本发明涉及等离子体源领域，特别是涉及一种螺旋波等离子体处理装置。
背景技术：
1、螺旋波等离子体源是一种射频驱动等离子体源，具有无电极、高密度、高电离率、约束磁场低以及装置可控等优点。自上世纪六十年代被发现以来，已经广泛应用于刻蚀、清洗等材料表面处理领域。近年来，螺旋波等离子体源在热核聚变、空间电推进等领域被广泛应用，许多大型等离子体直线装置上都安装有螺旋波等离子体源。随着外部功率的升高，螺旋波等离子体的状态会经历电容耦合（e-mode）、电感耦合（h-mode）到波耦合（w-mode）的模式转变。随着放电功率达到一定值，波模式下会出现蓝芯等离子体，这代表螺旋波等离子体的高电离、高密度状态。
2、许多小型直线装置的螺旋波等离子体源在低射频功率(1-5 kw)下产生蓝芯等离子体，而大型直线装置，需要更高的射频功率(10-100 kw)才能产生蓝芯等离子体。实际工程应用中，产生蓝芯所需的射频功率越高，射频辐射越强，辐射屏蔽越难。同时高功率会引起装置有极大的热负荷，需要额外配备冷却系统，这导致装置建造和维护成本升高。因此找到一种让螺旋波等离子体源在低功率下产生蓝芯的方法非常有必要。
3、现有直线装置中改变螺旋波等离子体源放电模式的方式只有调整放电参数，比如射频功率、磁场位型或气压，没有一种能明显降低蓝芯功率阈值的方法和装置。
技术实现思路
1、本发明的目的是提出一种螺旋波等离子体处理装置，以达到降低螺旋波等离子体源产生蓝芯等离子体的转变功率阈值的要求。
2、本申请的目的是通过如下技术方案实现的：
3、一种螺旋波等离子体处理装置，包括：接线组件、绝缘件、偏压电极环和放电管，所述接线组件与所述绝缘件连接，且所述绝缘件沿所述接线组件的长度延伸方向依次设置，所述偏压电极环安装于所述绝缘件上，所述接线组件与所述偏压电极环电连接，所述放电管围设于所述绝缘件的外侧并不与所述偏压电极环和所述接线组件电连接。
4、本申请的一些实施例中，还包括挡板，所述挡板安装于所述放电管中并开设有第一通孔，所述挡板靠近所述放电管的进气端设置，所述偏压电极环设置于所述挡板背离所述放电管的进气端的一侧。
5、本申请的一些实施例中，所述挡板安装于所述绝缘件上。
6、本申请的一些实施例中，所述绝缘件开设有第二通孔，所述接线组件穿设于所述第二通孔。
7、本申请的一些实施例中，所述接线组件、所述绝缘件和所述偏压电极环均为多个，所述第二通孔与所述接线组件一一对应设置，且至少一个所述第二通孔靠近所述偏压电极环的一侧开口。
8、本申请的一些实施例中，所述绝缘件上的一个所述第二通孔靠近所述偏压电极环的一侧开口，且每个所述绝缘件的所述第二通孔的开口位于不同的所述接线组件的位置。
9、本申请的一些实施例中，所述绝缘件呈环形结构，所述偏压电极环卡接于所述绝缘件的内圈，所述第二通孔沿所述绝缘件的厚度方向开设，且所述第二通孔周向间隔开设于所述绝缘件。
10、本申请的一些实施例中，所述接线组件包括引线管和导电引线，所述引线管套设于所述导电引线的外周，所述导电引线与所述偏压电极环电连接。
11、本申请的一些实施例中，所述绝缘件的外侧面与所述放电管的内侧面紧密贴合，用于限制气体仅从所述偏压电极环中间流动。
12、本申请的一些实施例中，还包括电源，所述电源的正极与所述接线组件电连接，且所述电源的负极接地；或者，所述电源的负极与所述接线组件电连接，且所述电源的正极接地。
13、本申请的螺旋波等离子体处理装置，接线组件、绝缘件和偏压电极环均设置于放电管内，制作工艺简单，成本低，实验室自制方便，且操作简单，相对于现有调整螺旋波等离子体源放电参数产生蓝芯等离子体的方式，本申请更加直接，不需要反复测试蓝芯放电条件，能明显看见原本某功率下只有低密度的螺旋波等离子体生成，而偏压电极环促使该功率下形成高密度的蓝芯等离子体，说明降低了蓝芯所需功率的阈值，更低功率下产生蓝芯等离子体，有利于减少直线装置中的热负荷，为螺旋波等离子体源的稳定运行提供可能性。
1.一种螺旋波等离子体处理装置，其特征在于，包括：接线组件、绝缘件、偏压电极环和放电管，所述接线组件与所述绝缘件连接，且所述绝缘件沿所述接线组件的长度延伸方向依次设置，所述偏压电极环安装于所述绝缘件上，所述接线组件与所述偏压电极环电连接，所述放电管围设于所述绝缘件的外侧并不与所述偏压电极环和所述接线组件电连接。
2.根据权利要求1所述的螺旋波等离子体处理装置，其特征在于，还包括挡板，所述挡板安装于所述放电管中并开设有第一通孔，所述挡板靠近所述放电管的进气端设置，所述偏压电极环设置于所述挡板背离所述放电管的进气端的一侧。
3.根据权利要求2所述的螺旋波等离子体处理装置，其特征在于，所述挡板安装于所述绝缘件上。
4.根据权利要求1-3任一项所述的螺旋波等离子体处理装置，其特征在于，所述绝缘件开设有第二通孔，所述接线组件穿设于所述第二通孔。
5.根据权利要求4所述的螺旋波等离子体处理装置，其特征在于，所述接线组件、所述绝缘件和所述偏压电极环均为多个，所述第二通孔与所述接线组件一一对应设置，且至少一个所述第二通孔靠近所述偏压电极环的一侧开口。
6.根据权利要求5所述的螺旋波等离子体处理装置，其特征在于，所述绝缘件上的一个所述第二通孔靠近所述偏压电极环的一侧开口，且每个所述绝缘件的所述第二通孔的开口位于不同的所述接线组件的位置。
7.根据权利要求6所述的螺旋波等离子体处理装置，其特征在于，所述绝缘件呈环形结构，所述偏压电极环卡接于所述绝缘件的内圈，所述第二通孔沿所述绝缘件的厚度方向开设，且所述第二通孔周向间隔开设于所述绝缘件。
8.根据权利要求1所述的螺旋波等离子体处理装置，其特征在于，所述接线组件包括引线管和导电引线，所述引线管套设于所述导电引线的外周，所述导电引线与所述偏压电极环电连接。
9.根据权利要求1所述的螺旋波等离子体处理装置，其特征在于，所述绝缘件的外侧面与所述放电管的内侧面紧密贴合，用于限制气体仅从所述偏压电极环中间流动。
10.根据权利要求1所述的螺旋波等离子体处理装置，其特征在于，还包括电源，所述电源的正极与所述接线组件电连接，且所述电源的负极接地；或者，所述电源的负极与所述接线组件电连接，且所述电源的正极接地。
