本申请涉及cvd设备，具体地涉及一种用于碳化硅外延设备的吊装调整治具及调整方法。
背景技术：
1、半导体设备如mocvd、碳化硅外延等设备都需要采用高温加热，对于生长工艺而言，加热温度的精度和均匀性一直是最重要的参数之一，为了这些指标的达成，采用的测温和控制方法各种各样，为了保证测温的精度需要定期的对测温装置进行校正，目前的外延设备中通常设计有调整升降机构，该调整升降机构体积比较大不适用于碳化硅外延设备。
技术实现思路
1、为克服上述缺点，本申请的目的在于：提供一种用于碳化硅外延设备的吊装调整治具。该调整治具可吊挂在外延设备内这样可快速进行对设备进行调整测试。
2、为了达到以上目的，本申请采用如下技术方案：
3、一种用于碳化硅外延设备的吊装调整治具，其包括：平台部、安装部及连接件，
4、所述安装部呈环状，其周向上间隔的设置有复数连接部，所述连接部用于与设备上的锁紧杆连接，
5、所述连接件配置成长度可调，
6、所述平台部与安装部相对配置，并通过连接件连接。通过这样的设计吊装调整治具可吊装在外延设备内这样可快速进行对设备进行调整测试。
7、优选的，该平台部上配置有水平仪。
8、优选的，该连接件包括第一螺杆、第二螺杆及中间件，
9、所述中间件的两侧具有第一连接端及第二连接端，且所述第一连接端及第二连接端上分别设置有螺纹。
10、优选的，该第一连接端匹配连接第一螺杆的一端，所述第一螺杆的另一端连接至安装部，
11、所述第二连接端匹配连接第二螺杆的一端，所述第二螺杆的另一端连接至平台部。
12、优选的，该用于碳化硅外延设备的吊装调整治具，还包括固定部件，
13、所述第二螺杆的另一端通过固定部件固定于所述平台部上。
14、优选的，该第二螺杆的另一端上设置有螺纹，所述螺纹与第一螺母及第二螺母匹配，且所述第二螺母位于所述固定部件内。
15、优选的，该第二螺母的截面呈t型。
16、优选的，该固定部件内设置有的四方体状的收纳槽，所述收纳槽用于容纳所述第二螺母，且所述第二螺母至少部分呈四方体状。
17、优选的，该连接部包括底板及导向部件，
18、所述导向部件上设置有导向槽，
19、所述底板上设置有复数安装孔，通过所述安装孔并利用连接件将底板固定于安装部，
20、所述底板上设置有缺口，所述缺口与导向槽组合以构成容纳锁紧杆的收纳部该缺口内设置有凸台。
21、本申请实施例提供一种利用上述的用于碳化硅外延设备的吊装调整治具的调整方法，其包括如下步骤：
22、基于连接部并利用碳化硅外延设备上的锁紧部件将调整治具固定于碳化硅外延设备内，
23、旋转连接件的长度并利用水平仪调整平台部使其处于水平状态；
24、将温度校准装置放置于平台部上，以对测温装置进行温度校正。较佳的，在温度校正后还包括，取下温度校准装置，将调整治具从碳化硅外延设备内取出，基于驱动部件的驱动使得支撑部件沿立柱旋转至反应腔的上方侧(也称第二位置)。该维持过程单人即可完成，且维护过程简单，省时省力。该方法中，还包括，基于驱动部件的驱动使得支撑部件沿立柱旋转至第一位置。然后进行调整治具的安装。
25、有益效果
26、通过本申请实施方式提出的吊装调整治具，其在使用时可悬挂在外延设备内，减少温度校正时前期的准备时间，且整个过程单人即可实现，方便对相关设备进行调整测试。
1.一种用于碳化硅外延设备的吊装调整治具，其特征在于，包括：平台部、安装部及连接件，
2.如权利要求1所述的用于碳化硅外延设备的吊装调整治具，其特征在于，
3.如权利要求1所述的用于碳化硅外延设备的吊装调整治具，其特征在于，
4.如权利要求3所述的用于碳化硅外延设备的吊装调整治具，其特征在于，
5.如权利要求4所述的用于碳化硅外延设备的吊装调整治具，其特征在于，还包括固定部件，
6.如权利要求5所述的用于碳化硅外延设备的吊装调整治具，其特征在于，
7.如权利要求6所述的用于碳化硅外延设备的吊装调整治具，其特征在于，
8.如权利要求6所述的用于碳化硅外延设备的吊装调整治具，其特征在于，
9.如权利要求1所述的用于碳化硅外延设备的吊装调整治具，其特征在于，
10.一种用于碳化硅外延设备的吊装调整治具的调整方法，其特征在于，包括如下步骤：
