本技术涉及显示，具体而言，涉及一种辅助膜厚检测装置及方法。
背景技术：
1、在有机发光二极管(organic light-emitting diode，简称oled)显示面板的制作过程中，很多膜层采用蒸镀方式形成。蒸镀膜层的厚度偏差会影响显示面板的性能，为此对蒸镀膜层的厚度进行监控就变得特别重要。
技术实现思路
1、为了克服上述技术背景中所提及的技术问题，本技术实施例提供一种辅助膜厚检测装置及方法。
2、本技术的第一方面，提供一种辅助膜厚检测装置，所述装置包括：
3、蒸镀板，所述蒸镀板用于蒸镀膜层；
4、第一掩膜版及第二掩膜版，所述第一掩膜版设置有用于在所述蒸镀板上限定出蒸镀区域的蒸镀开口，所述第二掩膜版设置有在所述蒸镀区域内限定出蒸镀范围的掩膜开口；
5、驱动机构，所述驱动机构分别与所述第一掩膜版及所述第二掩膜版连接，用于驱动所述第一掩膜版和所述第二掩膜版相对所述蒸镀板移动。
6、在上述结构中，驱动机构可以驱动第一掩膜版和第二掩膜版相对蒸镀板移动，如此可以在不同的蒸镀腔蒸镀膜层时，在蒸镀开口限定的蒸镀区域的不同位置处形成蒸镀膜层，以使不同蒸镀膜层形成在一个蒸镀板上以便后续进行膜层厚度测量，减小所需蒸镀板的数量，降低对蒸镀膜层厚度进行监控的成本。
7、在本技术的一种可能实施方式中，所述第一掩膜版与所述第二掩膜版平行设置；
8、优选地，所述掩膜开口用于限定每次在所述蒸镀区域内的蒸镀范围。
9、在本技术的一种可能实施方式中，所述驱动机构还用于驱动所述第二掩膜版相对于所述第一掩膜版移动，以使所述第二掩膜版上的掩膜开口相对于所述第一掩膜版在所述蒸镀开口的延伸方向移动。
10、在本技术的一种可能实施方式中，所述装置还包括：载体；
11、所述蒸镀板设置在所述载体的一侧；
12、所述第一掩膜版位于所述蒸镀板远离所述载体的一侧；
13、所述第二掩膜版位于所述第一掩膜版远离所述载体的一侧。
14、在本技术的一种可能实施方式中，所述第一掩膜版与所述第二掩膜版之间的距离为0.2mm～0.4mm。
15、在本技术的一种可能实施方式中，所述驱动机构包括第一驱动机构、第二驱动机构及第三驱动机构；
16、所述第一驱动机构用于驱动所述第一掩膜版及所述第二掩膜版从平行于所述蒸镀板所在平面的第一方向靠近或远离所述蒸镀板；
17、所述第二驱动机构用于驱动所述第一掩膜版及所述第二掩膜版从垂直于所述蒸镀板所在平面的第二方向靠近或远离所述蒸镀板；
18、所述第三驱动机构用于驱动所述第二掩膜版相对于所述第一掩膜版移动，以使所述掩膜开口沿所述蒸镀开口延伸的第三方向移动；
19、优选地，所述第一方向、所述第二方向及所述第三方向相互垂直。
20、在本技术的一种可能实施方式中，所述蒸镀开口的开口尺寸大于所述掩膜开口的开口尺寸；
21、所述掩膜开口在所述第一掩膜版上的正投影位于所述蒸镀开口内。
22、在本技术的一种可能实施方式中，所述蒸镀板为玻璃基板；
23、优选地，所述第一掩膜版及所述第二掩膜版为金属掩膜版。
24、在本技术的一种可能实施方式中，所述蒸镀开口包括第一蒸镀开口、第二蒸镀开口及第三蒸镀开口；
25、所述第一蒸镀开口用于在所述蒸镀板上限定出蒸镀光学膜层的第一蒸镀区域，所述第二蒸镀开口用于在所述蒸镀板上限定出蒸镀非金属膜层的第二蒸镀区域，所述第三蒸镀开口用于在所述蒸镀板上限定出蒸镀金属膜层的第三蒸镀区域；
26、所述掩膜开口包括第一掩膜开口、第二掩膜开口及第三掩膜开口，所述第一掩膜开口用于在所述第一蒸镀区域中蒸镀形成待测量发光元件的光学膜层，所述第二掩膜开口用于在所述第二蒸镀区域的不同位置处形成不同的非金属膜层，所述第三掩膜开口用于在所述第三蒸镀区域中形成部分重叠的两金属膜层。
27、在本技术的一种可能实施方式中，在沿所述蒸镀开口延伸的方向，所述第一掩膜开口的长度、所述第三掩膜开口的长度及所述第二掩膜开口的长度依次减小。
28、在本技术的一种可能实施方式中，所述第一掩膜开口的长度为19mm～22mm，所述第二掩膜开口的长度为4.7mm～5.2mm，所述第三掩膜开口的长度为12mm～14mm。
29、本技术的第二方面，还提供一种辅助膜厚检测方法，应用于第一方面中任意一项中所述的辅助膜厚检测装置，所述方法包括：
30、控制所述驱动机构将所述第一掩膜版及所述第二掩膜版移动到所述蒸镀板的上方；
31、通过控制所述掩膜开口与所述蒸镀开口的位置关系，在所述蒸镀区域中蒸镀不同的膜层。
32、在本技术的一种可能实施方式中，所述蒸镀开口包括用于在所述蒸镀板上限定出第一蒸镀区域的第一蒸镀开口，所述掩膜开口包括用于在所述第一蒸镀区域中蒸镀膜层的第一掩膜开口，所述通过控制所述掩膜开口与所述蒸镀开口的位置关系，在所述蒸镀区域中蒸镀不同的膜层的步骤包括：
33、通过所述第一掩膜开口在所述第一蒸镀区域中依次蒸镀层叠的膜层得到发光材料层；
34、控制所述驱动机构驱动所述第二掩膜版相对于所述第一掩膜版移动，以使所述第一掩膜开口在所述第一蒸镀开口的延伸方向移动第一预设距离，其中，所述第一预设距离小于所述第一掩膜开口在所述第一蒸镀开口的延伸方向上的长度；
35、通过位置调整后的第一掩膜开口在所述第一蒸镀区域中蒸镀金属膜层，其中，所述金属膜层部分搭接于所述发光材料层远离所述蒸镀板的一侧；
36、优选地，所述方法还包括：
37、通过制作在所述第一蒸镀区域中的膜层测量发光元件的发光性能。
38、在本技术的一种可能实施方式中，所述蒸镀开口包括用于在所述蒸镀板上限定出第二蒸镀区域的第二蒸镀开口，所述掩膜开口包括用于在所述第二蒸镀区域的不同位置处形成不同的非金属膜层的第二掩膜开口，所述通过控制所述掩膜开口与所述蒸镀开口的位置关系，在所述蒸镀区域中蒸镀不同的膜层的步骤包括：
39、通过所述第二掩膜开口在所述第二蒸镀区域中蒸镀一非金属膜层；
40、控制所述驱动机构驱动所述第二掩膜版相对于所述第一掩膜版移动，以使所述第二掩膜开口在所述第二蒸镀开口的延伸方向移动第二预设距离，其中，所述第二预设距离大于或等于所述第二掩膜开口在所述第二蒸镀开口的延伸方向上长度的四分之三；
41、重复上述步骤，直到所需测量的所有非金属膜层均在所述第二蒸镀区域形成膜层；
42、优选地，所述方法还包括：
43、采用椭偏仪分别测量所述第二蒸镀区域中不同非金属膜层的膜层厚度。
44、在本技术的一种可能实施方式中，所述蒸镀开口包括用于在所述蒸镀板上限定出第三蒸镀区域的第三蒸镀开口，所述掩膜开口包括用于在所述第三蒸镀区域形成金属膜层的第三掩膜开口，所述通过控制所述掩膜开口与所述蒸镀开口的位置关系，在所述蒸镀区域中蒸镀不同的膜层的步骤包括：
45、通过所述第三掩膜开口在所述第三蒸镀区域中蒸镀第一金属膜层；
46、控制所述驱动机构驱动所述第二掩膜版相对于所述第一掩膜版移动，以使所述第三掩膜开口在所述第三蒸镀开口的延伸方向移动第三预设距离，其中，所述第三预设距离小于所述第三掩膜开口在所述第三蒸镀开口的延伸方向上的长度；
47、通过位置调整后的第三掩膜开口在所述第三蒸镀区域中蒸镀第二金属膜层，其中，所述第一金属膜层与所述第二金属膜层部分重叠；
48、优选地，所述方法还包括：
49、采用椭偏仪在只分布有所述第一金属膜层和所述第二金属膜层的位置处分别测量所述金属膜层的膜层厚度和所述第二金属膜层的膜层厚度；
50、采用椭偏仪在所述第一金属膜层和所述第二金属膜层的重叠位置处测量金属膜层阻值及金属膜层穿透率。
51、本技术实施例提供一种辅助膜厚检测装置及方法，驱动机构可以驱动第一掩膜版和第二掩膜版相对蒸镀板移动，如此可以在不同的蒸镀腔蒸镀膜层时，在蒸镀开口限定的蒸镀区域的不同位置处形成蒸镀膜层，以使不同蒸镀膜层形成在一个蒸镀板上以便后续进行膜层厚度测量，减小所需蒸镀板的数量，降低对蒸镀膜层厚度进行监控的成本。
1.一种辅助膜厚检测装置，其特征在于，所述装置包括：
2.如权利要求1所述的辅助膜厚检测装置，其特征在于，所述第一掩膜版与所述第二掩膜版平行设置；
3.如权利要求1所述的辅助膜厚检测装置，其特征在于，所述驱动机构还用于驱动所述第二掩膜版相对于所述第一掩膜版移动，以使所述第二掩膜版上的掩膜开口相对于所述第一掩膜版在所述蒸镀开口的延伸方向移动。
4.如权利要求1所述的辅助膜厚检测装置，其特征在于，所述装置还包括：载体；
5.如权利要求1所述的辅助膜厚检测装置，其特征在于，
6.如权利要求1所述的辅助膜厚检测装置，其特征在于，所述驱动机构包括第一驱动机构、第二驱动机构及第三驱动机构；
7.如权利要求1所述的辅助膜厚检测装置，其特征在于，所述蒸镀开口的开口尺寸大于所述掩膜开口的开口尺寸；
8.如权利要求1所述的辅助膜厚检测装置，其特征在于，
9.如权利要求1-8中任意一项所述的辅助膜厚检测装置，其特征在于，所述蒸镀开口包括第一蒸镀开口、第二蒸镀开口及第三蒸镀开口；
10.如权利要求9所述的辅助膜厚检测装置，其特征在于，
11.如权利要求10所述的辅助膜厚检测装置，其特征在于，
12.一种辅助膜厚检测方法，其特征在于，应用于权利要求1-11中任意一项所述的辅助膜厚检测装置，所述方法包括：
13.如权利要求12所述的辅助膜厚检测方法，其特征在于，所述蒸镀开口包括用于在所述蒸镀板上限定出第一蒸镀区域的第一蒸镀开口，所述掩膜开口包括用于在所述第一蒸镀区域中蒸镀膜层的第一掩膜开口，所述通过控制所述掩膜开口与所述蒸镀开口的位置关系，在所述蒸镀区域中蒸镀不同的膜层的步骤包括：
14.如权利要求12所述的辅助膜厚检测方法，其特征在于，所述蒸镀开口包括用于在所述蒸镀板上限定出第二蒸镀区域的第二蒸镀开口，所述掩膜开口包括用于在所述第二蒸镀区域的不同位置处形成不同的非金属膜层的第二掩膜开口，所述通过控制所述掩膜开口与所述蒸镀开口的位置关系，在所述蒸镀区域中蒸镀不同的膜层的步骤包括：
15.如权利要求12所述的辅助膜厚检测方法，其特征在于，所述蒸镀开口包括用于在所述蒸镀板上限定出第三蒸镀区域的第三蒸镀开口，所述掩膜开口包括用于在所述第三蒸镀区域形成金属膜层的第三掩膜开口，所述通过控制所述掩膜开口与所述蒸镀开口的位置关系，在所述蒸镀区域中蒸镀不同的膜层的步骤包括：
