公开的实施方式涉及液供给系统、液处理装置和液供给方法。
背景技术：
1、以往，已知有使半导体晶片(以下，还称为晶片。)等基片用的处理液在循环管线中循环，并且经由从该循环管线分支的分支管线向处理部供给处理液的液处理装置。在该液处理装置的循环管线中，设置有从处理液除去异物的过滤器(参照专利文献1)。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2019-41039号公报
技术实现思路
1、发明要解决的技术问题
2、本发明提供能够抑制循环管线内的处理液被污染的技术。
3、用于解决技术问题的技术方案
4、本发明的一个方式的液供给系统包括罐体、循环管线、泵、过滤器、背压阀和控制部。罐体贮存处理液。循环管线将从上述罐体送出的上述处理液送回上述罐体。泵形成上述循环管线中的上述处理液的循环流。过滤器设置在上述循环管线的上述泵的下游侧。背压阀设置在上述循环管线的上述过滤器的下游侧。控制部控制各部。此外，上述控制部在使上述泵的工作停止时，在上述泵的出口压力下降开始至上述泵停止工作的期间，控制上述泵和上述背压阀，以使得上述过滤器的上游侧与下游侧的压差成为给定的阈值以下。
5、发明效果
6、根据本发明，能够抑制循环管线内的处理液被污染。另外，此处中记载的效果并非是限定的，也可以为本发明中记载的任意效果。
1.一种液供给系统，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的液供给系统，其特征在于：
3.如权利要求1或2所述的液供给系统，其特征在于：
4.如权利要求1或2所述的液供给系统，其特征在于，还包括：
5.如权利要求1或2所述的液供给系统，其特征在于：
6.如权利要求1或2所述的液供给系统，其特征在于，还包括：
7.如权利要求6所述的液供给系统，其特征在于，还包括：
8.如权利要求7所述的液供给系统，其特征在于：
9.如权利要求7所述的液供给系统，其特征在于：
10.如权利要求9所述的液供给系统，其特征在于：
11.如权利要求6所述的液供给系统，其特征在于：
12.如权利要求11所述的液供给系统，其特征在于：
13.如权利要求7所述的液供给系统，其特征在于，还包括：
14.如权利要求1或2所述的液供给系统，其特征在于，还包括：
15.一种液供给系统，其特征在于，包括：
16.一种液处理装置，其特征在于，包括：
17.一种液供给方法，其特征在于，包括：
18.如权利要求17所述的液供给方法，其特征在于：
19.如权利要求17或18所述的液供给方法，其特征在于：
