本技术涉及离子注入机，特别涉及一种检测离子源头是否泄漏的装置。
背景技术：
1、离子注入机用于生成离子束并将离子束注入晶圆中，离子注入机包括离子源头(source head，离子源头)和腔室；如图1所示，离子源头包括本体1、灯丝支柱2、灯丝和进气管3等多个部件，本体1包括一个台阶面4，离子源头组装完成后的形状类似水瓶塞形；离子源头组装完成后需要放入腔室内，台阶面4与腔室的端面相贴合，离子源头的一端位于腔室外，另一端插入腔室内。离子植入机在运行过程中，腔室内要用干泵(dry pump，干泵)把腔室抽成真空状态，然后利用离子源头产生离子。
2、然而，目前没有检测离子源头是否泄漏的装置，当离子源头组装完成之后直接放入腔室内。如果灯丝支柱2和进气管3等部件安装不牢固或密封效果不好，将导致离子源头泄漏，干泵很难或不能将腔室抽成真空状态，此时需要取下离子源头重新组装，延长了设备维护的时间，降低了设备正常运行的时间，增加了干泵的负荷，容易造成干泵损坏。
技术实现思路
1、本实用新型提供了一种检测离子源头是否泄漏的装置，以解决目前没有检测离子源头是否泄漏的装置的技术问题。
2、为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种检测离子源头是否泄漏的装置，包括真空测漏仪、第一连接管和检测腔体；所述检测腔体的上端面向内凹陷形成一腔室；所述第一连接管的一端与所述真空测漏仪连通，另一端与所述腔室连通。
3、可选的，所述装置还包括开关阀、第二连接管和真空计；所述开关阀安装在所述第一连接管上，并且位于所述真空测漏仪和所述检测腔体之间；所述第二连接管的一端与所述腔室连通，另一端与所述真空计连通。
4、可选的，所述装置还包括密封圈，所述密封圈设置在所述检测腔体的上端面上。
5、可选的，所述检测腔体的上端面设置有容纳所述密封圈的凹槽，所述凹槽沿所述检测腔体的轴向方向的深度小于所述密封圈沿所述检测腔体的轴向方向的高度。
6、可选的，所述密封圈为o形密封圈。
7、可选的，所述腔室的形状为圆柱形。
8、可选的，所述检测腔体的形状为圆筒形。
9、可选的，所述离子源头包括相互连接的第一圆柱体和第二圆柱体，所述第一圆柱体的外径大于所述检测腔体的上端面的外径，所述第二圆柱体的外径小于所述腔室的外径。
10、可选的，所述检测腔体由金属材料制成。
11、可选的，所述真空测漏仪为氦气测漏仪。
12、本实用新型提供的一种检测离子源头是否泄漏的装置，可以通过真空测漏仪和检测腔体对组成完成后的离子源头进行泄漏检测，当离子源头不泄漏时，再把离子源头安装到离子注入机中；当离子源头泄漏时，重新组装离子源头后再进行泄漏检测，直至离子源头不泄漏时，才将离子源头安装到离子注入机中。本装置意想不到的效果是可以在离子源头组装完成后安装到离子注入机之前，对离子源头进行泄漏检测，这样可以缩短设备维护的时间，延长设备正常运行的时间，降低干泵的负荷，延长干泵的使用寿命。
1.一种检测离子源头是否泄漏的装置，其特征在于，包括真空测漏仪、第一连接管和检测腔体；所述检测腔体的上端面向内凹陷形成一腔室；所述第一连接管的一端与所述真空测漏仪连通，另一端与所述腔室连通。
2.如权利要求1所述的一种检测离子源头是否泄漏的装置，其特征在于，所述装置还包括开关阀、第二连接管和真空计；所述开关阀安装在所述第一连接管上，并且位于所述真空测漏仪和所述检测腔体之间；所述第二连接管的一端与所述腔室连通，另一端与所述真空计连通。
3.如权利要求1所述的一种检测离子源头是否泄漏的装置，其特征在于，所述装置还包括密封圈，所述密封圈设置在所述检测腔体的上端面上。
4.如权利要求3所述的一种检测离子源头是否泄漏的装置，其特征在于，所述检测腔体的上端面设置有容纳所述密封圈的凹槽，所述凹槽沿所述检测腔体的轴向方向的深度小于所述密封圈沿所述检测腔体的轴向方向的高度。
5.如权利要求4所述的一种检测离子源头是否泄漏的装置，其特征在于，所述密封圈为o形密封圈。
6.如权利要求1所述的一种检测离子源头是否泄漏的装置，其特征在于，所述腔室的形状为圆柱形。
7.如权利要求1所述的一种检测离子源头是否泄漏的装置，其特征在于，所述检测腔体的形状为圆筒形。
8.如权利要求7所述的一种检测离子源头是否泄漏的装置，其特征在于，所述离子源头包括相互连接的第一圆柱体和第二圆柱体，所述第一圆柱体的外径大于所述检测腔体的上端面的外径，所述第二圆柱体的外径小于所述腔室的外径。
9.如权利要求1所述的一种检测离子源头是否泄漏的装置，其特征在于，所述检测腔体由金属材料制成。
10.如权利要求1所述的一种检测离子源头是否泄漏的装置，其特征在于，所述真空测漏仪为氦气测漏仪。
