本发明涉及一种微晶玻璃，尤其是涉及一种具有优异抗划性能的微晶玻璃和微晶玻璃制品。
背景技术：
1、微晶玻璃是一种通过对玻璃进行热处理而在玻璃内部析出结晶的材料，具有比常规的玻璃更优异的机械性能，其抗弯、耐磨以及抗摔等性能相对于常规玻璃都有明显的优势。随着消费电子产品的不断兴起和发展，微晶玻璃大量应用于此类电子器件中，例如led和lcd显示器以及电脑监测器等设备，便携式电子产品(如移动电话、平板电脑和个人媒体终端等)。虽然微晶玻璃越来越抗摔，但相比高铝玻璃，现有技术中的微晶玻璃抗划性能较差，难以达到应用于盖板材料的要求。因此，开发一款具有优异抗划性能的微晶玻璃，成为了科技人员所追求的目标。
技术实现思路
1、本发明所要解决的技术问题是提供一种具有优异的抗划性能的微晶玻璃和微晶玻璃制品。
2、本发明解决技术问题所采用的技术方案是：
3、(1)微晶玻璃制品，其组分按重量百分比表示，含有：sio2：40～60％；al2o3：15～30％；li2o：0.1～6％；zno：13～23％；tio2：0.5～7％；k2o：大于0但小于或等于3％；y2o3：大于0但小于或等于5.5％，其中k2o/y2o3为0.05～10.0。
4、(2)微晶玻璃制品，其组分按重量百分比表示，含有：sio2：40～60％；al2o3：15～30％；li2o：0.1～6％；zno：13～23％；tio2：0.5～7％；k2o：大于0但小于或等于3％；y2o3：大于0但小于或等于5.5％。
5、(3)根据(1)或(2)所述的微晶玻璃制品，其组分按重量百分比表示，还含有：zro2：0～5％；和/或p2o5：0～5％；和/或na2o：0～6％；和/或mgo：0～6％；和/或b2o3：0～4％；和/或cao+bao+sro：0～5％；和/或澄清剂：0～2％。
6、(4)微晶玻璃制品，其组分中含有sio2、al2o3、zno、li2o、k2o、y2o3和tio2，其组分按重量百分比表示k2o/y2o3为0.05～10.0，所述微晶玻璃制品的划痕宽度为70μm以下。
7、(5)微晶玻璃制品，其组分中含有sio2、al2o3、zno、y2o3和tio2，所述微晶玻璃制品的落球试验高度为1000mm以上。
8、(6)微晶玻璃制品，其组分中含有sio2、al2o3、zno和tio2，所述微晶玻璃制品的表面应力为120mpa以上。
9、(7)微晶玻璃制品，其组分中含有sio2、al2o3、zno和tio2，所述微晶玻璃制品的耐摔性为1000mm以上。
10、(8)微晶玻璃制品，其组分中含有sio2、al2o3、zno和tio2，所述微晶玻璃制品的抗挤压强度为400n以上。
11、(9)微晶玻璃制品，其组分中含有sio2、al2o3和zno，所述微晶玻璃制品含有尖晶石晶相。
12、(10)根据(4)～(9)任一所述的微晶玻璃制品，其组分按重量百分比表示，含有：sio2：40～60％；和/或al2o3：15～30％；和/或li2o：0.1～6％；和/或zno：13～23％；和/或tio2：0.5～7％；和/或k2o：大于0但小于或等于3％；和/或y2o3：大于0但小于或等于5.5％；和/或zro2：0～5％；和/或p2o5：0～5％；和/或na2o：0～6％；和/或mgo：0～6％；和/或b2o3：0～4％；和/或cao+bao+sro：0～5％；和/或澄清剂：0～2％。
13、(11)根据(1)～(10)任一所述的微晶玻璃制品，其组分按重量百分比表示，满足以下5种情形中的一种或多种：
14、1)k2o/y2o3为0.05～10.0，优选k2o/y2o3为0.05～5.0，更优选k2o/y2o3为0.05～2.5，进一步优选k2o/y2o3为0.1～2.0；
15、2)al2o3/zno为1.0～2.3，优选al2o3/zno为1.2～2.3，更优选al2o3/zno为1.3～2.3，进一步优选al2o3/zno为1.3～2.0；
16、3)(tio2+zno)/al2o3为0.5～1.5，优选(tio2+zno)/al2o3为0.5～1.2，更优选(tio2+zno)/al2o3为0.6～1.0，进一步优选(tio2+zno)/al2o3为0.6～0.9；
17、4)k2o/(na2o+y2o3)为0.01～3.0，优选k2o/(na2o+y2o3)为0.01～1.5，更优选k2o/(na2o+y2o3)为0.05～1.3，进一步优选k2o/(na2o+y2o3)为0.1～1.0；
18、5)(li2o+na2o+k2o)/(mgo+y2o3)为3.0～10.0，优选(li2o+na2o+k2o)/(mgo+y2o3)为3.0～9.0，更优选(li2o+na2o+k2o)/(mgo+y2o3)为3.5～8.0，进一步优选(li2o+na2o+k2o)/(mgo+y2o3)为4.0～8.0。
19、(12)根据(1)～(11)任一所述的微晶玻璃制品，其组分按重量百分比表示，含有：sio2：45～55％，优选sio2：48～55％；和/或al2o3：16～26％，优选al2o3：18～23％；和/或li2o：1～5％，优选li2o：2～5％；和/或zno：14～20％，优选zno：15～19％；和/或tio2：1～6％，优选tio2：2～5％；和/或k2o：0.01～2％,优选k2o：0.1～1％；和/或y2o3：0.01～3％，优选y2o3：0.1～2％；和/或zro2：0.5～4％，优选zro2：0.5～2％；和/或p2o5：0.5～4％，优选p2o5：1～3％；和/或na2o：0～4％，优选na2o：0～2％；和/或mgo：0～5％，优选mgo：0～3％，更优选不含有mgo；和/或b2o3：0～2％，优选b2o3：0～1％；和/或cao+bao+sro：0～4％，优选cao+bao+sro：0～2％；和/或澄清剂：0～1％，优选澄清剂：0～0.5％。
20、(13)根据(1)～(12)任一所述的微晶玻璃制品，其组分按重量百分比表示，含有：la2o3+gd2o3+yb2o3+nb2o5+wo3+bi2o3+ta2o5+teo2：0～5％，优选la2o3+gd2o3+yb2o3+nb2o5+wo3+bi2o3+ta2o5+teo2：0～2％，更优选la2o3+gd2o3+yb2o3+nb2o5+wo3+bi2o3+ta2o5+teo2：0～1％，进一步优选不含有la2o3，和/或不含有gd2o3，和/或不含有yb2o3，和/或不含有nb2o5，和/或不含有wo3，和/或不含有bi2o3，和/或不含有ta2o5，和/或不含有teo2。
21、(14)根据(1)～(13)任一所述的微晶玻璃制品，所述微晶玻璃制品含有尖晶石晶相，优选尖晶石晶相具有比其他晶相更高的重量百分比，更优选尖晶石晶相占微晶玻璃制品的重量百分比为20～50％，进一步优选尖晶石晶相占微晶玻璃制品的重量百分比为30～50％，更进一步优选尖晶石晶相占微晶玻璃制品的重量百分比为35～45％。
22、(15)根据(1)～(14)任一所述的微晶玻璃制品，所述微晶玻璃制品含有石英晶相，优选石英晶相占微晶玻璃制品的重量百分比为20％以下，更优选石英晶相占微晶玻璃制品的重量百分比为10％以下，进一步优选石英晶相占微晶玻璃制品的重量百分比为5％以下，更进一步优选微晶玻璃制品中不含有石英晶相。
23、(16)根据(1)～(15)任一所述的微晶玻璃制品，所述微晶玻璃制品的晶粒尺寸为60nm以下，优选为45nm以下，更优选为30nm以下，进一步优选为10～30nm；和/或离子交换层深度为70μm以上，优选为80～140μm，更优选100～140μm；和/或表面应力为120mpa以上，优选为200～400mpa，更优选为250～400mpa；和/或50μm深度的应力为41mpa以上，优选为41～200mpa，更优选为90～200mpa；和/或落球试验高度为1000mm以上，优选为1300mm以上，更优选为1500mm以上，进一步优选为1700mm以上；和/或耐摔性为1000mm以上，优选为1300mm以上，更优选为1400mm以上，进一步优选为1600mm以上；和/或断裂韧性为1.0mpa·m1/2以上，优选为1.2mpa·m1/2以上，更优选为1.2～1.6mpa·m1/2；和/或四点弯曲强度为500mpa以上，优选为600～1000mpa，更优选为700～1000mpa；和/或抗挤压强度为400n以上，优选为450n以上，更优选为500n以上；和/或杨氏模量为80～110gpa，优选为85～105gpa，更优选为90～105gpa；和/或划痕宽度为70μm以下，优选为60μm以下，更优选为50μm以下，进一步优选为30～50μm；和/或维氏硬度为630kgf/mm2以上，优选为660～800kgf/mm2，更优选为680～800kgf/mm2。
24、(17)根据(1)～(16)任一所述的微晶玻璃制品，1mm以下厚度的微晶玻璃制品的雾度为0.3％以下，优选为0.25％以下，更优选为0.05％～0.2％；和/或400～800nm波长的平均光透过率为88.0％以上，优选为88.5％以上，更优选为89.5％以上；和/或550nm波长的光透过率为88.0％以上，优选为89.0％以上，更优选为89.5％以上；和/或400～800nm的平均光∣b∣值为1.0以下，优选为0.8以下，更优选为0.3～0.6。
25、(18)根据(17)所述的微晶玻璃制品，所述微晶玻璃制品的厚度为0.2～1mm，优选为0.3～0.9mm，更优选为0.5～0.8mm，进一步优选为0.55mm或0.6mm或0.68mm或0.7mm或0.75mm。
26、(19)根据(1)～(18)任一所述的微晶玻璃制品，其组分按重量百分比表示，含有：nio：0～4％；和/或ni2o3：0～4％；和/或coo：0～2％；和/或co2o3：0～2％；和/或fe2o3：0～7％；和/或mno2：0～4％；和/或er2o3：0～8％；和/或nd2o3：0～8％；和/或cu2o：0～4％；和/或pr2o3：0～8％；和/或ceo2：0～4％；和/或ago：0～2％。
27、(20)微晶玻璃，其组分按重量百分比表示，含有：sio2：40～60％；al2o3：15～30％；li2o：0.1～6％；zno：13～23％；tio2：0.5～7％；k2o：大于0但小于或等于3％；y2o3：大于0但小于或等于5.5％，其中k2o/y2o3为0.05～10.0。
28、(21)微晶玻璃，其组分按重量百分比表示，含有：sio2：40～60％；al2o3：15～30％；li2o：0.1～6％；zno：13～23％；tio2：0.5～7％；k2o：大于0但小于或等于3％；y2o3：大于0但小于或等于5.5％。
29、(22)根据(20)或(21)所述的微晶玻璃，其组分按重量百分比表示，还含有：zro2：0～5％；和/或p2o5：0～5％；和/或na2o：0～6％；和/或mgo：0～6％；和/或b2o3：0～4％；和/或cao+bao+sro：0～5％；和/或澄清剂：0～2％。
30、(23)微晶玻璃，其组分中含有sio2、al2o3、zno、li2o、k2o、y2o3和tio2，其组分按重量百分比表示k2o/y2o3为0.05～10.0，所述微晶玻璃含有尖晶石晶相。
31、(24)微晶玻璃，其组分中含有sio2、al2o3和zno，所述微晶玻璃含有尖晶石晶相。
32、(25)微晶玻璃，其组分中含有sio2、al2o3、zno、li2o、y2o3和tio2，所述微晶玻璃的维氏硬度为530kgf/mm2以上。
33、(26)微晶玻璃，其组分中含有sio2、al2o3、zno、li2o、y2o3和tio2，1mm以下厚度的微晶玻璃的雾度为0.3％以下。
34、(27)微晶玻璃，其组分中含有sio2、al2o3、zno、li2o、y2o3和tio2，1mm以下厚度的微晶玻璃的550nm波长的光透过率为88.0％以上。
35、(28)微晶玻璃，其组分中含有sio2、al2o3、zno、li2o和tio2，1mm以下厚度的微晶玻璃的400～800nm的平均光∣b∣值为1.0以下。
36、(29)根据(23)～(28)任一所述的微晶玻璃，其组分按重量百分比表示，含有：sio2：40～60％；和/或al2o3：15～30％；和/或li2o：0.1～6％；和/或zno：13～23％；和/或tio2：0.5～7％；和/或k2o：大于0但小于或等于3％；和/或y2o3：大于0但小于或等于5.5％；和/或zro2：0～5％；和/或p2o5：0～5％；和/或na2o：0～6％；和/或mgo：0～6％；和/或b2o3：0～4％；和/或cao+bao+sro：0～5％；和/或澄清剂：0～2％。
37、(30)根据(20)～(29)任一所述的微晶玻璃，其组分按重量百分比表示，满足以下5种情形中的一种或多种：
38、1)k2o/y2o3为0.05～10.0，优选k2o/y2o3为0.05～5.0，更优选k2o/y2o3为0.05～2.5，进一步优选k2o/y2o3为0.1～2.0；
39、2)al2o3/zno为1.0～2.3，优选al2o3/zno为1.2～2.3，更优选al2o3/zno为1.3～2.3，进一步优选al2o3/zno为1.3～2.0；
40、3)(tio2+zno)/al2o3为0.5～1.5，优选(tio2+zno)/al2o3为0.5～1.2，更优选(tio2+zno)/al2o3为0.6～1.0，进一步优选(tio2+zno)/al2o3为0.6～0.9；
41、4)k2o/(na2o+y2o3)为0.01～3.0，优选k2o/(na2o+y2o3)为0.01～1.5，更优选k2o/(na2o+y2o3)为0.05～1.3，进一步优选k2o/(na2o+y2o3)为0.1～1.0；
42、5)(li2o+na2o+k2o)/(mgo+y2o3)为3.0～10.0，优选(li2o+na2o+k2o)/(mgo+y2o3)为3.0～9.0，更优选(li2o+na2o+k2o)/(mgo+y2o3)为3.5～8.0，进一步优选(li2o+na2o+k2o)/(mgo+y2o3)为4.0～8.0。
43、(31)根据(20)～(30)任一所述的微晶玻璃，其组分按重量百分比表示，含有：sio2：45～55％，优选sio2：48～55％；和/或al2o3：16～26％，优选al2o3：18～23％；和/或li2o：1～5％，优选li2o：2～5％；和/或zno：14～20％，优选zno：15～19％；和/或tio2：1～6％，优选tio2：2～5％；和/或k2o：0.01～2％,优选k2o：0.1～1％；和/或y2o3：0.01～3％，优选y2o3：0.1～2％；和/或zro2：0.5～4％，优选zro2：0.5～2％；和/或p2o5：0.5～4％，优选p2o5：1～3％；和/或na2o：0～4％，优选na2o：0～2％；和/或mgo：0～5％，优选mgo：0～3％，更优选不含有mgo；和/或b2o3：0～2％，优选b2o3：0～1％；和/或cao+bao+sro：0～4％，优选cao+bao+sro：0～2％；和/或澄清剂：0～1％，优选澄清剂：0～0.5％。
44、(32)根据(20)～(31)任一所述的微晶玻璃，其组分按重量百分比表示，含有：la2o3+gd2o3+yb2o3+nb2o5+wo3+bi2o3+ta2o5+teo2：0～5％，优选la2o3+gd2o3+yb2o3+nb2o5+wo3+bi2o3+ta2o5+teo2：0～2％，更优选la2o3+gd2o3+yb2o3+nb2o5+wo3+bi2o3+ta2o5+teo2：0～1％，进一步优选不含有la2o3，和/或不含有gd2o3，和/或不含有yb2o3，和/或不含有nb2o5，和/或不含有wo3，和/或不含有bi2o3，和/或不含有ta2o5，和/或不含有teo2。
45、(33)根据(20)～(32)任一所述的微晶玻璃，所述微晶玻璃含有尖晶石晶相，优选尖晶石晶相具有比其他晶相更高的重量百分比，更优选尖晶石晶相占微晶玻璃的重量百分比为20～50％，进一步优选尖晶石晶相占微晶玻璃的重量百分比为30～50％，更进一步优选尖晶石晶相占微晶玻璃的重量百分比为35～45％。
46、(34)根据(20)～(33)任一所述的微晶玻璃，所述微晶玻璃含有石英晶相，优选石英晶相占微晶玻璃的重量百分比为20％以下，更优选石英晶相占微晶玻璃的重量百分比为10％以下，进一步优选石英晶相占微晶玻璃的重量百分比为5％以下，更进一步优选微晶玻璃中不含有石英晶相。
47、(35)根据(20)～(34)任一所述的微晶玻璃，所述微晶玻璃的晶粒尺寸为60nm以下，优选为45nm以下，更优选为30nm以下，进一步优选为10～30nm；和/或维氏硬度为530kgf/mm2以上，优选为550kgf/mm2以上，更优选为580kgf/mm2以上，进一步优选为600～650kgf/mm2。
48、(36)根据(20)～(35)任一所述的微晶玻璃，1mm以下厚度的微晶玻璃的雾度为0.3％以下，优选为0.25％以下，更优选为0.05％～0.2％；和/或400～800nm波长的平均光透过率为88.0％以上，优选为88.5％以上，更优选为89.5％以上；和/或550nm波长的光透过率为88.0％以上，优选为89.0％以上，更优选为89.5％以上；和/或400～800nm的平均光∣b∣值为1.0以下，优选为0.8以下，更优选为0.3～0.6。
49、(37)根据(36)所述的微晶玻璃，所述微晶玻璃的厚度为0.2～1mm，优选为0.3～0.9mm，更优选为0.5～0.8mm，进一步优选为0.55mm或0.6mm或0.68mm或0.7mm或0.75mm。
50、(38)根据(20)～(37)任一所述的微晶玻璃，其组分按重量百分比表示，含有：nio：0～4％；和/或ni2o3：0～4％；和/或coo：0～2％；和/或co2o3：0～2％；和/或fe2o3：0～7％；和/或mno2：0～4％；和/或er2o3：0～8％；和/或nd2o3：0～8％；和/或cu2o：0～4％；和/或pr2o3：0～8％；和/或ceo2：0～4％；和/或ago：0～2％。
51、(39)微晶玻璃成形体，含有(20)～(38)任一所述的微晶玻璃。
52、(40)玻璃盖板，含有(1)～(19)任一所述的微晶玻璃制品，和/或(20)～(38)任一所述的微晶玻璃，和/或(39)所述的微晶玻璃成形体。
53、(41)玻璃元器件，含有(1)～(19)任一所述的微晶玻璃制品，和/或(20)～(38)任一所述的微晶玻璃，和/或(39)所述的微晶玻璃成形体。
54、(42)电子设备，含有(1)～(19)任一所述的微晶玻璃制品，和/或(20)～(38)任一所述的微晶玻璃，和/或(39)所述的微晶玻璃成形体，和/或(40)所述的玻璃盖板，和/或(41)所述的玻璃元器件。
55、(43)显示设备，含有(1)～(19)任一所述的微晶玻璃制品，和/或(20)～(38)任一所述的微晶玻璃，和/或(39)所述的微晶玻璃成形体，和/或(40)所述的玻璃盖板，和/或(41)所述的玻璃元器件。
56、(44)(1)～(19)任一所述微晶玻璃制品的制造方法，所述方法包括以下步骤：形成基质玻璃，将基质玻璃通过晶化工艺形成微晶玻璃，再将所述微晶玻璃通过化学强化工艺形成微晶玻璃制品。
57、(45)根据(44)所述的微晶玻璃制品的制造方法，所述形成基质玻璃包括以下步骤：按照组分比例将原料混合均匀，然后放入坩埚中，在电炉或燃气炉中在1350～1650℃的温度范围内进行5～24小时熔化，优选熔化温度为1450～1550℃，然后经澄清、均化、成型、退火后得到基质玻璃，所述澄清温度为1550℃～1650℃，退火温度为500～600℃。
58、(46)根据(44)所述的微晶玻璃制品的制造方法，所述晶化工艺包括以下步骤：升温至规定的晶化处理温度，在达到晶化处理温度之后，将其温度保持一定的时间，然后再进行降温，该晶化处理温度为600～800℃，优选为650～750℃，在晶化处理温度下的保持时间为1～10小时，优选为3～6小时。
59、(47)根据(44)所述的微晶玻璃制品的制造方法，所述晶化工艺包括以下步骤：在第1温度下进行成核工艺的处理，然后在第2温度下进行晶体生长工艺的处理。
60、(48)根据(47)所述的微晶玻璃制品的制造方法，所述晶化工艺包括：第1温度为600～700℃，第2温度为大于700℃但小于或等于800℃，在第1温度下的保持时间为1～6小时，在第2温度下的保持时间为2～5小时。
61、(49)根据(44)所述的微晶玻璃制品的制造方法，所述化学强化工艺包括：微晶玻璃浸没于350～470℃的熔融na盐的盐浴中1～36小时，优选温度范围为400～460℃，优选时间范围为2～15小时；和/或微晶玻璃浸没于360～450℃的熔融k盐和na盐的混合盐浴中1～36小时，优选时间范围为2～24小时。
62、(50)(20)～(38)任一所述的微晶玻璃的制造方法，所述方法包括以下步骤：形成基质玻璃，然后将基质玻璃通过晶化工艺形成微晶玻璃。
63、(51)根据(50)所述的微晶玻璃的制造方法，所述形成基质玻璃包括以下步骤：按照组分比例将原料混合均匀，然后放入坩埚中，在电炉或燃气炉中在1350～1650℃的温度范围内进行5～24小时熔化，优选熔化温度为1450～1550℃，然后经澄清、均化、成型、退火后得到基质玻璃，所述澄清温度为1550℃～1650℃，退火温度为500～600℃。
64、(52)根据(50)所述的微晶玻璃的制造方法，所述晶化工艺包括以下步骤：升温至规定的晶化处理温度，在达到晶化处理温度之后，将其温度保持一定的时间，然后再进行降温，该晶化处理温度为600～800℃，优选为650～750℃，在晶化处理温度下的保持时间为1～10小时，优选为3～6小时。
65、(53)根据(50)所述的微晶玻璃的制造方法，所述晶化工艺包括以下步骤：在第1温度下进行成核工艺的处理，然后在第2温度下进行晶体生长工艺的处理。
66、(54)根据(53)所述的微晶玻璃的制造方法，所述晶化工艺包括：第1温度为600～700℃，第2温度为大于700℃但小于或等于800℃，在第1温度下的保持时间为1～6小时，在第2温度下的保持时间为2～5小时。
67、本发明的有益效果是：通过合理的组分设计，本发明获得的微晶玻璃和微晶玻璃制品具有优异的抗划性能。
68、在一些实施方式中，本发明微晶玻璃和微晶玻璃制品还具有优异的光透过率。
1.微晶玻璃制品，其特征在于，其组分按重量百分比表示，含有：sio2：40～60％；al2o3：15～30％；li2o：0.1～6％；zno：13～23％；tio2：0.5～7％；k2o：大于0但小于或等于3％；y2o3：大于0但小于或等于5.5％，其中k2o/y2o3为0.05～10.0。
2.根据权利要求1所述的微晶玻璃制品，其特征在于，其组分按重量百分比表示，还含有：zro2：0～5％；和/或p2o5：0～5％；和/或na2o：0～6％；和/或mgo：0～6％；和/或b2o3：0～4％；和/或cao+bao+sro：0～5％；和/或澄清剂：0～2％。
3.微晶玻璃制品，其特征在于，其组分中含有sio2、al2o3、zno、li2o、k2o、y2o3和tio2，其组分按重量百分比表示k2o/y2o3为0.05～10.0，所述微晶玻璃制品的划痕宽度为70μm以下。
4.根据权利要求3所述的微晶玻璃制品，其特征在于，其组分按重量百分比表示，含有：sio2：40～60％；和/或al2o3：15～30％；和/或li2o：0.1～6％；和/或zno：13～23％；和/或tio2：0.5～7％；和/或k2o：大于0但小于或等于3％；和/或y2o3：大于0但小于或等于5.5％；和/或zro2：0～5％；和/或p2o5：0～5％；和/或na2o：0～6％；和/或mgo：0～6％；和/或b2o3：0～4％；和/或cao+bao+sro：0～5％；和/或澄清剂：0～2％。
5.根据权利要求1～4任一所述的微晶玻璃制品，其特征在于，其组分按重量百分比表示，满足以下5种情形中的一种或多种：
6.根据权利要求1～4任一所述的微晶玻璃制品，其特征在于，其组分按重量百分比表示，含有：sio2：45～55％，优选sio2：48～55％；和/或al2o3：16～26％，优选al2o3：18～23％；和/或li2o：1～5％，优选li2o：2～5％；和/或zno：14～20％，优选zno：15～19％；和/或tio2：1～6％，优选tio2：2～5％；和/或k2o：0.01～2％,优选k2o：0.1～1％；和/或y2o3：0.01～3％，优选y2o3：0.1～2％；和/或zro2：0.5～4％，优选zro2：0.5～2％；和/或p2o5：0.5～4％，优选p2o5：1～3％；和/或na2o：0～4％，优选na2o：0～2％；和/或mgo：0～5％，优选mgo：0～3％，更优选不含有mgo；和/或b2o3：0～2％，优选b2o3：0～1％；和/或cao+bao+sro：0～4％，优选cao+bao+sro：0～2％；和/或澄清剂：0～1％，优选澄清剂：0～0.5％。
7.根据权利要求1～4任一所述的微晶玻璃制品，其特征在于，其组分按重量百分比表示，含有：la2o3+gd2o3+yb2o3+nb2o5+wo3+bi2o3+ta2o5+teo2：0～5％，优选la2o3+gd2o3+yb2o3+nb2o5+wo3+bi2o3+ta2o5+teo2：0～2％，更优选la2o3+gd2o3+yb2o3+nb2o5+wo3+bi2o3+ta2o5+teo2：0～1％，进一步优选不含有la2o3，和/或不含有gd2o3，和/或不含有yb2o3，和/或不含有nb2o5，和/或不含有wo3，和/或不含有bi2o3，和/或不含有ta2o5，和/或不含有teo2。
8.根据权利要求1～4任一所述的微晶玻璃制品，其特征在于，所述微晶玻璃制品含有尖晶石晶相，优选尖晶石晶相具有比其他晶相更高的重量百分比，更优选尖晶石晶相占微晶玻璃制品的重量百分比为20～50％，进一步优选尖晶石晶相占微晶玻璃制品的重量百分比为30～50％，更进一步优选尖晶石晶相占微晶玻璃制品的重量百分比为35～45％。
9.根据权利要求1～4任一所述的微晶玻璃制品，其特征在于，所述微晶玻璃制品含有石英晶相，优选石英晶相占微晶玻璃制品的重量百分比为20％以下，更优选石英晶相占微晶玻璃制品的重量百分比为10％以下，进一步优选石英晶相占微晶玻璃制品的重量百分比为5％以下，更进一步优选微晶玻璃制品中不含有石英晶相。
10.根据权利要求1～4任一所述的微晶玻璃制品，其特征在于，所述微晶玻璃制品的晶粒尺寸为60nm以下，优选为45nm以下，更优选为30nm以下，进一步优选为10～30nm；和/或离子交换层深度为70μm以上，优选为80～140μm，更优选100～140μm；和/或表面应力为120mpa以上，优选为200～400mpa，更优选为250～400mpa；和/或50μm深度的应力为41mpa以上，优选为41～200mpa，更优选为90～200mpa；和/或落球试验高度为1000mm以上，优选为1300mm以上，更优选为1500mm以上，进一步优选为1700mm以上；和/或耐摔性为1000mm以上，优选为1300mm以上，更优选为1400mm以上，进一步优选为1600mm以上；和/或断裂韧性为1.0mpa·m1/2以上，优选为1.2mpa·m1/2以上，更优选为1.2～1.6mpa·m1/2；和/或四点弯曲强度为500mpa以上，优选为600～1000mpa，更优选为700～1000mpa；和/或抗挤压强度为400n以上，优选为450n以上，更优选为500n以上；和/或杨氏模量为80～110gpa，优选为85～105gpa，更优选为90～105gpa；和/或划痕宽度为70μm以下，优选为60μm以下，更优选为50μm以下，进一步优选为30～50μm；和/或维氏硬度为630kgf/mm2以上，优选为660～800kgf/mm2，更优选为680～800kgf/mm2。
11.根据权利要求1～4任一所述的微晶玻璃制品，其特征在于，1mm以下厚度的微晶玻璃制品的雾度为0.3％以下，优选为0.25％以下，更优选为0.05％～0.2％；和/或400～800nm波长的平均光透过率为88.0％以上，优选为88.5％以上，更优选为89.5％以上；和/或550nm波长的光透过率为88.0％以上，优选为89.0％以上，更优选为89.5％以上；和/或400～800nm的平均光∣b∣值为1.0以下，优选为0.8以下，更优选为0.3～0.6。
12.根据权利要求11所述的微晶玻璃制品，其特征在于，所述微晶玻璃制品的厚度为0.2～1mm，优选为0.3～0.9mm，更优选为0.5～0.8mm，进一步优选为0.55mm或0.6mm或0.68mm或0.7mm或0.75mm。
13.根据权利要求1～4任一所述的微晶玻璃制品，其特征在于，其组分按重量百分比表示，含有：nio：0～4％；和/或ni2o3：0～4％；和/或coo：0～2％；和/或co2o3：0～2％；和/或fe2o3：0～7％；和/或mno2：0～4％；和/或er2o3：0～8％；和/或nd2o3：0～8％；和/或cu2o：0～4％；和/或pr2o3：0～8％；和/或ceo2：0～4％；和/或ago：0～2％。
14.微晶玻璃，其特征在于，其组分按重量百分比表示，含有：sio2：40～60％；al2o3：15～30％；li2o：0.1～6％；zno：13～23％；tio2：0.5～7％；k2o：大于0但小于或等于3％；y2o3：大于0但小于或等于5.5％，其中k2o/y2o3为0.05～10.0。
15.根据权利要求14所述的微晶玻璃，其特征在于，其组分按重量百分比表示，还含有：zro2：0～5％；和/或p2o5：0～5％；和/或na2o：0～6％；和/或mgo：0～6％；和/或b2o3：0～4％；和/或cao+bao+sro：0～5％；和/或澄清剂：0～2％。
16.微晶玻璃，其特征在于，其组分中含有sio2、al2o3、zno、li2o、k2o、y2o3和tio2，其组分按重量百分比表示k2o/y2o3为0.05～10.0，所述微晶玻璃含有尖晶石晶相。
17.根据权利要求16所述的微晶玻璃，其特征在于，其组分按重量百分比表示，含有：sio2：40～60％；和/或al2o3：15～30％；和/或li2o：0.1～6％；和/或zno：13～23％；和/或tio2：0.5～7％；和/或k2o：大于0但小于或等于3％；和/或y2o3：大于0但小于或等于5.5％；和/或zro2：0～5％；和/或p2o5：0～5％；和/或na2o：0～6％；和/或mgo：0～6％；和/或b2o3：0～4％；和/或cao+bao+sro：0～5％；和/或澄清剂：0～2％。
18.根据权利要求14～17任一所述的微晶玻璃，其特征在于，其组分按重量百分比表示，满足以下5种情形中的一种或多种：
19.根据权利要求14～17任一所述的微晶玻璃，其特征在于，其组分按重量百分比表示，含有：sio2：45～55％，优选sio2：48～55％；和/或al2o3：16～26％，优选al2o3：18～23％；和/或li2o：1～5％，优选li2o：2～5％；和/或zno：14～20％，优选zno：15～19％；和/或tio2：1～6％，优选tio2：2～5％；和/或k2o：0.01～2％,优选k2o：0.1～1％；和/或y2o3：0.01～3％，优选y2o3：0.1～2％；和/或zro2：0.5～4％，优选zro2：0.5～2％；和/或p2o5：0.5～4％，优选p2o5：1～3％；和/或na2o：0～4％，优选na2o：0～2％；和/或mgo：0～5％，优选mgo：0～3％，更优选不含有mgo；和/或b2o3：0～2％，优选b2o3：0～1％；和/或cao+bao+sro：0～4％，优选cao+bao+sro：0～2％；和/或澄清剂：0～1％，优选澄清剂：0～0.5％。
20.根据权利要求14～17任一所述的微晶玻璃，其特征在于，其组分按重量百分比表示，含有：la2o3+gd2o3+yb2o3+nb2o5+wo3+bi2o3+ta2o5+teo2：0～5％，优选la2o3+gd2o3+yb2o3+nb2o5+wo3+bi2o3+ta2o5+teo2：0～2％，更优选la2o3+gd2o3+yb2o3+nb2o5+wo3+bi2o3+ta2o5+teo2：0～1％，进一步优选不含有la2o3，和/或不含有gd2o3，和/或不含有yb2o3，和/或不含有nb2o5，和/或不含有wo3，和/或不含有bi2o3，和/或不含有ta2o5，和/或不含有teo2。
21.根据权利要求14～17任一所述的微晶玻璃，其特征在于，所述微晶玻璃含有尖晶石晶相，优选尖晶石晶相具有比其他晶相更高的重量百分比，更优选尖晶石晶相占微晶玻璃的重量百分比为20～50％，进一步优选尖晶石晶相占微晶玻璃的重量百分比为30～50％，更进一步优选尖晶石晶相占微晶玻璃的重量百分比为35～45％。
22.根据权利要求14～17任一所述的微晶玻璃，其特征在于，所述微晶玻璃含有石英晶相，优选石英晶相占微晶玻璃的重量百分比为20％以下，更优选石英晶相占微晶玻璃的重量百分比为10％以下，进一步优选石英晶相占微晶玻璃的重量百分比为5％以下，更进一步优选微晶玻璃中不含有石英晶相。
23.根据权利要求14～17任一所述的微晶玻璃，其特征在于，所述微晶玻璃的晶粒尺寸为60nm以下，优选为45nm以下，更优选为30nm以下，进一步优选为10～30nm；和/或维氏硬度为530kgf/mm2以上，优选为550kgf/mm2以上，更优选为580kgf/mm2以上，进一步优选为600～650kgf/mm2。
24.根据权利要求14～17任一所述的微晶玻璃，其特征在于，1mm以下厚度的微晶玻璃的雾度为0.3％以下，优选为0.25％以下，更优选为0.05％～0.2％；和/或400～800nm波长的平均光透过率为88.0％以上，优选为88.5％以上，更优选为89.5％以上；和/或550nm波长的光透过率为88.0％以上，优选为89.0％以上，更优选为89.5％以上；和/或400～800nm的平均光∣b∣值为1.0以下，优选为0.8以下，更优选为0.3～0.6。
25.根据权利要求24所述的微晶玻璃，其特征在于，所述微晶玻璃的厚度为0.2～1mm，优选为0.3～0.9mm，更优选为0.5～0.8mm，进一步优选为0.55mm或0.6mm或0.68mm或0.7mm或0.75mm。
26.根据权利要求14～17任一所述的微晶玻璃，其特征在于，其组分按重量百分比表示，含有：nio：0～4％；和/或ni2o3：0～4％；和/或coo：0～2％；和/或co2o3：0～2％；和/或fe2o3：0～7％；和/或mno2：0～4％；和/或er2o3：0～8％；和/或nd2o3：0～8％；和/或cu2o：0～4％；和/或pr2o3：0～8％；和/或ceo2：0～4％；和/或ago：0～2％。
27.微晶玻璃成形体，其特征在于，含有权利要求14～26任一所述的微晶玻璃。
28.玻璃盖板，其特征在于，含有权利要求1～13任一所述的微晶玻璃制品，和/或权利要求14～26任一所述的微晶玻璃，和/或权利要求27所述的微晶玻璃成形体。
29.玻璃元器件，其特征在于，含有权利要求1～13任一所述的微晶玻璃制品，和/或权利要求14～26任一所述的微晶玻璃，和/或权利要求27所述的微晶玻璃成形体。
30.电子设备，其特征在于，含有权利要求1～13任一所述的微晶玻璃制品，和/或权利要求14～26任一所述的微晶玻璃，和/或权利要求27所述的微晶玻璃成形体，和/或权利要求28所述的玻璃盖板，和/或权利要求29所述的玻璃元器件。
31.显示设备，其特征在于，含有权利要求1～13任一所述的微晶玻璃制品，和/或权利要求14～26任一所述的微晶玻璃，和/或权利要求27所述的微晶玻璃成形体，和/或权利要求28所述的玻璃盖板，和/或权利要求29所述的玻璃元器件。
32.权利要求1～13任一所述微晶玻璃制品的制造方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：形成基质玻璃，将基质玻璃通过晶化工艺形成微晶玻璃，再将所述微晶玻璃通过化学强化工艺形成微晶玻璃制品。
33.根据权利要求32所述的微晶玻璃制品的制造方法，其特征在于，所述形成基质玻璃包括以下步骤：按照组分比例将原料混合均匀，然后放入坩埚中，在电炉或燃气炉中在1350～1650℃的温度范围内进行5～24小时熔化，优选熔化温度为1450～1550℃，然后经澄清、均化、成型、退火后得到基质玻璃，所述澄清温度为1550℃～1650℃，退火温度为500～600℃。
34.根据权利要求32所述的微晶玻璃制品的制造方法，其特征在于，所述晶化工艺包括以下步骤：升温至规定的晶化处理温度，在达到晶化处理温度之后，将其温度保持一定的时间，然后再进行降温，该晶化处理温度为600～800℃，优选为650～750℃，在晶化处理温度下的保持时间为1～10小时，优选为3～6小时。
35.根据权利要求32所述的微晶玻璃制品的制造方法，其特征在于，所述晶化工艺包括以下步骤：在第1温度下进行成核工艺的处理，然后在第2温度下进行晶体生长工艺的处理。
36.根据权利要求35所述的微晶玻璃制品的制造方法，其特征在于，所述晶化工艺包括：第1温度为600～700℃，第2温度为大于700℃但小于或等于800℃，在第1温度下的保持时间为1～6小时，在第2温度下的保持时间为2～5小时。
37.根据权利要求32所述的微晶玻璃制品的制造方法，其特征在于，所述化学强化工艺包括：微晶玻璃浸没于350～470℃的熔融na盐的盐浴中1～36小时，优选温度范围为400～460℃，优选时间范围为2～15小时；和/或微晶玻璃浸没于360～450℃的熔融k盐和na盐的混合盐浴中1～36小时，优选时间范围为2～24小时。
38.权利要求14～26任一所述的微晶玻璃的制造方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：形成基质玻璃，然后将基质玻璃通过晶化工艺形成微晶玻璃。
39.根据权利要求38所述的微晶玻璃的制造方法，其特征在于，所述形成基质玻璃包括以下步骤：按照组分比例将原料混合均匀，然后放入坩埚中，在电炉或燃气炉中在1350～1650℃的温度范围内进行5～24小时熔化，优选熔化温度为1450～1550℃，然后经澄清、均化、成型、退火后得到基质玻璃，所述澄清温度为1550℃～1650℃，退火温度为500～600℃。
40.根据权利要求38所述的微晶玻璃的制造方法，其特征在于，所述晶化工艺包括以下步骤：升温至规定的晶化处理温度，在达到晶化处理温度之后，将其温度保持一定的时间，然后再进行降温，该晶化处理温度为600～800℃，优选为650～750℃，在晶化处理温度下的保持时间为1～10小时，优选为3～6小时。
41.根据权利要求38所述的微晶玻璃的制造方法，其特征在于，所述晶化工艺包括以下步骤：在第1温度下进行成核工艺的处理，然后在第2温度下进行晶体生长工艺的处理。
42.根据权利要求41所述的微晶玻璃的制造方法，其特征在于，所述晶化工艺包括：第1温度为600～700℃，第2温度为大于700℃但小于或等于800℃，在第1温度下的保持时间为1～6小时，在第2温度下的保持时间为2～5小时。
