本技术涉及磁体加工领域，具体讲是一种双面自动镭雕磁体的视觉检测剔除设备。
背景技术：
1、在一些磁体的加工过程中，除了对磁体进行充磁外，还需要对磁体进行镭雕加工等加工方式。常规情况下，若磁体需要镭雕加工，都是磁体的充磁和镭雕分别采用不同的设备进行加工完成后，并且需要先完成充磁、再进行镭雕的加工，因为先镭雕的加工会使磁体表面变形、充磁质量波动大，而先完成充磁的磁体最终又会先进行相互磁吸形成一个整体便于储存，从而造成在镭雕时又需要将磁体相互分离的过程，从而造成了无意义的步骤，不利用磁体的高效加工过程。
技术实现思路
1、本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种将磁体的充磁和镭雕加工进行相连加工，避免磁体出现多次相互吸咐和分离过程，从而提高加工效率的一种双面自动镭雕磁体的视觉检测剔除设备。
2、本实用新型解决上述问题所采用的技术方案为：一种双面自动镭雕磁体的视觉检测剔除设备，包括本体，所述本体包括用于磁体上料的上料机构、对磁体进行充磁的充磁机构、对磁体进行双面镭雕的镭雕机构、对镭雕质量进行检测的视觉检测机构和用于对磁体进行收料的收料机构，磁体依次通过上料机构、充磁机构、镭雕机构、视觉检测机构和收料机构，完成磁体的加工，所述上料机构与充磁机构之间采用真空吸吸爪利用真空原理的进行移动，所述充磁机构与镭雕机构之间、镭雕机构与视觉检测机构之间、视觉检测机构与收料机构之间均采用铁质吸爪利用磁吸原理进行移动。
3、与现有技术相比，本实用新型的优点在于：将镭雕机构直接设于充磁机构的下游，在磁体完成充磁后，磁体仍保护着独立放置的状态，未进行相互之间的吸附，而后直接对各个磁体在镭雕机构进行镭雕加工，从而避免了磁体在充磁后相互吸附，而在镭雕加工中，又要将磁体相互分离的步骤，简化了磁体的加工步骤，提高磁体的加工效率，而在磁体充磁前，磁体不具备磁性，需要利用真空吸吸爪对磁体进行抓取，而在磁体完成充磁后，磁体具备了磁性，就可以利用铁质吸爪对磁体进行抓取，从而减少了气泵的使用，降低了加工成本。
4、作为本实用新型的一种改进，所述上料机构包括振动盘和上料盘，所述磁体从振动盘向上料盘方向输送，所述振动盘用于筛料，所述上料盘上设有多个用于承接磁体的上料槽，所述上料盘的一端设有上料驱动电机，所述上料盘与上料驱动电机之间通过丝杆传动连接，所述上料盘的一侧设有与丝杆平行设置的滑轨，所述上料盘沿着滑轨移动，通过所述改进，上料机构先通过振动盘筛料，进行有序上料，而后在上料驱动电机和滑轨的协助下，在每一个上料槽中依次填入一个磁体，完成磁体的精准上料，保证后续磁体充磁、镭雕的高质量加工。
5、作为本实用新型的一种改进，所述上料盘上设有用于检测上料槽上是否有磁体的检测探头，通过所述改进，在检测到上料槽上有磁体后，再将上料盘进行移动，使下一个上料槽承接磁体，从而保证每一个上料槽中均放置有磁体，以保证加工效率和加工有效性。
6、作为本实用新型的一种改进，所述充磁机构包括充磁料盘和充磁座，所述充磁料盘用于承接上料盘输送下来的磁体，所述充磁料盘的一端设有用于驱动充磁料盘向充磁座方向移动的充磁移动气缸，所述充磁座包括充磁底座和充磁上座，所述充磁上座设于充磁底座的上方，所述充磁上座的上端设有用于驱动充磁上座沿着竖直方向移动的充磁气缸，当充磁料盘移动至充磁底座上时，所述充磁上座向充磁底座方向移动并对磁体进行充磁，通过所述改进，因为真空吸吸爪和铁质吸爪的运动，在磁体输送过程中，充磁底座与充磁上座之间无法直接通过相互靠近来完成对磁体的充磁，故而通过充磁料盘的横向移动，使磁体输送到充磁上座和充磁底座之间，从而避免了充磁座与真空吸吸爪、铁质吸爪之间的运动干涉，实现充磁座对磁体进行充磁的目的。
7、作为本实用新型的一种改进，所述镭雕机构包括镭雕料盘和镭雕机，所述镭雕机设于镭雕料盘的上方，所述镭雕料盘上设有多个用于放置磁体的镭雕槽，所述镭雕料盘的一端设用于驱动镭雕料盘横向移动的镭雕移动气缸，所述镭雕移动气缸用于使镭雕料盘在承接磁体的工位和在镭雕机的正下方的镭雕工位之间移动，通过所述改进，因为铁质吸爪的运动，在磁体输送过程中，镭雕机难以直接对磁体进行镭雕加工，故而通过锚雕盘的横向移动，使磁体输送到镭雕机的正下方，从而避免了镭雕机与铁质吸爪之间的运动干涉，实现镭雕机对磁体进行镭雕加工的目的。
8、作为本实用新型的一种改进，所述镭雕料盘设于一转动盘上，所述转动盘连接在一镭雕转动气缸上，在所述转动盘转动180°后，磁体与镭雕机的最小距离保持不变，所述镭雕槽内设有供转动盘转动后镭雕机仍能对磁体进行镭雕的镭雕孔，通过所述改进，因为镭雕料盘与磁体之间采用磁吸附的方式进行固定连接，在转动180°后仍能保持固定状态，而通过保证磁体与镭雕机的最小距离保持不变的设计，可以使镭雕的聚焦点始终保持在磁体的加工表面处，保证镭雕质量。
9、作为本实用新型的一种改进，所述镭雕槽包括用于承接磁体的放置段和用于进行镭雕加工的镭雕段，所述镭雕段的宽度小于放置段的宽度，所述放置段与镭雕段之间通过斜面连接，所述镭雕机构还包括定位爪，所述定位爪上设有定位驱动气缸，所述定位爪在定位驱动气缸的作用下，将磁体从放置段移动到镭雕段内，同时也将磁体从铁质吸爪上分离，通过所述改进，所述镭雕段的宽度小于放置段的宽度且放置段与镭雕段之间通过斜面连接的设计，可以使镭雕槽更好的承接从铁质吸爪上脱离下来的磁体，并且在磁体移动进镭雕段后，仍能保证磁体到位的准确性，从而保证镭雕位置的准确性，而定位爪的设计用于将磁体从放置段移动到镭雕段内，同时也将磁体从铁质吸爪上分离。
10、作为本实用新型的一种改进，所述视觉检测机构包括相机和光源，所述相机用于检测磁体上的镭雕质量，所述光源用于保证相机的检测质量，减少检测失误率，所述相机与光源均可移动连接在一调节轨道上，便对调节相机与磁体之间的对焦，通过所述改进，实现视觉检测机构的高准确性检测，而相机和光源可移动连接的设计，便于对不同厚度的产品进行对焦与视觉检测，以保证设备检测的泛用性。
11、作为本实用新型的一种改进，所述收料机构包括合格料盘和不合格料盘，在磁体通过视觉检测机构检测后，镭雕合格的磁体放入到合格料盘上，镭雕不合格的磁体放到不合格料盘上，所述收料机构还包括收料轨道，所述合格料盘与不合格料盘均沿着收料轨道移动，所述收料轨道的一端设有使合格料盘与不合格料盘移动的收料驱动电机，通过所述改进，将合格的磁体与不合格的磁体进行分料放置，便于后续的合格磁体收集以及不合格磁体的检验、二次加工。
12、作为本实用新型的一种改进，所述铁质吸爪共设有两个，一个是设于充磁机构与镭雕机构之间的充磁铁质吸爪，另一个是同时在镭雕机构、视觉检测机构和收料机构之间移动的收料铁质吸爪，所述充磁铁质吸爪与真空吸吸爪同步移动连接，所述收料铁质吸爪通过吸爪驱动电机移动在镭雕机构、视觉检测机构和收料机构之间，所述收料铁质吸爪包括多个吸爪气缸、多个吸爪铁芯和一个铝质的吸爪座，多个所述吸爪铁芯分别通过多个吸爪气缸在吸爪座上沿着竖直方向移动，所述磁体磁吸附在吸爪座的底端，当吸爪铁芯向吸爪座的底端移动时，完成对磁体的磁吸附，当吸爪铁芯远离吸爪座的底端时，磁体从吸爪座上分离，通过所述改进，因为充磁铁质吸爪与真空吸吸爪均经过充磁机构，通过充磁铁质吸爪与真空吸吸爪的同步移动连接，可以避免两者的移动干涉，而收料铁质吸爪同时经过镭雕机构、视觉检测机构和收料机构的设计，可以保证磁体在三个机构之间移动的稳定性，并且可以避免多个铁质吸爪可能引起的运动干涉，而收料铁质吸爪的结构，可以保证收料铁质吸爪对磁体的吸料与放料。
1.一种双面自动镭雕磁体的视觉检测剔除设备，包括本体，其特征在于：所述本体包括用于磁体上料的上料机构(1)、对磁体进行充磁的充磁机构(2)、对磁体进行双面镭雕的镭雕机构(3)、对镭雕质量进行检测的视觉检测机构(4)和用于对磁体进行收料的收料机构(5)，磁体依次通过上料机构(1)、充磁机构(2)、镭雕机构(3)、视觉检测机构(4)和收料机构(5)，完成磁体的加工，所述上料机构(1)与充磁机构(2)之间采用真空吸吸爪(6)利用真空原理的进行移动，所述充磁机构(2)与镭雕机构(3)之间、镭雕机构(3)与视觉检测机构(4)之间、视觉检测机构(4)与收料机构(5)之间均采用铁质吸爪(7)利用磁吸原理进行移动。
2.根据权利要求1所述一种双面自动镭雕磁体的视觉检测剔除设备，其特征在于：所述上料机构(1)包括振动盘(1.1)和上料盘(1.2)，所述磁体从振动盘(1.1)向上料盘(1.2)方向输送，所述振动盘(1.1)用于筛料，所述上料盘(1.2)上设有多个用于承接磁体的上料槽(1.2.1)，所述上料盘(1.2)的一端设有上料驱动电机(1.3)，所述上料盘(1.2)与上料驱动电机(1.3)之间通过丝杆(1.4)传动连接，所述上料盘(1.2)的一侧设有与丝杆(1.4)平行设置的滑轨(1.5)，所述上料盘(1.2)沿着滑轨(1.5)移动。
3.根据权利要求2所述一种双面自动镭雕磁体的视觉检测剔除设备，其特征在于：所述上料盘(1.2)上设有用于检测上料槽(1.2.1)上是否有磁体的检测探头(1.6)。
4.根据权利要求1所述一种双面自动镭雕磁体的视觉检测剔除设备，其特征在于：所述充磁机构(2)包括充磁料盘(2.1)和充磁座(2.2)，所述充磁料盘(2.1)用于承接上料盘(1.2)输送下来的磁体，所述充磁料盘(2.1)的一端设有用于驱动充磁料盘(2.1)向充磁座(2.2)方向移动的充磁移动气缸(2.3)，所述充磁座(2.2)包括充磁底座(2.2.1)和充磁上座(2.2.2)，所述充磁上座(2.2.2)设于充磁底座(2.2.1)的上方，所述充磁上座(2.2.2)的上端设有用于驱动充磁上座(2.2.2)沿着竖直方向移动的充磁气缸(2.2.3)，当充磁料盘(2.1)移动至充磁底座(2.2.1)上时，所述充磁上座(2.2.2)向充磁底座(2.2.1)方向移动并对磁体进行充磁。
5.根据权利要求1所述一种双面自动镭雕磁体的视觉检测剔除设备，其特征在于：所述镭雕机构(3)包括镭雕料盘(3.1)和镭雕机(3.2)，所述镭雕机(3.2)设于镭雕料盘(3.1)的上方，所述镭雕料盘(3.1)上设有多个用于放置磁体的镭雕槽(3.1.1)，所述镭雕料盘(3.1)的一端设用于驱动镭雕料盘(3.1)横向移动的镭雕移动气缸(3.1.2)，所述镭雕移动气缸(3.1.2)用于使镭雕料盘(3.1)在承接磁体的工位和在镭雕机(3.2)的正下方的镭雕工位之间移动。
6.根据权利要求5所述一种双面自动镭雕磁体的视觉检测剔除设备，其特征在于：所述镭雕料盘(3.1)设于一转动盘(3.3)上，所述转动盘(3.3)连接在一镭雕转动气缸(3.3.1)上，在所述转动盘(3.3)转动180°后，磁体与镭雕机(3.2)的最小距离保持不变，所述镭雕槽(3.1.1)内设有供转动盘(3.3)转动后镭雕机(3.2)仍能对磁体进行镭雕的镭雕孔(3.1.3)。
7.根据权利要求5所述一种双面自动镭雕磁体的视觉检测剔除设备，其特征在于：所述镭雕槽(3.1.1)包括用于承接磁体的放置段(3.1.4)和用于进行镭雕加工的镭雕段(3.1.5)，所述镭雕段(3.1.5)的宽度小于放置段(3.1.4)的宽度，所述放置段(3.1.4)与镭雕段(3.1.5)之间通过斜面连接，所述镭雕机构(3)还包括定位爪(3.4)，所述定位爪(3.4)上设有定位驱动气缸(3.4.1)，所述定位爪(3.4)在定位驱动气缸(3.4.1)的作用下，将磁体从放置段(3.1.4)移动到镭雕段(3.1.5)内，同时也将磁体从铁质吸爪(7)上分离。
8.根据权利要求1所述一种双面自动镭雕磁体的视觉检测剔除设备，其特征在于：所述视觉检测机构(4)包括相机(4.1)和光源(4.2)，所述相机(4.1)用于检测磁体上的镭雕质量，所述光源(4.2)用于保证相机(4.1)的检测质量，减少检测失误率，所述相机(4.1)与光源(4.2)均可移动连接在一调节轨道(4.3)上，便对调节相机(4.1)与磁体之间的对焦。
9.根据权利要求1所述一种双面自动镭雕磁体的视觉检测剔除设备，其特征在于：所述收料机构(5)包括合格料盘(5.1)和不合格料盘(5.2)，在磁体通过视觉检测机构(4)检测后，镭雕合格的磁体放入到合格料盘(5.1)上，镭雕不合格的磁体放到不合格料盘(5.2)上，所述收料机构(5)还包括收料轨道(5.3)，所述合格料盘(5.1)与不合格料盘(5.2)均沿着收料轨道(5.3)移动，所述收料轨道(5.3)的一端设有使合格料盘(5.1)与不合格料盘(5.2)移动的收料驱动电机(5.4)。
10.根据权利要求9所述一种双面自动镭雕磁体的视觉检测剔除设备，其特征在于：所述铁质吸爪(7)共设有两个，一个是设于充磁机构(2)与镭雕机构(3)之间的充磁铁质吸爪(7.1)，另一个是同时在镭雕机构(3)、视觉检测机构(4)和收料机构(5)之间移动的收料铁质吸爪(7.2)，所述充磁铁质吸爪(7.1)与真空吸吸爪(6)同步移动连接，所述收料铁质吸爪(7.2)通过吸爪驱动电机移动在镭雕机构(3)、视觉检测机构(4)和收料机构(5)之间，所述收料铁质吸爪(7.2)包括多个吸爪气缸(7.2.1)、多个吸爪铁芯(7.2.2)和一个铝质的吸爪座(7.2.3)，多个所述吸爪铁芯(7.2.2)分别通过多个吸爪气缸(7.2.1)在吸爪座(7.2.3)上沿着竖直方向移动，所述磁体磁吸附在吸爪座(7.2.3)的底端，当吸爪铁芯(7.2.2)向吸爪座(7.2.3)的底端移动时，完成对磁体的磁吸附，当吸爪铁芯(7.2.2)远离吸爪座(7.2.3)的底端时，磁体从吸爪座(7.2.3)上分离。
