以降低蒸镀shadow。
30.该掩膜板5可以为金属掩膜板，且包括呈镂空结构的通刻区，且由于通刻区所占区域较大，导致掩膜板5的强度降低，在掩膜板5承受拉力作用时，掩膜板5更容易发生变形进而产生较大幅度的褶皱。蒸镀时，掩膜板5和待蒸镀基板6进行贴合，褶皱会带来刮蹭异物以及贴合不好等问题，给蒸镀带来不好的影响。图2示出了掩膜板5和待蒸镀基板6贴合过程，实线表示吸附前的掩膜板5，虚线表示吸附后的掩膜板5。从图2中可以看出，因为磁力吸附作用，掩膜板5的褶皱被摊平，在褶皱受磁力吸附而摊平的过程中，掩膜板5与待蒸镀基板6之间一直处于运动摩擦即刮蹭状态，在刮蹭过程中掩膜板5把待蒸镀基板6上面的材料刮蹭下来产生异物，在产品产出时因为异物会发生暗点不良的问题。如图3所示，在蒸镀完成后，掩膜板5和待蒸镀基板6之间的磁力消失，因为失去了磁力的吸附作用，掩膜板5由平坦状态重新变回到褶皱状态，在这个变化过程中，掩膜板5上面由于蒸镀存在的有机材料会发生掉落，在蒸镀腔室中产生异物，影响蒸镀效果。
31.为了解决上述问题，本公开实施方式提供一种掩膜板。如图4和图7所示，该掩膜板用于制备显示模组。该掩膜板可以包括板体。该板体包括通刻区1。该通刻区1设有镂空孔。该通刻区1包括间隔设置的多个有效蒸镀区101以及位于相邻的两个有效蒸镀区101之间的间隔区。多个有效蒸镀区101中存在至少两个有效蒸镀区101沿着第一方向分布。沿着第一方向分布的相邻的两个有效蒸镀区101之间的间隔区中包括非镂空区102，非镂空区102的面积大于镂空孔的面积。
32.本公开实施方式的掩膜板，沿着第一方向分布的相邻的两个有效蒸镀区101之间的间隔区中包括非镂空区102，且由于非镂空区102的面积大于镂空孔的面积，从而可以增强掩膜板的强度，减小掩膜板在张网拉伸的过程中产生的变形量，即降低了掩膜板在制作和张网拉伸中产生的褶皱，进而可以解决蒸镀过程中掩膜板和待蒸镀基板贴合带来的刮蹭异物的问题，提高了蒸镀效果，同时还可以增强掩膜板和待蒸镀基板之间的贴合效果，提升了ppa(pixel position accuracy，像素开口的位置精度)。
33.下面对本公开实施方式的掩膜板的各部分进行详细说明：
34.如图4和图7所示，该板体可以由耐高温材料制备而成。该耐高温材料可以为合金材料，但本公开实施方式对此不做特殊限定。该板体的形状可以为条形，当然，该板体的形状也可以为其它形状，但本公开不以此为限。
35.如图4和图7所示，上述的显示模组可以包括用于显示图像的显示区。该显示区可以包括多个像素。各像素可以包括多个子像素，例如红色子像素、绿色子像素以及蓝色子像素。该板体包括通刻区1。该通刻区1可以呈条形，且呈条形的通刻区1的延伸方向可以与呈条形的板体的延伸方向相同。该通刻区1设有镂空结构，以在通刻区1形成多个镂空孔。该通刻区1包括间隔设置的多个有效蒸镀区101。该有效蒸镀区101的数量可以为两个、三个、四个、六个或更多个。各有效蒸镀区101内均设有镂空孔。一个有效蒸镀区101可以与显示模组的显示区对应，该镂空孔可以与显示模组的一个子像素对应。该有效蒸镀区101的形状可以
为矩形、正方形等。
36.如图4和图7所示，多个有效蒸镀区101中存在至少两个有效蒸镀区101沿着第一方向(图4和图7中的x方向)分布。举例而言，全部有效蒸镀区101沿着第一方向间隔分布。其中，以掩膜板呈条形为例，该第一方向可以与掩膜板的延伸方向平行。相邻的两个有效蒸镀区101之间存在间隔区。该间隔区内也存在上述的镂空孔。
37.如图4和图7所示，沿着第一方向分布的两个有效蒸镀区101之间的间隔区中包括非镂空区102。该非镂空区102的面积大于镂空孔的面积。举例而言，该非镂空区102的面积可以大于100个或200个镂空孔的面积。该非镂空区102的形状可以为矩形或正方形，当然，也可以为圆形或椭圆形，但本公开不限于此。
38.如图4和图7所示，上述相邻的两个有效蒸镀区101之间可以设有间隔设置的多个非镂空区102。其中，多个非镂空区102中存在部分非镂空区102沿着第二方向(图4和图7中的y方向)间隔分布。该第二方向可以与第一方向相交。进一步地，该第二方向可以与第一方向垂直。
39.具体而言，如图5和图8所示，相邻的两个有效蒸镀区101之间的多个非镂空区102构成多个非镂空列103，多个非镂空列103沿着第一方向间隔分布，各非镂空列103包括沿着第二方向分布的多个非镂空区102。该相邻的两个有效蒸镀区101之间的非镂空列103的数量可以为奇数，例如三个、五个等。其中，相邻的两个有效蒸镀区101之间的非镂空列103的数量可以为大于1的奇数。在本公开其它实施方式中，相邻的两个有效蒸镀区101之间的非镂空列103的数量也可以为偶数。
40.如图5和图8所示，相邻的两个有效蒸镀区101之间的多个非镂空列103可以包括第一非镂空列1031和第二非镂空列1032。该第一非镂空列1031和第二非镂空列1032沿着第一方向交错排列。第一非镂空列1031中的非镂空区102的数量可以小于第二非镂空列1032中的非镂空区102的数量。其中，第一非镂空列1031中的非镂空区102的数量可以比第二非镂空列1032中的非镂空区102的数量少一个，例如，如图5所示，第一非镂空列1031中的非镂空区102的数量为三个，第二非镂空列1032中的非镂空区102的数量为四个，再例如，如图8所示，第一非镂空列1031中的非镂空区102的数量为五个，第二非镂空列1032中的非镂空区102的数量为六个，但本公开实施方式对此不做特殊限定。此外，该第一非镂空列1031的数量可以比第二非镂空列1032的数量多一个。在本公开其它实施方式，该第一非镂空列1031的数量可以比第二非镂空列1032的数量少一个。如图5所示，以第一非镂空列1031的数量可以比第二非镂空列1032的数量少一个且非镂空列103的数量为三个为例，该第一非镂空列1031位于两个第二非镂空列1032之间。如图8所示，以第一非镂空列1031的数量可以比第二非镂空列1032的数量少一个且非镂空列103的数量为五个为例，中间的一个非镂空列103为第二非镂空列1032，该第二非镂空列1032位于相邻的两个第一非镂空列1031之间，位于最外侧的两个非镂空列103为两个第二非镂空列1032。
41.如图6和图9所示，以非镂空区102呈矩形、有效蒸镀区101呈矩形、通刻区1呈条形且非镂空列103的数量m为奇数为例，该第一非镂空列1031的数量可以比第二非镂空列1032的数量少一个，对于相邻设置的第一非镂空列1031和第二非镂空列1032，第二非镂空列1032中的非镂空区102的数量为n(n≥2)，第一非镂空列1031中的非镂空区102的数量为(n-1)，各非镂空区102在第一方向上的长度为w1，各非镂空区102在第二方向上的长度为d1，在
第二方向上相邻的两个非镂空区102之间的距离为d2，在第一方向上相邻的第一非镂空列1031和第二非镂空列1032之间的距离为w2，第二非镂空列1032与通刻区1侧边的距离为d0，在第一方向上位于间隔区最外侧的非镂空列103与有效蒸镀区101的距离为w0，在第一方向上相邻设置的两个有效蒸镀区101之间的距离为w3，通刻区1在第二方向上的长度为d3。上述各参数之间符合以下公式：
42.m＝2*x+1(x为大于等于1的正整数)
43.d3＝2*d0+n*d1+(n-1)*d244.w3＝2*w0+m*w1+(m-1)*w245.如图6所示，以m等于3且n等于4为例，上述公式为：
46.d3＝2*d0+4*d1+3*d247.w3＝2*w0+3*w1+2*w248.如图9所示，以m等于5且n等于6为例，上述公式为：
49.d3＝2*d0+6*d1+5*d250.w3＝2*w0+5*w1+4*w251.如图7所示，沿着第一方向间隔分布的有效蒸镀区101的数量至少为四个，从而在第一方向上形成至少三个间隔区。举例而言，沿着第一方向间隔分布的有效蒸镀区101的数量为六个，从而在第一方向上形成五个间隔区。对于沿着第一方向分布的多个间隔区，位于中间位置的间隔区中的非镂空区102的数量可以小于位于端部位置的间隔区中的非镂空区102的数量。进一步地，对于沿着第一方向分布的间隔区，从中间位置到端部位置，间隔区中的非镂空区102的数量逐渐增多。
52.如图7所示，以第一方向上形成有五个间隔区为例，位于最中间的间隔区中的非镂空区102的数量可以小于位于两端位置的间隔区中的非镂空区102的数量；进一步地，五个间隔区中位于两端位置的两个间隔区中均包括五个非镂空列103，剩余的三个间隔区中均包括三个非镂空列103。
53.如图4和图7所示，本公开实施方式的板体还可以包括围绕通刻区1的外围区2。该外围区2可以包括实材区204和缓冲区201。该缓冲区201可以与通刻区1间隔设置。该缓冲区201可以呈条形，且呈条形的缓冲区201的延伸方向可以与上述的第二方向平行。该缓冲区201的数量可以为多个，且多个缓冲区201间隔设置。其中，该通刻区1的第一方向上的两侧均设有缓冲区201，且位于通刻区1两侧的缓冲区201的数量均可以为多个。该实材区204可以围绕缓冲区201与通刻区1。其中，该缓冲区201可以与上述的有效蒸镀区101沿着第一方向分布。该缓冲区201的作用是减缓力在掩膜板中的传递，保证通刻区1应力和应变分布的均匀性，从而保证像素开口的位置精度。此外，该板体的实材区204内还可以设有对位标记202。该对位标记202的数量可以为两个。其中，该对位标记202可以为对位孔，但本公开不限于此。该板体还可以包括夹爪203。该夹爪203是掩膜板在张网拉伸时被机器手夹持的区域。
54.本公开实施方式还提供一种掩膜板结构。该掩膜板结构可以包括框架和上述任一实施方式所述的掩膜板。该框架具有至少一个开口。该掩膜板可以设于所述框架上，且有效蒸镀区101与开口对应。其中，掩膜板上的多个有效蒸镀区101可以与多个开口一一对应。由于本公开实施方式的掩膜板结构中所包括的掩膜板与上述掩膜板的实施方式中的掩膜板相同，因此，其具有相同的有益效果，本公开在此不再赘述。
55.以上所述仅是本公开的较佳实施方式而已，并非对本公开做任何形式上的限制，虽然本公开已以较佳实施方式揭露如上，然而并非用以限定本公开，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本公开技术方案的范围内，当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施方式，但凡是未脱离本公开技术方案的内容，依据本公开的技术实质对以上实施方式所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本公开技术方案的范围内。

技术特征：
1.一种掩膜板，其特征在于，包括：板体，包括设有镂空孔的通刻区，所述通刻区包括间隔设置的多个有效蒸镀区以及位于相邻的两个所述有效蒸镀区之间的间隔区；多个所述有效蒸镀区中存在至少两个所述有效蒸镀区沿着第一方向分布；沿着所述第一方向分布的相邻的两个所述有效蒸镀区之间的所述间隔区中包括非镂空区，所述非镂空区的面积大于所述镂空孔的面积。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述相邻的两个所述有效蒸镀区之间设有间隔设置的多个非镂空区，多个所述非镂空区中存在部分所述非镂空区沿着第二方向分布，所述第二方向与所述第一方向相交。3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，相邻的两个所述有效蒸镀区之间的多个所述非镂空区构成多个非镂空列，多个所述非镂空列沿着所述第一方向间隔分布，各所述非镂空列包括沿着所述第二方向分布的多个所述非镂空区。4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，多个所述非镂空列包括第一非镂空列和第二非镂空列，所述第一非镂空列和所述第二非镂空列交错排列，所述第一非镂空列中的所述非镂空区的数量小于所述第二非镂空列中的所述非镂空区的数量。5.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述非镂空列的数量为奇数。6.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述第一非镂空列的数量比所述第二非镂空列的数量多一个；或者所述第一非镂空列的数量比所述第二非镂空列的数量少一个。7.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述第一非镂空列中的所述非镂空区的数量比所述第二非镂空列中的所述非镂空区的数量少一个。8.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，至少四个所述有效蒸镀区沿着所述第一方向分布，以形成至少三个沿着所述第一方向分布的间隔区；对于沿着所述第一方向分布的所述间隔区，位于中间位置的所述间隔区中的所述非镂空区的数量小于位于端部位置的所述间隔区中的所述非镂空区的数量。9.根据权利要求8所述的掩膜板，其特征在于，对于沿着所述第一方向分布的所述间隔区，从所述中间位置到所述端部位置，所述间隔区中的所述非镂空区的数量逐渐增多。10.一种掩膜板结构，其特征在于，包括：框架，具有至少一个开口；权利要求1至9任一项所述的掩膜板，所述掩膜板设于所述框架上，且所述有效蒸镀区与所述开口对应。

技术总结
本公开提供了一种掩膜板及掩膜板结构。该掩膜板包括板体。该板体包括设有镂空孔的通刻区，所述通刻区包括间隔设置的多个有效蒸镀区以及位于相邻的两个所述有效蒸镀区之间的间隔区；多个所述有效蒸镀区中存在至少两个所述有效蒸镀区沿着第一方向分布；沿着所述第一方向分布的相邻的两个所述有效蒸镀区之间的所述间隔区中包括非镂空区，所述非镂空区的面积大于所述镂空孔的面积。本公开能够提高蒸镀效果。果。果。


技术研发人员：吴建鹏 孙国栋 张锴
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：2021.11.02
技术公布日：2022/5/25