本发明涉及一种基板处理设备和基板处理方法，并且具体来说，涉及一种用于处理基板的基板处理设备和基板处理方法。
背景技术：
1、在半导体制造工艺中，曝光工艺将光致抗蚀剂施加到基板上，通过使用掩模曝光光致抗蚀剂，并且显影曝光的基板，以在基板上的光致抗蚀剂膜上形成电路图案。
2、在这种情况下，典型的半导体制造工艺还执行边缘曝光工艺，以通过在将光致抗蚀剂膜曝光成电路图案之前曝光光致抗蚀剂的边缘来减少微粒。
3、在该工艺中，边缘曝光工艺由主传送机器人执行，主传送机器人将基板装载到边缘曝光室中以曝光基板的边缘，然后将经边缘曝光的基板传送回缓冲器侧以进行临时装载。然后，由另一个传送机器人将临时装载在缓冲器中的基板装载到曝光装置。
4、在这种情况下，主传送机器人不仅用于传送经边缘曝光的基板，还用于将基板传送到液体处理室和热处理室中的每一者。
5、结果，主传送机器人重复执行将基板装载到边缘曝光室并然后将经边缘曝光的基板传送回缓冲器侧的任务，这增加了传送经边缘曝光的基板的时间，导致较低的基板生产率。
技术实现思路
1、本发明致力于提供一种基板处理设备和基板处理方法，其可以通过防止在液体处理室和热处理室之间传送基板的主传送机器人传送经边缘曝光的基板来增加所生产的基板的数量。
2、本发明的目的不限于此，并且本领域的普通技术人员将从以下描述中清楚地理解未提及的其他目的。
3、本发明的示例性实施例提供了一种基板处理设备，其包括：转位模块；缓冲器模块；处理模块；以及接口模块，其中转位模块包括：装载端口，其中放置接收基板的容器；以及转位框架，其设置有用于在放置在装载端口中的容器和缓冲器模块之间传送基板的转位机器人，缓冲器模块设置有缓冲器，在所述缓冲器中放置基板，处理模块包括：液体处理室，其用于对从缓冲器模块装载的基板进行液体处理；热处理室，其用于热处理从缓冲器模块接收的基板；以及传送室，其设置在液体处理室和热处理室之间，并且设置有用于将基板分别传送到缓冲器模块、液体处理室和热处理室的主传送机器人，接口模块包括：接口框架，其位于处理模块和外部曝光装置之间；边缘曝光室，其设置在接口框架内，并在基板上执行边缘曝光工艺；以及接口机器人，其设置在接口框架内并传送基板，并且主传送机器人和接口机器人中的每一者将基板装载到边缘曝光室中或从边缘曝光室中卸载基板。
4、根据示例性实施例，主传送机器人可以设置成将基板装载到边缘曝光室中，并且接口机器人可以设置成卸载装载到边缘曝光室中的基板。
5、根据示例性实施例，主传送机器人可以设置成不卸载边缘曝光室内的基板。
6、根据示例性实施例，处理模块还可以包括：涂覆模块，其用于在基板上执行涂覆工艺；以及显影模块，其用于在基板上执行显影工艺，涂覆模块和显影模块可以各自包括液体处理室、热处理室和主传送机器人，涂覆模块和显影模块可以设置成堆叠式的，并且设置在涂覆模块中的主传送机器人可以设置成将基板传送到边缘曝光室。
7、根据示例性实施例，边缘曝光室可以包括：边缘曝光壳体，其具有处理空间；边缘曝光支撑单元，其设置在边缘曝光壳体的处理空间内并支撑基板；以及曝光源，其设置在边缘曝光壳体的处理空间内并用光照射基板的边缘，并且边缘曝光壳体还可以包括：入口，其设置为用于将主传送机器人移动到处理空间中的通道，以及出口，其设置为用于将接口机器人移动到处理空间中的通道。
8、根据示例性实施例，其中形成有入口的壁主体和其中形成有出口的壁主体可以彼此垂直地设置。
9、根据示例性实施例，接口模块还可以包括接口缓冲器，所述接口缓冲器用于装载由接口机器人从边缘曝光室卸载的基板，并且在这种情况下，接口缓冲器可以设置在边缘曝光室的上部空间或下部空间中。
10、根据示例性实施例，边缘曝光室的出口和接口缓冲器的入口端口可以具有与其中基板进入和退出的方向一致。
11、根据示例性实施例，接口缓冲器可以包括：接口第一缓冲器，其设置成用于装载从边缘曝光室卸载的基板；以及接口第二缓冲器，其设置成用于由接口机器人装载由曝光装置曝光的基板。
12、根据示例性实施例，接口机器人还可以包括：第一接口机器人，其用于卸载在边缘曝光室中边缘曝光的基板并将基板装载到接口第一缓冲器中，并且用于将装载在接口第一缓冲器中的基板传送到曝光装置；以及第二接口机器人，其与第一接口机器人相反地设置，其中边缘曝光室设置在第一接口机器人和第二接口机器人之间，并设置成用于将由曝光装置曝光的基板装载到接口第二缓冲器。
13、根据示例性实施例，第二接口机器人可以设置在与其中形成边缘曝光壳体的出口形成的方向相反的位置中。
14、根据示例性实施例，接口模块还可以包括缺陷检查单元，其安装在用于将基板从传送室装载到边缘曝光室的侧面的路径中，并检查装载到边缘曝光室中的基板的缺陷。
15、根据示例性实施例，主传送机器人可以设置成可沿着传送室的纵向方向移动，传送室的纵向方向上的一个端部可以与缓冲器模块相邻，传送室的纵向方向上的另一个端部可以与接口模块相邻，并且边缘曝光室可以与传送室的另一个端部相邻。
16、本发明的另一个示例性实施例提供了一种基板处理方法，其包括：膜处理操作，其中主传送机器人将基板传送到液体处理室和热处理单元中的每一者以在基板上形成液体处理膜，并且对其上形成有液体处理膜的基板进行热处理；边缘曝光操作，其中主传送机器人将已经在其上执行了膜处理操作的基板装载到形成在曝光装置的前端处的接口模块的边缘曝光室，以对基板进行边缘曝光；以及电路图案曝光操作，其中接口机器人将在边缘曝光操作中边缘曝光的基板装载到曝光装置中以曝光电路图案。
17、根据示例性实施例，方法还可以包括边缘曝光后基板装载操作，其在边缘曝光操作和电路图案曝光操作之间执行，并且在所述边缘曝光后基板装载操作中，接口机器人将边缘曝光室中的经边缘曝光的基板装载到接口缓冲器中，其中电路图案曝光操作可以包括：由接口机器人将接口缓冲器中的经边缘曝光的基板装载到曝光装置。
18、根据示例性实施例，在边缘曝光操作中，在将基板装载到边缘曝光室中之后，主传送机器人可以不从边缘曝光室中卸载基板。
19、根据示例性实施例，在边缘曝光后基板装载操作中，在接口机器人装载和卸载经边缘曝光的基板的同时，主传送机器人可以在液体处理室和热处理室之间传送基板。
20、根据示例性实施例，主传送机器人可以设置成在传送室内沿传送室的纵向方向移动，并且边缘曝光操作可以包括：由主传送机器人在沿传送室的纵向方向延伸的线上将基板装载到边缘曝光室中。
21、根据示例性实施例，边缘曝光操作可以包括：当基板装载到边缘曝光室中时，通过缺陷检查单元检查基板的缺陷。
22、本发明的又一个示例性实施例提供了一种基板处理设备，其包括：涂覆模块，其在基板上执行涂覆工艺；以及显影模块，其在基板上执行显影工艺；其中涂覆模块和显影模块各自包括液体处理室、热处理室和主传送机器人，涂覆模块和显影模块设置成堆叠式的，并且设置在涂覆模块中的主传送机器人设置成将基板传送到边缘曝光室，主传送机器人设置成可沿着传送室的纵向方向移动，传送室的纵向方向上的一个端部邻近缓冲器模块，以及传送室的纵向方向上的另一个端部邻近接口模块，并且边缘曝光室定位成邻近传送室的另一个端部；边缘曝光室包括：边缘曝光壳体，其具有处理空间；边缘曝光支撑单元，其设置在边缘曝光壳体的处理空间内并支撑基板；以及曝光源，其设置在边缘曝光壳体的处理空间内并用光照射基板的边缘，并且边缘曝光壳体还可以包括：入口，其设置为用于将主传送机器人移动到处理空间中的通道，以及出口，其设置为用于将接口机器人移动到处理空间中的通道，其中形成入口的壁主体和其中形成出口的壁主体彼此垂直设置，并且边缘曝光室的出口和接口缓冲器的入口端口具有与其中基板进入和退出的方向相同的方向；并且接口模块还可以包括接口缓冲器，所述接口缓冲器用于装载由接口机器人从边缘曝光室卸载的基板，并且接口缓冲器设置在边缘曝光室的上部空间或下部空间中，并且包括：接口第一缓冲器，其设置成用于装载从边缘曝光室卸载的基板；以及接口第二缓冲器，其设置成用于由接口机器人装载已经由曝光装置曝光的基板；接口机器人包括：第一接口机器人，其用于卸载在边缘曝光室中边缘曝光的基板并将基板装载到接口第一缓冲器中，并且用于将装载在接口第一缓冲器中的基板传送到曝光装置；以及第二接口机器人，其与第一接口机器人相反地设置，其中边缘曝光室设置在第一接口机器人和第二接口机器人之间，并设置用于将曝光装置曝光的基板装载到接口第二缓冲器，并且第二接口机器人设置在与其中形成边缘曝光壳体的出口的方向相反的位置中；并且接口模块还包括缺陷检查单元，其安装在边缘曝光室的入口周围，并且检查装载到边缘曝光室中的基板的缺陷。
23、根据本发明，在液体处理室和热处理室之间传送基板的主传送机器人不传送经边缘曝光的基板，从而增加了基板的产量。
24、本发明的效果不限于上述效果，并且本领域技术人员从本说明书和附图中可以清楚地理解未提及的效果。
1.一种基板处理设备，其包括：
2.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中所述主传送机器人设置成将所述基板装载到所述边缘曝光室中，以及
3.根据权利要求2所述的基板处理设备，其中所述主传送机器人设置成不卸载所述边缘曝光室内的所述基板。
4.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中所述处理模块还包括：
5.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中所述边缘曝光室包括：
6.根据权利要求5所述的基板处理设备，其中，其中形成有所述入口的壁主体和其中形成有所述出口的壁主体彼此垂直设置。
7.根据权利要求5所述的基板处理设备，其中所述接口模块还包括接口缓冲器，所述接口缓冲器用于装载由所述接口机器人从所述边缘曝光室卸载的所述基板，以及
8.根据权利要求7所述的基板处理设备，其中所述边缘曝光室的所述出口和所述接口缓冲器的入口端口具有与所述基板进入和退出的方向相同的方向。
9.根据权利要求7所述的基板处理设备，其中所述接口缓冲器包括：
10.根据权利要求7所述的基板处理设备，其中所述接口机器人还包括：
11.根据权利要求10所述的基板处理设备方法，其中所述第二接口机器人设置在与形成所述边缘曝光壳体的所述出口的方向相反的位置中。
12.根据权利要求5所述的基板处理设备，其中所述接口模块还包括缺陷检查单元，所述缺陷检查单元安装在用于将所述基板从所述传送室装载到所述边缘曝光室的侧面的路径中，并检查装载到所述边缘曝光室中的所述基板的缺陷。
13.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中所述主传送机器人设置成能够沿所述传送室的纵向方向移动，
14.一种基板处理方法，包括：
15.根据权利要求14所述的基板处理方法，其还包括：
16.根据权利要求14所述的基板处理方法，其中在所述边缘曝光操作中，在将所述基板装载到所述边缘曝光室中之后，所述主传送机器人不从所述边缘曝光室中卸载所述基板。
17.根据权利要求16所述的基板处理方法，其中在所述边缘曝光后基板装载操作中，在所述接口机器人装载和卸载所述经边缘曝光的基板的同时，所述主传送机器人在所述液体处理室和所述热处理室之间传送所述基板。
18.根据权利要求16所述的基板处理方法，其中所述主传送机器人设置成能够沿着所述传送室的纵向方向在所述传送室内移动，以及
19.根据权利要求14所述的基板处理方法，其中所述边缘曝光操作包括：当所述基板装载到所述边缘曝光室中时，通过缺陷检查单元检查所述基板的缺陷。
20.一种基板处理设备，包括：涂覆模块，其在基板上执行涂覆工艺；以及显影模块，其在基板上执行显影工艺，
